Поверхности Толщина окисной пленки

В герметичные сосуды помещали медную фольгу толщиной 50 мкм с сильно окисленной поверхностью (толщина окисной пленки [c.39]

Атомы, образующие решетку окисла, сильно связаны со своими положениями равновесий и не могут покидать их (это не совпадает с общепринятым эстафетным механизмом диффузионных процессов). Соотношение концентраций Me и М/ в решетке вновь образующихся на поверхности слоев окисла зависит от соотношения диффузионных потоков атомов Me и Mt. Состав окисла непостоянен по толщине окисной пленки, но в каждом слое постоянен во времени. [c.89]

Процесс, в результате которого поверхность металла переводится в пассивное состояние, называют пассивированием. Пассивация наступает обычно при столь ничтожных толщинах окисных пленок, при которых они еще ме образуют на поверхности металла самостоятельной фазы. Для защиты от коррозии они применяются с последующим нанесением защитных полимерных покрытий. [c.90]

Такими параметрами, например, можно считать величину электродного потенциала, значение pH среды, высоту микронеровностей поверхности разрушения, толщину окисной пленки. Более полное количество необходимых параметров уравнения (2) может быть установлено только в результате обширных и систематических исследований различных систем материал — среда. [c.288]

Во второй стадии происходит разрушение этих частиц на лепестки до толщины 1 мк и менее, размером 10—30 мк. При разрушении частиц на вновь образовавшихся поверхностях появляется окисная пленка (табл. 63) толщиной 0,01—0,1 мл. [c.103]

Очистка образцов прокаливанием на воздухе возможна для металлов и сплавов, на поверхностях которых окисные пленки при прокаливании не образуются (серебро, золото и другие благородные металлы) или не происходит заметное увеличение их толщины. В случае алюминия и ряда его сплавов хрупкие окисные пленки, имеющиеся на поверхностях, легко разрушаются в процессе испытания значительными пластическими [c.70]

Затем с помощью металлографического микроскопа измеряют толщину окисной пленки на внутренней поверхности трубы в четырех точках. По ее средней арифметической величине рассчитывают глубину окисления металла на внутренней поверхности, используя формулу [c.101]

Эти эффекты оказывают менее существенное влияние на ядер-ную безопасность и поведение реактора, чем можно было бы предположить. Формирование толстой окисной пленки между двумя поверхностями в некоторой степени ограничено граничным давлением, которое препятствует доступу СО2. В частности, это. случай, когда зазор между двумя поверхностями имеет толщину того же порядка, что и окисное защитное покрытие. Болтовые соединения реактора обычно довольно многочисленны, и разрушение отдельных болтов не создает опасности для работы. При прогрессирующем увеличении числа разрушений необходимо снизить максимальную температуру СО2 до 360° С, при которой скорость окисления незначительна. Толщина окисной пленки, образовавшейся в результате работы при высокой температуре, колеблется от 800 мкм для кипящей стали, 200 мкм для сталей, содержащих 0,65% Si, и до 100 мкм для сталей с 0,2% Si. После уменьшения рабочей температуры реактора толщина пленки увеличивается незначительно. [c.143]

Таблица 4-14 Толщина окисных пленок при характерных интерференционных цветах металлических поверхностей [Л. 117]

Неоднократно выявленный куполообразный характер зависимости / = — Ф (f) для сталей объясняется тем, что образующиеся па поверхности металла окислы сначала повышают / (толщина окисной пленки растет), а затем, с повышением температуры, они начинают играть роль смазки и способствуют его снижению. [c.98]

Цветное анодирование титановых сплавов заключается в создании на поверхности тонкой окисной пленки, имеющей интерференционную окраску. Цвет пленки зависит от ее толщины и при постоянной плотности тока определяется напряжением, приложенным к клеммам электролитической ячейки. Так были получены анодные пленки в растворах щавелевой и фосфорной кислот. [c.385]

