Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...

Статьи Чертежи Таблицы О сайте Реклама

Окисные пленки толщина

Химическое никелирование титана. Химическое никелирование титана используют для улучшения внешнего вида и условий пайки, но нанесение покрытий на титан затруднено окисной пленкой толщиной порядка 5-10 мкм Для удаления окисной пленки поверхность титана подвергают гидропескоструйной обработке, травлению или применяют оба этих метода  [c.31]

У вышеназванных металлов окисление вызывает тепловое окрашивание , которое создается интерференцией света в окисной пленке толщиной (150 -7- 300) 10 м. В соответствии с изменением толщины окисной пленки изменяется ее цвет. На этом основан метод оценки температуры отпуска стали. Порядок распределения цветов совпадает с окраской колец Ньютона. Для полированных образцов нелегированной стали в зависимости от температуры получены следующие цвета светло-желтый (220—230° С) темно-желтый (240) желто-коричневый (255) пурпурно-красный (265) красно-коричневый (275) фиолетовый (285)  [c.18]


Барьерный механизм по своему существу должен быть чувствителен к конкретной природе и состоянию поверхностного слоя, включая покровные пленки, и поэтому при взаимодействии тела с активной средой может приводить как к повышению пластичности, так и к ее снижению (с упрочнением) в зависимости от результата протекания поверхностных химических (электрохимических) реакций. Так, при растяжении монокристалла никеля в растворе серной кислоты под анодным током поляризации при потенциалах пассивации наблюдалось упрочнение и снижение пластичности по сравнению с деформацией на воздухе вследствие образования прочных фазовых окисных пленок (толщиной около 5 нм) [127] в результате анодной реакции в области потенциалов пассивации.  [c.144]

Цинк анодно пассивируется в разбавленном растворе гидроокиси натрия с образованием окисной пленки толщиной порядка 54 А.  [c.109]

Стандартный потенциал алюминия равен —1,66 В. На его поверхности при доступе воздуха образуется довольно плотная окисная пленка толщиной порядка 0,1 мкм с хорошими защитными свойствами. Она состоит в основном из окиси алюминия в аморфном или кристаллическом состоянии и из гидроокиси алюминия. Поскольку окисные пленки, образующиеся на алюминиевых сплавах, включают еще и окиси легирующих элементов, они менее плотные, чем на чистом алюминии. Однако в некоторых случаях (напрпмер, А1 — Mg-сплавы в морской воде) это приводит к повышению коррозионной устойчивости.  [c.132]

По мере роста q и соответственно Т, начиная с некоторого момента активизируется реакция окисления (кривая 2). Растущая окисная пленка толщиной х поглощает лазерное излучение, что ведет к дальнейшему росту температуры, скорости окисления и поглощательной способности А металла  [c.114]

Для большинства металлов образование первичной окисной пленки протекает очень быстро даже при комнатной температуре. Например, у меди окисная пленка толщиной 1 нм обнаруживается через 3 мин, затем скорость роста замедляется, и через 30 мин толщина достигает  [c.11]

У алюминия окисная пленка толщиной 1,0 - 1,5 нм образуется за несколько минут, а дальнейший рост ее до толщины 40 — 45 нм продолжается 40 - 90 дней.  [c.11]

На практике при холодной обработке давлением на исходной поверхности металла обычно находится окисная пленка толщиной порядка 0,001—0,01 мкм.  [c.18]

В средах, не содержащих активаторов, в частности в чистой воде, сплавы алюминия разрушаются в контакте с аустенитной сталью. Для защиты алюминия от коррозии между ними и сталью вставляются прокладки из сплавов циркония и титана. Существенно снижает контактную коррозию алюминия анодирование. Особенно эффективно так называемое толстослойное или черное анодирование. При этом на поверхности сплавов алюминия образуется окисная пленка толщиной до 100 мкм. Обычное анодирование, дающее окисную пленку толщиной до 12 мкм, в этом смысле менее эффективно. Для снижения коррозии сплавов алюминия при контакте с медью и ее сплавами поверхность изделий из меди и ее сплавов в местах контакта с алюминием следует кадмировать или цинковать. В ряде случаев целесообразно разделять алюминий и медь прокладками из цинка или кадмия.  [c.606]


