Пленки толщина

Плен очно-вакуумную формовку (рис. 4.16, б) осуществляют в следующей последовательности модельную плиту / с моделью 2 накрывают разогретой полимерной пленкой толщиной не более 0,1 мм. Вакуумным насосом в воздушной коробке 7 создают вакуум 2,6—5,2 МПа. Пленка 6 плотно прижимается к модели и модельной плите. На модельную плиту устанавливают опоку 3, которую заполняют сухим кварцевым песком 5, уплотняют его с помощью вибрации и выравнивают открытую верхнюю поверхность опоки. На [c.139]

Электронно-лучевая обработка имеет преимущества, обусловливающие целесообразность ее применения создание локальной концентрации высокой энергии, широкое регулирование и управление тепловыми процессами. Вакуумные среды позволяют обрабатывать заготовки из легкоокисляющихся активных материалов. С помощью электронного луча можно наносить покрытия на поверхности заготовок в виде пленок, толщиной от нескольких микрометров до десятых долей миллиметра. Недостатком обработки является то, что она возможна только в вакууме. [c.413]

Через достаточно тонкие участки (//) пленки (толщиной до 50—100 А) могут проходить электроны и на них возможно протекание катодных процессов ионизации кислорода, разряда водородных ионов и др. [c.300]

При пленочной конденсации чистого сухого насыщенного пара и ламинарном течении пленки толщина пленки и местный коэффициент теплоотдачи могут быть приближенно определены по формулам Нуссельта [4] [c.155]

При работе механизмов при высоких температурах, в химически активных средах и в вакууме жидкие смазки теряют свои свойства. В этих случаях применяют твердые смазки, к которым относятся графит, а также сульфиды и селениды молибдена или вольфрама. Из твердых смазок наибольшее распространение получил дисульфид молибдена (МоЗ ), который наносится на трущиеся поверхности в виде пленки толщиной 20. . . 30 мкм и применяется в обычных условиях и 1 вакууме при больших перепадах температур (—180. .. -г 400 С) и высоких удельных давлениях. В опорах трения часто применяют металлокерамические самосмазывающиеся материалы в виде бронзо-графитовых и железо-графитовых материалов, где кроме твердой смазки (графита) присутствует жидкая смазка, заполняющая поры материала. Применяют также пористые антифрикционные материалы на основе меди и серебра, поры которых заполнены сульфидами, селенидами и теллуридами молибдена, вольфрама, ниобия. В этих случаях твердая смазка обеспечивает высокую несущую способность и малые коэффициенты трения. [c.168]

В настояще.м параграфе рассматриваются методы контроля остаточных напряжений в покрытиях, нанесенных на подложку из различных материалов. Особенностью таких соединений является то, что при любом способе нанесения покрытия система пленка-подложка находится в механически напряженном состоянии, поскольку основными компонентами остаточных напряжений при нанесении пленок являются температурные напряжения, обус.ловлен-ные отличием коэффициентов температурного расширения материалов пленки и подложки, а также структурные напряжения, вызванные различного рода дефектами. Даже в достаточно тонких пленках, толщиной 0,1 — 1 мкм, остаточные напряжения могут достигать предела прочности материалов, составляющих систему, превышение которого приводит к ее разрушению. [c.114]

Если на поверхность полупроводника адсорбировать в виде тонкой пленки (толщиной порядка 10" м) электроположительные атомы, создающие дополнительные поверхностные уровни донорного типа, то можно еще сильнее снизить порог фотоэффекта. Используя сильнолегированный р-полупроводник, можно получить в данном случае фото- [c.166]

Отсюда для тонкой пленки толщиной 2а получается следующее выражение для критического поля [c.746]

В непосредственной близости к стенке первый член выражения (XII.9) превалирует над вторым. Прандтль предлагает считать, что у стенки имеется очень тонкая пленка толщиной б, где турбулентное перемешивание отсутствует полностью, и определять здесь напряжение по формуле Ньютона [c.179]

Единственными источниками а-частиц тогда были препараты естественных а-радиоактивных элементов радия, полония и некоторых других. Опыты Резерфорда (рис. 2.1) показали, что при прохождении через пленки толщиной в несколько тысяч межатомных расстояний некоторые (очень немногие) частицы резко изменяют направление своего движения, в то время как подавляющее большинство [c.30]

Поэтому, если облучить полимерную пленку толщиной в несколько микрон тяжелыми ионами и подвергнуть ее указанной выше химической обработке, то в местах прохождения ионов в пленке образуются сквозные отверстия, так что пленка в целом может служить великолепным фильтром. При этом диаметр отверстий фильтра характеризуется небольшим разбросом и может быть заранее задан посредством соответствующего подбора условий травления (временем, температурой и т. д.). [c.658]