Первой из них является окисление поверхности, которое сказывается на результатах метода отражения. Как будет показано далее, глубина проникновения мягкого рентгеновского излучения очень мала и составляет для различных материалов единицы или десятки нанометров. Поэтому метод измерения отражения оказывается очень чувствительным к состоянию поверхностного слоя. Например, для А1 толщина окисной пленки на поверхности может достигать 10 нм, что и приводит к завышению значения коэффициента отражения. [c.25]

Плавление наступает, когда пересыщение твердого раствора происходит в определенном объеме контактирующих металлов, большем некоторой критической величины. Влияние окружающей среды на контактное плавление сказывается на изменении состава, строения и толщины окисных пленок на поверхности металлов. При нагреве в восстановительных атмосферах пленка окислов тонкая и может быть полностью удалена, поэтому условия взаимодействия металлов более благоприятные. В нейтральных атмосферах пленка толще, при температуре контактного плавления она может являться разграничивающим слоем или плавиться и переходить в жидкое состояние, оказывая то или иное влияние на процесс контактного плавления. Удаление окисной пленки флюсом при контактном плавлении может быть более полным, но при этом не исключено взаимодействие флюса с металлами. [c.141]

При окислении металла кислородом воздуха на его поверхности образуется окисная пленка-окалина. В процессе газовой коррозии ее толщина увеличивается или за счет новых образований с внешней стороны пленки или за счет, возникновения подслоя на внутренней стороне окалины, т. е. непосредственно на поверхности металла. Типичным примером формирования окисной пленки является процесс окисления стали. На рис. 1.7 изображены стадии образования окислов железа различного типа при его нагревании на воз (Ухе. [c.25]

Отпуск стали по цветам побежалости. Температуру отпуска часто определяют по цветам побежалости. Этот метод основан на наблюдении, показывающем, что светлая, зачищенная поверхность стали при нагреве окисляется, покрываясь тончайшей окисной пленкой. С повышением температуры отпуска толщина окисной пленки увеличивается и цвет поверхности изменяется. Каждому цвету побежалости свойственна определенная температура (табл. 6). Цвета побежалости зависят не только от температуры нагрева, но и от продолжительности нагрева, т. е. времени выдержки. [c.39]

ООО гц. В качестве эталонной емкости использовался магазин емкостей МЕЗ. Напряжение измерялось вольтметром B3-1S с ценой деления 0,01 в. Испытуемый образец (поз. 1 на рис. 2) включался в цепь с помощью двух контактов. Положение одного из контактов 2 не менялось. Второй контакт, осуществляемый через ртутную каплю 3, мог перемещаться по поверхности образца при помощи специального приспособления 4. Это давало возможность измерять толщину окисной пленки в любой точке испытуемого образца. Чтобы предотвратить влияние влаги воздуха на емкость [12, 13], все измерения производились в сухой камере. Образцы металла предварительно тщательно высушивались над пятиокисью фосфора. Ртуть очищалась и высушивалась [14]. Перед каждым измерением поверхность ртути обновлялась. Все измерения производились на [c.90]

Концентрация щелочи. Повышение концентрации щелочи увеличивает толщину окисной пленки, но при применении сильно концентрированных растворов на поверхности оксидируемых изделий появляются рыхлые налеты гидрата окиси железа. Кроме того, уменьшается скорость реакции [c.66]

С увеличением плотности анодного тока и смещением потенциала в положительную сторону возрастает степень заполнения поверхности электрода окислом и толщина окисной пленки. При достижении критической анодной плотности тока поверхность электрода оказывается преимущественно закрытой окислом. Потенциал электрода при этом самопроизвольно смещается в область высоких положительных значений (1—7 в) и наступает анодная пассивность. [c.157]