Испытания на ползучесть при температуре 275 С и напряжении 154 МПа образцов диаметром 3,6 мм из поликристаллического алюминия позволили установить [28], что нанесение окисной пленки толщиной 1,2 мкм значительно повышает сопротивление ползучести, причем измеренная плотность дислокаций оказывалась выше у анодированных образцов в пределах 250 мкм от поверхности.  [c.12]

Анодный процесс окисления ферроцианида на окисленном олове тормозится тем больше, чем при более положительном потенциале формировалась окисная пленка. Толщина пленки не оказывает влияния  [c.50]

Рис. 3. Зависимость количества прореагировавшего окисла от длительности контакта окисленных образцов кремния с фтористым водородом / — для окисной пленки толщиной 0,54 жк 2 — то же, толщиной 0,7 мк Рис. 3. Зависимость количества прореагировавшего окисла от длительности контакта окисленных образцов кремния с <a href="/info/88083">фтористым водородом</a> / — для окисной пленки толщиной 0,54 жк 2 — то же, толщиной 0,7 мк
Оксидирование стальных изделий (перьев, пуговиц, пряжек и др.) можно осуществить, нагревая их на воздухе до 270—300° С. При этом на них образуется окисная пленка толщиной до 1 мкм. От температуры нагрева зависит цвет пленки с повышением температуры он изменяется от коричневого до синего.  [c.160]

Относительно небольшой срок испытаний анодированных образцов несколько снижает четкость выводов. Однако можно заключить, что для архитектурных элементов с длительными сроками эксплуатации анодная окисная пленка толщиной 10 мк не может быть рекомендована в качестве защитной даже при сравнительно мягких условиях малозагрязненной сельской атмосферы. Для такой атмосферы поверхность конструкций необходимо анодировать не менее чем на 15 мк.  [c.158]

Как и следовало ожидать, изменение толщин оставшихся на поверхности окисных пленок после анодирования в значительной степени зависит от температуры электролита. Так, при =+20° С (кривая 4) в смеси кислот за 120 мин. образуется окисная пленка толщиной 35 мк, а при тех же условиях анодирования, но в серной кислоте (кривая 4 ) образуется пленка толщиной только 9 мк. Это указывает на большое преимущество применения электролита, состоящего из смеси кислот перед применением электролита, состоящего из чистой серной кислоты.  [c.211]

Данные о толщине окисных пленок, полученных на сплаве Д16, приведены на рис. 4. Температура электролита оказывает значительное влияние на толщину образующейся при анодировании окисной пленки. Толщина пленки на сплаве Д16, полученная при +20° С за 120 мин. в смешанном электролите, равна 15 мк. Это почти в 3 раза больше толщины пленки на сплаве, полученной в чистой серной кислоте, причем рост пленки в смешанном электролите еще может продолжаться, в то время как в серной кислоте он ограничивается 45 мин. Из анализа экспериментальных данных, полученных для алюминия и сплава Д16, представленных на рис. 3 и 4, видно, что скорость роста пленки при анодировании в серно-щавелевокислом электролите на А1 значительно выше скорости ее роста на снлаве Д16 и при равных количествах пропущенного электричества на алюминиевых образцах сформировывается окисная пленка в 2 раза толще, чем на образцах Д16 при одинаковой температуре электролита.  [c.211]

Выдержка на воздухе в естественных условиях. Сначала исследовали действие естественных окисных пленок на алюминии в процессе волочения. Известно, что при соприкосновении с кислородом воздуха на поверхности металлов образуются тонкие, не видимые невооруженным глазом окисные нленки. Оптическими измерениями было установлено, что на поверхности алюминия в сухом воздухе при комнатной температуре образуется окисная пленка толщиной до 30-i-50 А [7].  [c.222]

Электрохимическое оксидирование (анодирование) позволяет получать окисные пленки толщиной от пяти до нескольких сотен микрометров. Анодирование производится с применением постоянного или переменного электрического тока. Промышленное применение нашли сернокислые, щавелевокислые и хромовокислые электролиты.  [c.116]

Процесс окисления металлов происходит за короткий период времени. Например, незакаленная сталь в течение 0,02 с при комнатной температуре покрывается окисной пленкой толщиной до 0,002 мкм. При полировании под действием окружающей среды и, главным образом за счет химически активных добавок смесей и суспензий, происходит непрерывное образование окисных пленок. Снимаются эти пленки зернами абразивов.  [c.49]