В тонких листах и пленках, толщина которых соизмерима с размером зерен, вторичная рекристаллизация может стимулироваться выигрышем в поверхностной энергии. Условием этого является заметное различие поверхностных энергий граней зерен, которыми последние выходят на поверхность листа (пленки). При этом центрами вторичной рекристаллизации будут зерна, у которых [c.328]

Скорость роста пленки ЗЮз в парах воды существенно больше, чем в чисто.м кислороде. Это объясняется большей предельной концентрацией паров воды (3 10 см ) в ЗЮз, чем кислорода (5 10 см ). В процессе окисления граница раздела ЗЮз—51 сдвигается вглубь кремниевой подложки, однако происходящее при этом расширение объема образовавшейся пленки ЗЮз приводит к тому, что ее внешняя поверхность не совпадает с первоначальной поверхностью кремния. При сравнении плотностей кремния и оксида кремния оказывается, что рост оксидной пленки толщиной t происходит за счет слоя кремния толщиной 0,44 /. При выращивании пленок [c.40]

Пластикат выпускается в виде пленок толщиной от 0,1 до 0,5 мм. Они широко используются в промышленности для упаковки различных изделий, производства галантерейных товаров и герметичных оболочек, для внутренней обивки автомобилей и т. д. Во всех этих технологических процессах используется высокочастотная сварка. [c.290]

Электрическая прочность, кв мм (для пленок толщиной 1 мм) Диэлектрическая проницаемость (при 10в г4) Тангенс угла диэлектрических потерь (при Ш гц) 45—60 2,2-2,3 0,0003 [c.15]

Непрерывным выдавливанием можно получить детали различного профпля (рис. 8.9, б). При получении пленок из термопластов (полиэтилена, полипропилена и др.) используют метод раздува. Расплавленный материал продавливают через кольцевую щель насадной головки и получают заготовку в виде труб, которую сжатым воздухом раздувают до требуемого диаметра. После охлаждения пленку подают на намоточное приспособление и сматывают в рулон. Способ раздува позволяет получить пленку толщиной до 40 мкм. Для получения листового материала используют щелевые головки шириной до 1600 мм. Выходящее из щелевого отверстия полотно проходит через валки гладильного и тянуще]-о устройств. Здесь же происходит предварительное охлаждение листа, а на роликовых конвейерах — окончательное охлаждение. Готовую продукцию сматывают в рулоны или разрезают на листы определенных размеров с помощью специальных ножниц. [c.433]

Оптическими методами было установлено, что на нове[)хмо-сти железа, запассивироваииого в концентрированной азотной кислоте, образуется невидимая пленка, толщина которой составляет 2—3 нм на углеродистой стали, запассивированной в этих же условиях, образуется более толстая пленка (9—11 нм), па хромоникелевой стали — более тонкая (0,9—1 нм) защитная пленка на алюминии в зависимости от условий имеет различную толщину — от 5 до 100 нм и т. д. [c.62]

Выдержанная в сухом воздухе поверхность алюминия имеет защитную пленку толщиной 15—20 нм. Пленка на алюминии обладает хорошим сцеилеиием с металлом и удовлетворяет ус-ловшо силоишости. [c.266]

Электрохимический способ оксидирования алюминия носит название анодирования. Широко распространенный способ анодирования алюминия в растворе серной кислоты проводится при температуре 20—30° С, анодной плотности тока 2 а1дм , напряжении 10—20 н и длительности процесса 10 мин. Анодирование дает возможность получить на алюминии пленку толщиной порядка 5—20 мкм, а в сиециальных случаях до 100—200 мкм. Пленка окиси алюминия при анодном окислении образуется в результате протекания анодной реакции [c.330]

Пластмассы с наполнителями или без наполнителей выпускаются в виде пресспорошков (для прессования), литьевых масс (для литья), листовых материалов (для механической обработки, гнутья, щтам-повки и выдавливания), тонких пленок (толщиной до 0,5 мм). [c.347]

Амидопласты и фторопласты обладают текучестью под нагрузкой (амидопласты при повышенных, а фторопласты при обычных температурах). Применение амидопластов и фторопластов в виде тонких пленок ( толщиной 0,05—0,5 мм) на металлической основе устраняет текучесть. [c.367]