Введение в выражение (1.17) вместо толщины окисной пленки ее приращения связано со следующим во первых, при Г = Го скорость ползучести, определяемая выражением (1.17), должна быть равна. Uno. что возможно только при толщине пленки, равной нулю, а при испытаниях на воздухе h Ф О, ВТО время как приращение ДЛ (Л при T=Tq может быть равным нулю во-вторых, при интенсивном окислении происходит увеличение толщины окисной пленки, в результате чего увеличивается напряжение сдвига (вследствие разницы в модулях упругости материалов пленки и подложки) на границе раздела "пленка — подложка". Это обусловливает снижение адгезии пленки с подложкой и разрушение пленки она растрескивается и отслаивается. В связи с тем, что процессы разрушения и восстановления окисной пленки происходят не одновременно по всей поверхности образца (в противном случае первичная кривая ползучести в температурном интервале проявления упрочняющего влияния окисления была бы ступенчатой), окисная пленка на различных ее участках должна иметь различную толщину, и выражение (1.17) отражает интегральное влияние отдельных участков образца с различной толщиной окисной пленки. [c.15]

В воздушной среде на поверхности металла наблюдается интенсивный рост окисной пленки, скорость которого зависит от температуры испытаний, повышаясь с увеличением последней. Воздействие пленки зависит от ее сцепления с металлом, что в свою очередь определяется ее пластическими свойствами и толщиной. С увеличением толщины прочность ее сцепления падает вследствие напряжений роста и термических напряжений. Однако ввиду повышения ее пластичности с увеличением температуры толщина окисной пленки, имеющей хорошую адгезию с металлом, должна расти. Так как образование пленки чередуется с ее отслаиванием попеременно на отдельных участках, то можно допустить, что в любое время на всей поверхности образца имеется пленка определенной средней толщи-18 [c.18]

Толщина окисной пленки на поверхности стали начинает интенсивно расти только с определенной температуры, например для углеродистой стали прибли- [c.75]

Свойства окисных слоев, образующихся на поверхности металла в режиме пассивного растворения, определяются природой металла и условиями протекания процесса. Толщина пассивной пленки на железном электроде может колебаться от 20 до 100 A, возрастая с увеличением положительного потенциала и повышением pH раствора. Соответствующая толщина окисной пленки на титане может доходить до 5000 A [184]. [c.27]

На начальной стадии окисления, при непосредственном доступе кислорода к поверхности дисилицида происходит реакция образования окислов компонентов (ЗЮа и УОз), которые образуют эвтектическое стекло, затрудняющее доступ кислорода к поверхности. Это приводит в дальнейшем к основной реакции преимущественного окисления кремния и образованию под окисной пленкой низшего силицида W6Siз. Скорость этой реакции при малых толщинах окисной пленки, по-видимому, зависит от скорости диффузии атомов кремния в решетках дисилицида и низшего силицида. Испарение окисла вольфрама приводит к изменению состава окисной пленки и к кристаллизации избытка ЗЮ2. [c.310]

Изнашивание при фреттинг-коррозии — это коррозионно-механическое изнашивание соприкасающихся тел при малых относительных перемещениях [155]. Результатом фреттинг-коррозии является интенсивное хрупкое разрушение поверхностей трения. Для данного вида изнашивания характерно два одновременных процесса — схватывание и окисление, причем их интенсивность значительно выше, чем в условиях обычного трения скольжения. Схватывание — местное соединение контактирующих поверхностей наблюдается даже при невысоких нагрузках. Разрушение поверхности при фреттинг-коррозии проявляется в виде натиров, налипаний, раковин или вы-рывов, заполненных продуктами"изнашивания. Первым диагностическим признаком фреттинг-коррозии служит появление на поверхности трения окрашенных пятен, в которых находятся деформированные окислы. Рост амплитуды колебаний трущихся тел приводит к разрушению поверхности вследствие отслоения частиц материала и увеличения толщины окисных пленок, причем продукты изнашивания обычно не удаляются из зоны контакта. Наряду с процессами микросхватывания и окисления изнашивание интенсифицируется наложением усталостных процессов и абразивным разрушением [74 175—177]. Определяющая роль какого-либо процесса зависит от конкретных условий изнашивания. [c.105]