Благодаря наличию тонкой естественной окисной пленки толщиной около 0,02 мкм поверхность алюминия достаточно устойчива против коррозии. Поэтому алюминий весьма часто применяют без специальной антикоррозионной защиты.  [c.290]

В результате пребывания никель-фосфорных покрытий в условиях высоких температур на их поверхности образуется окисная пленка, толщина которой возрастает с увеличением времени нахождения этих покрытий в коррозионно-агрессивной среде. Данные замеров толщины окисной пленки, ее микротвердости и микротвердости никель-фосфорного слоя под окисной пленкой приведены в табл. 41.  [c.116]

Прочные междумолекулярные связи могут иметь место только при наличии чистых поверхностей и достаточной площади соприкосновения. Слой же распыленного покрытия состоит из мелких частиц металла, окруженного окислами, что уменьшает надежность связи. Уже через 8 сек. очищенная поверхность стали покрывается окисной пленкой толщиной до 70 р.. Окислы начинают образовываться через 0,05 сек.  [c.126]

При анодировании в растворах серной кислоты возможно получение твердых толстых окисных пленок толщиной от 30 до 500 мк. Низкая температура электролита (от О до —5° С) и постоянная анодная плотность тока создают условия для образования твердой окисной пленки.  [c.149]

Алюминий и его сплавы благодаря малому удельному весу, низкому электрическому сопротивлению и хорошим механическим свойствам находят широкое применение в различных отраслях промышленности. Поверхность алюминия на воздухе покрыта естественной окисной пленкой, толщина которой составляет около 0,00002 мм. Эта пленка сообщает металлу некоторую пассивность. Однако она не может служить надежной защитой против коррозии. При эксплуатации изделий во влажной атмосфере или в морской воде на поверхности алюминия образуется белый налет продуктов коррозии.  [c.16]

Химическим и электрохимическим способом на меди и ее сплавах могут быть получены окисные пленки толщиной до 2 мкм. В зависимости от условий оксидирования и состава сплава пленки окрашены в черный, синий или коричневый цвет. Защитная способность пленок сравнительно невелика, но может быть повышена в результате их пропитки маслами или покрытия лаком.  [c.79]

При работе мягкими абразивными материалами и пастами под воздействием поверхностно-активных веществ (олеиновой кислоты, стеарина, канифоли) на обрабатываемой поверхности образуется мягкая окисная пленка толщиной порядка сотых долей микрона, которая затем снимается механическим путем (химико-механическая обработка).  [c.77]

Кроме того, поверхность твердых тел никогда не бывает чистой. Свежесколотая поверхность кристалла обладает столь высокой активностью, что практически мгновенно покрывается молекулами окружающей среды, образующими на ней адсорбированные пленки. На металлах и полупроводниках прежде всего образуются окисные пленки, толщина которых может меняться от мономолекулярного слоя, как это имеет место для благородных металлов (Ag, Au, Pt), до десятков-сотен нанометров. Помимо окисных пленок, поверхность может захватывать достаточно толстые слои воды, жира и других веществ из окружающей среды. Прочность закрепления адсорбированных слоев, особенно окисных пленок, весьма высокая, и удаление их с поверхности представляет большие трудности.  [c.78]

Растягивающие напряжения (до предела текучести) не увеличили скорости коррозии циркония. Влияние деформации в холодном и горячем состоянии на коррозионную стойкость циркония весьма незначительно. Деформация выше 10—20% при температурах 843—954° С приводит к несколько более низкой коррозионной стойкости при температуре 343° С по сравнению с материалом, отожженным при этих же температурах. Деформация порядка 60% при температурах от комнатной до 788° С, по-видимому, на скорость коррозии не влияет. Двойные и многокомпонентные сплавы циркония исследовались Р. С. Амбарцу1цяном и его сотрудниками [111,243]. Высокую стойкость в воде при температуре 350° С имеет сплав с концентрацией 0,5% тантала. Сплавы с более высокой концентрацией тантала не перспективны ввиду возрастающего сечения поглощения тепловых нейтронов. После испытаний в течение 6500—8000 час при температуре 350—400° С на этом сплаве образуется черная блестящая плотная окисная пленка, толщиной не болеее 20—35 мк. При температуре 450° С по проществии 1400—2500 час испытаний на поверхности этой пленки появляются участки коричневого цвета со стекловидной поверхностью. На этих участках имеются микротрещины, а впоследствии на них происходит вспучивание и отслаивание пленки и начинается этап ускоренного разрущения металла. Сплавы циркония, легированные 0,4—0,5% вольфрама, ведут себя также, как и сплавы, легированные 0,5% тантала. При совместном легировании циркония 0,3% тантала и 0,4% вольфрама, период ускоренной коррозии не наступает в течение 6000 час испытаний.  [c.224]