Известно, что при подводе охладителя через пористую поверхность происходит деформация профилей продольной скорости и температуры во внешнем пограничном слое. Профили скорости и температуры становятся менее заполненными, при этом увеличение интенсивности вдува охладителя ведет к более сильной их деформации. Таким образом, наличие поперечного подвода охладителя вызывает снижение градиентов скорости и температуры в пограничном слое на стенке из-за деформадаи профилей и при одновременном возрастании динамической и тепловой толщин пограничного слоя. Это вызывает уменьшение поверхностного трения и теплового потока на пористой стенке. С увеличением интенсивности вдува охладителя это уменьшение будет более сильным. Однако механизм охлаждения пористой стенки различен в зависимости от термодинамического состояния охладителя. Если охладитель газообразный, то температура стенки, соприкасающейся с горячим потоком газа, зависит от расхода охладителя и плавно уменьшается при его увеличении. В случае жидкого охладителя температура горячей поверхности при больших удельных расходах охладителя на единицу поверхности близка к температуре кипения при давлении горячего газа, омывающего пористую стенку. Между газовым потоком и пористой стенкой образуется жидкая пленка, толщина которой зависит от расхода охладителя. По мере умень- [c.153]

При пленочном режиме испарительного охлаждения над пористой поверхностью образуется жидкая пленка, толщина которой определяется удельным расходом охладителя. На жидкой пленке образуются волны, которые интенсифищ1руют процесс теплообмена за счет увеличения шероховатости и поверхности теплообмена. Это приводит к тому, что зависимость, полученную при вдуве газообразного охладителя, применять нельзя, так как это приводит к значительным ошибкам в определении скорости испарения жидкого охладителя. [c.156]

В данном разделе рассмотрим пленочную абсорбцию из двухкомпонентной смеси газов и оценим влияние неабсорбируемой примеси на интенсивность массопереноса. В соответствии с [118] будем предполагать, что стенки абсорбционной колонны являются изотермическими. Жидкая пленка толщиной I стекает по стенке со среднемассовой скоростью п течение жидкости в пленке является ламинарным. Свободная поверхность пленки находится в непрерывном контакте с бинарной смесью газов, один из которых абсорбируется пленкой. При атом изменение.м объема жидкости, обусловленным абсорбцией, будем пренебрегать. Будем также считать, что все тепло, которое выделяется в процессе абсорбции, целиком идет на нагревание жидкости. В силу малости толщины пленки по сравнению с диаметром колонны можно считать, что газовая фаза занимает полубесконечный объем, ограниченный то.лько поверхностью пленки. На бесконечности газ покоится. [c.333]

Остальцгые величины, входящие в формулы (6-50), (6-51) и (6-53), определяются прямыми измерениями, за исключением плотности пленки. Толщина покрытия Я замеряется микрометро.м как разность высот образца с покрытием и без него, время т находится по скорости движения диаграммной ленты прибора и по ее длине, оно также контролируется секундомером пульта. [c.154]

Поляроиды. В качестве поляризаторов используются также поляроиды. Поляроид представляет собой пленку, на которую наносятся кристаллики герапатита, обладающие сильным селекшв-иым поглощением. Установлено, что такая пленка толщиной порядка 0,1 мм селективно поглощает одни из лучей. В результате мы имеем дело фактически с поляризатором. Поляроиды обходятся деи1евле, обладают апертурным углом, близким к 180, легко изготовляются и могут иметь большие размеры. Одним из недостатков поляроидов но сравнению с призмами из исландского шиата являются их недостаточная прозрачность п селективность поглощения при разных длинах волн. [c.234]

Пленки п коллоиды. Намаз ниченность пленок в продольном магнитном ноле значительно меньше /Уд/4-it , что объясняется проникновением в них поля. В результате, когда приложенное иоле достигает критической величины Нуф,, отнесенная к единице объема работа магнитных сил оказывается меньшей так что для возникновении фазового перехода в пленке необходимо дальнейшее увеличение поля. Нужно также иметь в виду, что величина —поверхностная свободная энергия границы раздела между сверхпроводящей фазой п вакуумом — может отличаться от поверхностной энергии а границы раздела между нормальной фазой и вакуумом. Учитывая эту разницу поверхностных анергий, можно показать, что критическое ноле h для пленок толщиной 2а > X может быть представлено следующим образом [c.661]

О. Л — массивные кристаллы — пленки толщиной 135 нм со сферолитической структурой. напыленные на подложку при температуре 120°С [c.473]

В действительности в окрестности линии контакта трех фаз ( граничной линии ) существует слой адсорбированных молекул — неиспаряемая часть мениска жидкой пленки толщиной порядка [c.265]