Полированный образец (см. рис. 7.8) устанавливается в вакуумную камеру и нагревается в вакууме пропусканием электрического тока до заданной температуры, контролируемой приваренной к образцу термопарой. В необходимый момент времени в камеру напускается строго дозированная порция воздуха. Под воздействием кислорода на поверхности образца образуется окисная пленка. Ее толш ина зависит от величины поверхностной энергии, которая, в, свою очередь, зависит от кристаллографической ориентации поверхности и плотности дефектов. В результате толщина окисной пленки скачкообразно изменяется при переходе от одного зерна к другому. Регулированием объема вводимого воздуха можно добиться, чтобы толщина пленки не превосходила величины, необходимой для интер--ференции света в видимом диапазоне. Тогда при скачкообразной смене поверхностной ориентации изменяется цвет на участках. [c.182]

В работе [59] было также исследовано влияние связи по поверхностям раздела композитной системы стекло — никелевые шарики. Показано влияние как неокисленных (нет связи), так и окисленных (хорошая связь) никелевых шариков на прочность трех различных стеклянных матриц с коэффициентами термического расширения, большими, меньшими и равными коэффициенту термического расширения металлических шариков. Во всех случаях прочность композитов с хорошо связанными предварительно окисленными шариками была выше прочности композита с плохо связанными (неокисленными шариками и стеклянной матрицы без второй дисперсной фазы. В этой работе также отмечено, что оптимальная прочность связи зависит от толщины окисной пленки. [c.52]

Для большинства металлов, в том числе и тугоплавких, как было указано выше, при воздействии активных коррозионных сред на поверхности образуется окисная пленка, которая защищает металл от коррозии. Этому случаю соответствует кривая 1 на рис. 50. Скорость коррозии в каждый момент испытания равна тангенсу угла наклона прямой, касательной к кинетической кривой в данной точке, к оси времени. Со временем скорость коррозии уменьшается, так как при этом увеличивается толщина окисной пленки, и, следовательно, она лучше защищает металл от коррозионного воздействия среды. При определении коррозионной стойкости необходима достаточная длительность испытаний, так как при кратковременных испытаниях не успевает образоваться защитная пленка необходимой толщины и средняя скорость коррозии будет больше, чем в условиях зксплуатащ1и металла, которая лишь в очень редких случаях ограничивается малым временем. [c.60]

Окисная пленка на поверхности корродирующего металла образуется за счет диффузии ионов железа через магнетит. На границе раздела окисла и воды ион железа реагирует с гидроксилом или молекулой воды и образует гидрат закиси железа, в итоте образуется магнетит. В воде при температуре 300°С за счет взаимодействия с железом гидрат окиси железа также переходит в магнетит. С течением времени толщина окисной пленки увеличивается, а диффузия попов железа через нее затрудняется. Это обстоятельство ведет к уменьшению скорости коррозии -во времени. [c.33]

При испытаниях в нейтральной среде скорость коррозии низколегированных сталей в начальный период времени уменьшается во времени, однако через 80—100 суток она становится неизменной. Д. Л. Дуглас и Ф. К. Цицес [111, 12] считают, что к этому моменту пленка достигает предельной толщины, становится пористой, и скорость диффузии ионов железа через нее поддерживается на постоянном уровне. Поскольку, по данным тех же авторов, наличие на поверхности металла окисной пленки, образовавшейся в процессе отжига при температуре 800° С, не изменило скорости коррозии железа, измеренной по количеству выделившегося водорода, очевидно, диффузия через окисную пленку не является стадией, полностью определяющей эффективность коррозионного процесса в этом случае. Скорость катодного процесса на образцах с окисной пленкой, полученной при оксидировании и образовавшейся при окислении на воздухе, и на образцах без искусственной пленки, почти что одинакова, а это также свидетельствует о том, что диффузия через окисную пленку не влияет на скорость коррозии. При температуре ниже 200° С эффективность коррозионного процесса железа определяется скоростью реакции, протекающей на поверхности раздела металл — вода. Однако, по мнению этих авторов, скорость диффузии ионов железа через окисную пленку и в этом случае оказывает некоторое (но не определяющее) влияние на скорость коррозионного процесса. [c.101]