Рис. 4-53. Зависимость термического сопротивления клеевых соединений с непосредственно контактирующими склеиваемыми поверхностями при наличии на них окисных пленок от нагрузки. Материал пары Д16 клей ВК-1 чистота обработки поверхностей у5— У6а Гд-ЗбвК / — чистые поверхно- сги 2 — окисные пленки толщиной вд = —0,32 10-7 м 3 —окисные пленки толщиной йд=0,78 10-7 м штриховые линии — расчет. Рис. 4-53. Зависимость <a href="/info/524548">термического сопротивления клеевых соединений</a> с непосредственно контактирующими склеиваемыми поверхностями при наличии на них <a href="/info/50888">окисных пленок</a> от нагрузки. Материал пары Д16 клей ВК-1 <a href="/info/140273">чистота обработки поверхностей</a> у5— У6а Гд-ЗбвК / — чистые поверхно- сги 2 — окисные пленки толщиной вд = —0,32 10-7 м 3 —окисные пленки толщиной йд=0,78 10-7 м <a href="/info/1024">штриховые линии</a> — расчет.
Особенность электронографического метода состоит в том, что электронный пучок рассеивается веществом приблизительно в I f раз сильнее, чем рентгеновские лучи, и проникновение электронов в вещество невелико в сравнении с рентгеновскими лучами. Максимальная толщина окисных пленок, поддающихся злектронографированию, при съемке на просвет, составляет около 100 нм. При съемке методом отражения (применяя касательный к поверхности пучок электронов) можно анализировать окисные пленки толщиной порядка 1 нм и даже обнаруживать наличие мономолекулярного окисного слоя, т.е. фиксировать переход от хемисорбции к окислению. Электронография позволяет изучать процесс зародышеобразования, а при электронномикроскопическом исследовании фольговых образцов — кристаллическую структуру неметаллических включений (микродифракция). Таким образом, чувствительность метода весьма высока, и основное достоинство его заключается в возможности исследования малых объемов вещества.  [c.22]


Электрохимическим путем на алюминии и его сплавах получают пленки толщиною 3. .. 0,3 мм, процесс получения окисных пленок толщиной более 60 мкм называют глубоким анодированием. Такой обработке подвергают сплавы с содержанием 4,5 % Си и 7 % Si, не более. Пленка имеет высокую твердость, которая несколько снижается у самой поверхности, где пленка слегка разрыхлена под действиеК электролита. Получающееся твердое анодное покрытие достаточно износостойко. При анодной обработке оксидированный слой образуется как за счет углубления в толщу металла, так и за счет наращивания пленки на его поверхности. Таким образом, при анодировании увеличивается размер цилиндрической поверхности примерно на толщину слоя. Анодное покрытие можно притирать и полировать. Анодированный слой неудовлетворительно работает в паре с электролитическим хромовым покрытием.  [c.356]

Скорчеллетти [31, с. 253] полагает, что необходимо пересмотреть сами понятия фазового окисла и хемосорбированного слоя. Не исключено, что окисные пленки толщиной в один или несколько элементов кристаллической решетки имеют иные термодинамические свойства, чем компактные окислы. С другой стороны, свойства хемосорбированного кислорода сходны с химическими свойствами окислов. Поэтому стирается грань между понятиями хемосорбированный кислород и фазовый окисел.  [c.25]

Иногда в целях обработки холодной деформацией поверхность быстрорежущей стали цементируют при температуре 880—> 920° С, затем закаливают при температуре 960—980° С и отпускают при 200° С. Вследствие увеличения содержания углерода в поверхностном слое в нем образуется больше карбидов и поэтому поверхности инструментов становятся более износостойкими. Стойкость режущего инструмента может быть также увеличена и с помощью обработки паром. В закрытом устройстве в паре, нагретом до температуры 540—560° С, в процессе обработки в течение 30 мин на Поверхности детали образуется окисная пленка толщиной 2—3 мкм, З брошо прилипающая к этой поверхности и предохраняющая по-  [c.236]