В режиме сросшихся пузырьков этот слой жидкости принимает вполне осязаемый вид жидкой пленки толщиной 5q под паровыми конгломератами. (Ее часто называют макропленкой в отличие от микропленки или микрослоя в основании одиночного пузырька.) В режиме одиночных пузырьков теплопроводный слой составляет (для неметаллических жидкостей) некоторую часть толщины динамического пограничного слоя на стенке. Последняя величина обусловлена пристеночным движением жидкости при парообразовании. Принимая за характерную скорость процесса среднюю скорость [c.350]

Так, образцы пластмасс, керамики, цемента и других материалов для исггытания на разрыв должны изготовляться в виде восьмерок с расширенными концами и суженной серединой, по которой происходит разрыв. Размеры образцов из пластмасс даны на рис. 8-5. В случае испытания образцов, изображенных на этом рисунке, значение Ор вычисляют делением разрушающего усилия при разрыве на наименьшую площадь поперечного сечения образца (в середине шейки), измеренную до приложения к образцу нагрузки. Так, для образца на рис. 8-5 площадь наименьшего сечения равна, очевидно, 25 X 6 = 150 мм = 1,5-10 м . Образцы полимерных пленок толщиной не более 1 мм должны иметь форму прямоугольных полосок шириной 10—25 мм и длиной 150 мм. Полоски вырезают как в направлении вытяжки, так и в перпендикулярном направлении. Число образцов каждого вида должно быть не менее пяти. Эта цифра указывается в соответствующем стандарте на материал. [c.153]

В состав растворов для хроматной обработки входят обычно соли шестивалентного хрома (бихроматы натрия, калия, аммония) и активирующие анионы (СГ, NOJ, SOVi POV, СНзСОО" и др.), в присутствии которых нарушается сплошность хроматной пленки и через ее поры взаимодействие раствора с металлом и рост пленки. Толщина хроматных пленок колеблется от нескольких десятых долей микрометра до 0,5 мкм. В процессе обработки при наличии анионов происходит восстановление шестивалентного хрома до трехвалентного и образуются труднорастворимые хроматы или гидрохроматы. [c.97]

В этом случае наращивают оксидные пленки высокого качества толщиной до 300-350 мкм и микротвердостью до 450-550 МПа. Для получения пленок толщиной 40-60 мкм с микротвердостью 350—400 МПа можно ограничиться только интенсивным перемешиванием охлажденного электролита (без внутреннего) охлаждения. В табл. 31 приведены характеристики оксидных анодных пленок, полученных на алюминиевых сплавах по режиму толстослойного твердого анодирования в 18 %-ном растворе H2SO4 при плотности тока 2,5 А/дм , температуре 270 К и конечном клеммовом напряжении 82 В. [c.122]

Силикатное покрытие наносилось на сплавы АМГ-5, АДОМ из раствора технического жидкого стекла (d = 1,41, модуль 4, 5) с содержанием Si02 - 27 %, Ne20-6% при напряжении 320 В и плотности тока 3 А/дм В режиме МДО. За 5 мин осаждалась пленка толщиной 40 мкм. Анодирование проводили В стандартном сернокислотном электролите при температуре 293 К и плотности тока 2 А/дм с наполнением в растворе 50 г/л Kj ij О7 при температуре 363 К. Толщина анодной пленки составляла 12—15 мкм. Эматаль-пленки наносили в растворе 2 г/л борной кислоты, 32 г/л хромового ангидрита при плотности тока 0,3 А/дм , напряжении 60 В. За время осаждения 45 мин формировалась пленка толщиной 5—7 мкм. [c.125]

Наиболее эффективным оказался вариант закачки ингибитора Север-1 в состоянии поставки, при котором на поверхности водовода образуется пленка толщиной 0,4—0,5 мм, а эффективность защитного действия достигает 90 %. При этом более высокая плотность ингибитора по сравнению с нефтяным раствором способствует лучщей его доставке к нижней образующей водовода, а повышенная вязкость обеспечивает меньший размыв пробки при ее движении по трубопроводу. Малоэффективной оказалась последующая дозировка ингибитора, так как при этом около 50 % ингибитора выносится в пласт, а защитный эффект при повышении дозировки от 0,025 до 0,05 кг/м практически не возрастает. [c.161]

В Англии разработан метод нанесения эпоксидной смолы на металлические поверхности в виде пленки толщиной 0,5 мм. Такая пленка устойчива ко многим агрессивным средам — киалота М, щшочам [28]. [c.50]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...