Э. С. Саркисов [111,233], исследуя бтруктуру окисной пленки, образовавшейся при окислении циркония в сухом кислороде и паре, нашел, что в процессе 8-часового окисления металла при температуре 156° С толщина окисной пленки достигает нескольких атомарных слоев. При температуре 170—300° С образуется тонкий окисный слой, состоящий из кубической или тетрагональной двуокиси циркония, ориентированной определенным образом по отношению к поверхности металла. Под этим окислом находится моноклинная [c.215]

К настоящему времени имеется много данных, свиде-тельствз ющих о хороших электроизоляционных свойствах ОКИСНЫХ пленок на металлических поверхностях контактов [Л. 13]. Если руководствоваться основными положениями электротепловой аналогии, то следует ожидать роста термического сопротивления в зоне контакта металлических поверхностей в процессе их окисления. Однако при рассмотрении контактного теплообмена сопротивлением ОКИСНЫХ пленок обычно преднамеренно пренебрегают или не уделяют должного внимания. В ряде работ [Л. 114, 115] установлено, что при наличии относительно толстых ОКИСНЫХ пленок термическое сопротивление контакта значительно выше, чем для соединений с неокис-ленными поверхностями. Отмечается зависимость роста термического сопротивления с повышением толщины окисной пленки [Л. 116], которая имеет наиболее выраженный характер для соединений с малотеплопроводной межконтактной средой и при наличии макроскопических областей контакта. Такое влияние окисных пленок на термическое сопротивление в известной мере присуще и соединениям металлических поверхностей на клеях. [c.187]

При медленном окислении образовавшаяся пленка моделирует первоначальный топографический рельеф металлической подложки. В результате интенсивного нагрева наблюдается появление локальных окисных образований IB форме пирамид, лежащих выще общего уровня неровностей. На поверхностях металлов с преимущественной ориентацией кристаллов окисная пленка обычно имеет равномерную толщину, в то время как поверхности, не обладающие преимущественной ориентацией, покрываются пленкой с неравномерной толщиной. Окисные пленки на металлах главных подгрупп I и II групп периодической системы, за исключением бериллия, обладают меньшим атомным объемом по сравнению с чистыми металлами [Л. 118]. Поскольку продукты окисления таких металлов не в состоянии заполнить объем, ранее занимаемый металлом, образующийся окисный слой имеет пористую структуру. Прочность сцепления окисных пленок с подложкой зависит от их толщины и соотношения твердостей металла и его окисла. Экспериментально установлено, что увеличение толщины окисной пленки, как правило, ведет к снижению прочности сцепления системы окисел — металлическая подложка. Пленка, обладающая высокой твердостью при относительно мягкой подложке (алюминий), разрушается при незначительном мехническом воздействии. В то же время пленки с твердостью, близкой к твердости металлической подложки (медь, сталь), имеют значительно более высокую прочность сцепления. [c.189]

При изучении процесса теплопереноса через зону раздела с окисной пленкой можно исследовать элементарный канал с прослойкой, имитирующей окисную пленку с тем, чтобы полученные данные обобщить и реализовать для задачи с реально контактирующими окисленными металлическими поверхностями. Подобный подход к решению задачи используется при расчете термического сопротивления контакта неокисленных поверхностей. В данном случае влияние теплопроводности и толщины окисной пленки для заданной геометрии и данного основного металла исследовались в первую очередь на тепловой модели, после чего надежность полученных решений апробировалась путем сравнения с опытными данными, полученными на модели с одной и множеством контактных точек. [c.193]

Для обеспечения спаивания металла со стеклом в большинстве случаев необходимо окисление поверхности металла. Оптимальную толщину окисной пленки иа металле определяют по цвету спая, а он зависит от химического состава окисной пленки. Так, молибденовые спаи характеризуются свегло-коричиевым цветом, спаи высокохромистой стали — зеленым, спаи ковара — серым и т. д. [c.220]