В реакции с кислородом вступают контактные поверхности как стружки и обработанной поверхности детали, так и инструмента. В местах, легко доступных для внешней среды, образуются индивидуализированные лленки окислов. Такими местами являются участки контактных площадок, примыкающих к их периметру. На внутренних участках контактных площадок возникают островки относительно тонких окисных пленок (толщиной 30—40 А), зоны твердого раствора кислорода в кристаллической решетке металлов и зоны с хемосорбированным и физически адсорбированным кислородом [12]. При наличии в воздухе влаги или углекислого газа возникают также пленки гидроокисей. Вторичные структуры, появившиеся на инструменте в результате реакции с кислородом, в процессе резания непрерывно разрушаются и вновь регенерируют. При различных обрабатываемых и инструментальных режущих материалах, а также в зависимости от условий резания изменяются химический состав окисных пленок, их структура (она может быть кристаллической или пористой), плотность, механические свойства, а также прочность сцепления с матричным материалом.  [c.31]

Возможно, что и сами понятия фазового окисла и хемисорбированного слоя требуют некоторого пересмотра и уточнения. Может быть окисные пленки толщиной в один или несколько элементов кристаллической решетки имеют термодинамические свойства, отличные от свойств компактных окислов. С другой стороны, свойства хемисорбированного слоя кислорода сходны с химическими свойствами окислов, о чем уже говорилось. Тогда стирается грань между понятиями о хемисорбированном кислороде и фазовом окисле и вопрос переходит из области физики в область терминологии [12]. Такой подход заманчив — он мог бы устранить противоречивость в толковании природы пассивности.  [c.255]

По наблюдениям Хауффе и Пфейффера, зависимость скорости окисления от величины отношения СОг СО совместима с уравнением (101). Однако уравнение (101) предполагает еще и то, что скорость должна не только зависеть от величины отношения p ojp o, но и быть пропорциональной величине Р, представляющей собой сумму парциальных давлений окиси и двуокиси углерода. Этот вывод был экспериментально подтвержден Петти, Нигером и Вагнером для окисных пленок толщиной от 4- 10 до 1,8- 10 см скорость линейного окисления при температурах 925—1075° С оказалась пропорциональной и молярной доле СОг и сумме парциальных давлений СОг и СО.  [c.159]

Высокая коррозионная стойкость алюминия и его сплавов определяется свойством алюминия легко пассивироваться. Даже на воздухе на поверхности алюминия ообразуется устойчивая окисная пленка толщиной до 50—200 А.  [c.510]

Процесс искусственного создания окисной пленки на поверхности алюминия и его сплавов называется оксидированием. Различают электрохимическое оксидирование в растворах различных кислот, так называемое анодирование, и химическое оксидирование, заключающееся в обработке алюминия в растворе окислителей. При химическом оксидировании образуется окисная пленка толщиной в несколько десятых микрона и максимум в один микрон при электрохимическом оксидировании — до десятков и сотен микрон. Электрохимическое оксидирование чрезвычайно широко распространено в промышленности для различных изделий, в то время как применение химического оксидирования ограничено, и этот метод используется только там, где по каким-либо причинам нельзя применить электрохимический способ, а также для неответственных деталей, находящихся в нежестких коррозионных условиях.  [c.145]

Анодирование в щавелевой кислоте. В приборостроительной промышленности находят применение щавелевокислые электролиты для получения главным образом окисных пленок с высокими электроизоляционными свойствами. Электролиты с щавелевой кислотой могут работать на постоянном и переменном токе. В них возможно получение окисных пленок толщиной 90—100 мк. Пробивное напряжение при соответствующей толщине пленки можно довести до 500 в и выше. При этом сопротивление пленок достигает 500 мгом. Пленки, полученные в щавелевой кислоте, отличаются характерным бледнозолотистым или темнозолотистым цветом и высокой твердостью.  [c.150]


Смотреть страницы где упоминается термин Окисные пленки толщина : [c.29]    [c.11]    [c.55]    [c.16]    [c.167]    [c.73]    [c.26]    [c.37]    [c.246]    [c.221]    [c.274]   
Коррозия и защита от коррозии (1966) -- [ c.650 , c.651 ]



ПОИСК



Пленки окисные

Пленки толщина



© 2025 Mash-xxl.info Реклама на сайте