Особенность электронографического метода состоит в том, что электронный пучок рассеивается веществом приблизительно в I f раз сильнее, чем рентгеновские лучи, и проникновение электронов в вещество невелико в сравнении с рентгеновскими лучами. Максимальная толщина окисных пленок, поддающихся злектронографированию, при съемке на просвет, составляет около 100 нм. При съемке методом отражения (применяя касательный к поверхности пучок электронов) можно анализировать окисные пленки толщиной порядка 1 нм и даже обнаруживать наличие мономолекулярного окисного слоя, т.е. фиксировать переход от хемисорбции к окислению. Электронография позволяет изучать процесс зародышеобразования, а при электронномикроскопическом исследовании фольговых образцов — кристаллическую структуру неметаллических включений (микродифракция). Таким образом, чувствительность метода весьма высока, и основное достоинство его заключается в возможности исследования малых объемов вещества. [c.22]

Обработка в щелочной ванпе. Навеска со втулками помещается на анод щелочной ваиыы, электролит которой к этому времени доведен до рабочих параметров. Активная площадь поверхности навески примерно равна 10 дм . После запуска генератора устанавливают напряжение машины на 12 в и включают ток на щелочную ванну. Время обработки длится около 3 минут и зависит от толщины окисной пленки на втулках, от концентрации каустика в электролите и температуры ванны. Готовность поверхности проверяют визуально — готовая поверхность принимает ровный желтый цвет. Подготовленную таким образом навеску промывают в холодной воде промывочной ванны вручную (навеска легкая и все перемещения и операции делают вручную), а затем помещают в ванну подогрева. Пока детали прогреваются, эператор устанавливает напряжение машины на [c.83]

Вопрос о том, какое количество кислорода должно быть иа поверхности металла для того, чтобы он перешел в пассивное состояние, до сих пор остается дискуссионным. Проблема пассивного состояния рассматривалась нами до сих пор, исходя из пленочной теории пассивности, связывающей переход металлов из активного состояния в пассивное с возникновением на поверхности металла окисных пленок, образующих отдельную фазу (толщина пленки на пассивных металлах достигает часто 50—100 А). Между тем имеется ряд наблюдений, указывающих на то, что можно сильно снизить скорость растворения металлов при адсорбции на поверхности металла такого количества кислорода или другого агента, которого явно недостаточно даже для образования одного атомного слоя. Впервые это было продемонстрировано Эршлером [22] при исследовании анодного растворения платины он показал, что скорость процесса убывает с увеличением количества кислорода на поверхности платины по экспоненциальному закону при заполнении 6% поверхности кислородом скорость растворения уменьшилась в 4 раза. В дальнейшем Кабанов и Лейкис [23] показали, что железо при анодной поляризации может быть переведено в пассивное состояние в 0,5 М NaOH, если через него пропустить 1- 1,5 мКл/см электричества. Этого количества электричества явно недостаточно для того, чтобы возник одноатомный слой кислорода или одно молекулярный слой -РегОз, который, как было выше указано, ответствен за пассивное состояние. [c.23]

Окислы, как правило, имеют малую область гомогенности этим можно объяснить, что при решении диффузионных задач определение распределения концентрации по толщине окисной пленки не представляло интереса. Тем не менее в [2] диффузионная кинетика po Tia оксида исследовалась для линейного закона распределения концентрации по толщине слоя. В [20, 49] решение диффузионной задачи, ошсьюа-ющей рост оксида, бьшо выполнено для граничных условий, близких к условиям роста диффузионных покрытий при этом использовались ряды. Несмотря на преимущества применения рядов для решения подобных задач, возникают и осложнения, связанные с необходимостью исследования сходимости рядов. В связи с этим иногда могут быть поставлены под сомнения и полученные рещения, если не найден путь доказательства сходимости. При решении задачи о росте диффузионного покрытия в предположении, что его толщина со временем изменяется по параболическому закону, могут использоваться представления, развитые в [46]. Рассмотрим однофазное покрытие. Предположим, что оно возникает в результате подачи вещества В на подложку из материала А при температуре Г, необходимо найти концентрацию Сд вещества А на поверхности покрытия, а также распределение концентрации вещества А по толщине покрытия. Если специально не оговаривается, то предполагается, что коэффициент диффузии вещества В в А пренебрежимо мал по сравнению с коэффициентом диффузии вещества А в В. [c.120]

Анодный процесс (фиг. 8). Уже при плотности анодного тока менее 0,01 ма см в чистых растворах кислот начинается процесс анодирования титана, сопровождающийся быстрым облагораживанием потенциала и образованием видимых окисных пленок на поверхности анода. Образующаяся окисная пленка обладает, по-видимому, больщим омическим сопротивлением, и рост ее сопровождается сильным падением силы тока в цепи. Толщина окисной пленки находится в непосредственной зависимости от времени анодной поляризации. [c.142]

Наблюдаемь е закономерности в изменении скорости ползучести в рассматриваемом диапазоне температур связаны по мнению авторов [30] с тем, что изменение температуры испытаний впечет за собой формирование на поверхности металла окисной пленки различной толщины, отличающейся по своим пластическим свойствам и прочностью сцепления с металлом подложки. [c.18]

Меньшая толщина с1еЬг15-споя при наличии на поверхности металле окисной пленки, в отличие от других инородных пленок (например, пленок хрома и алюминия), объясняется тем, что окисная пленка представляет эпитаксильный слой с ориентировками кристаллических плоскостей, параллельными таковым в подложке, с небольшим отклонением в периодах решетки. В результате этого хотя такая пленка и требует для выхода дислокаций на ее поверхность большего их жюла в скоплениях перед пленкой, чем при отсутствии последней, все же выход дислокаций на поверхность пленки осуществляется легче, чем в случае инородных пленок, состоящих не из окислов металлов подложки и имеющих существенное различие в строении по отношению к подложке. [c.76]

Результаты испытаний на ползучесть образцов из аустенитной и перлитной сталей с металлокерамическим покрытием и без него показали возможность повышения сопротивления ползучести в области малых отношений Я/1 = 2-5. Поэтому при использовании металлокерамичёского покрытия для труб с толщиной стенки 5 мм, что при наличии на внутренней поверхности трубы окисной пленки создает с1еЬг 5-слой толщиной 400 мкм и соответствует I = 4,45 (например, для труб экранов ф 32 к 5 мм в зоне [c.76]

Адгезионная прочность железа и алюминия к стеклянной поверхности определяется наличием окисла на адгезиве. Для сопоставления изучали адгезионную прочность железа и алюминия, на поверхности которых могут образоваться окислы, и адгезионную прочность пленки золота. Наилучшей адгезией к стеклу обладают пленки железа наихудшей — золота. Конденсация алюминия на стеклянной поверхности в условиях вакуума (10 Па) происходила в присутствии кислорода, который способствовал образованию окисной пленки. Наличие кислорода способствовало росту адгезионной прочности пленки алюминия. Опытным путем установлено [70], что толщина окисной пленки на поверхности железа составляет 25— 30 нм. Окисная пленка состоит из РвдО , а при большей толщине в состав ее входит РозОд. Адгезионная прочность алюминия снижается, когда толщина окисной пленки становится слишком большой. [c.263]

Адгезионная прочность зависит не только от наличия, но и от толщины окисной пленки. Влияние толщины окисной пленки исследовано для адгезии никеля к медной поверхности [233]. Окисная пленка меди толщиной 65 нм полностью восстанавливается, растворяется в процессе никелирования и практически не оказывает влияния на адгезионную прочность. В то же время окисная пленка меди толщиной выше 65 нм снижает адгезионную прочность никеля, которая становится равной нулю при толщине окисной п.т1енки в 400 нм, т. е. в этих условиях происходит самопроизвольное нарушение адгезионного взаимодействия. [c.284]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...