Термическое испарение в вакуум

Аморфные твердые тела с тетраэдрическими связями, такие, как кремний, германий, соединения А В . Эти полупроводники в аморфном состоянии нельзя получить путем охлаждения расплава. Их получают, обычно, в виде тонких пленок с помощью различных методов осаждения (термическое испарение в вакууме, катодное напыление и т. д.). Их свойства в значительной степени подобны свойствам кристаллических аналогов. [c.360]

ОеО кууме Термическое испарение в вакууме 9-12 0,002—0,01 [c.381]

Отожженные в вакууме при температуре 700° С в течение 2 ч образцы из титанового сплава ВТ-9 подвергались обработке ударными волнами относительно высоких давлений. На деформированные взрывом образцы из сплава ВТ-9 путем термического испарения в вакууме наносилось медное покрытие толщиной 10 мкм. Диффузионный отжиг осуществлялся также в вакууме при температуре 750° С в течение 2 ч. [c.121]

При использовании пленочной технологии на подложку наносятся проводящие, диэлектрические, ферромагнитные и резистивные пленки преимущественно способом термического испарения в вакууме. Такими же способами возможно выполнять и активные элементы схемы полупроводниковые диоды и триоды. Конечно, такое производство пока еще очень сложно, требует высокой тщательности и почти полной его автоматизации. Но зато изделия, полученные таким способом, обладают исключительной надежностью. [c.420]

Впервые большие возможности метода полного внешнего отражения для исследования плотности пленок меди, полученных термическим испарением в вакууме, были продемонстрированы в работе [651. Авторы проводили расчет отражательной способности на основе модели, в которой пленка напыленного материала разделяется на ряд слоев, каждый из которых имеет свое значение плотности. Подбором толщины, числа и плотности слоев можно добиться наилучшего согласия о экспериментально измеренной зависимостью (0). Проведенные таким методом измерения [c.38]

Технологические особенности изготовления фильтров. Интерференционные фильтры изготавливаются тремя способами термическим испарением в вакууме, химическим способом (путем центрифугирования) и катодным распылением металлов. Каким бы способом ни производился фильтр, необходимо обеспечить такую технологию его изготовления, чтобы она обеспечила наилучшие параметры фильтра, т. е. наибольшее пропускание в максимуме при наименьшей ширине пропускания бЯ и возможно более точное значение заданной на которой будет работать фильтр. [c.121]

Метод катодного распыления находит широкое применение в технике. Его используют при нанесении специальных покрытий для оптических и электрооптических приборов. Основные области применения метода катодного распыления наиболее полно представлены в статье [194]. В области электроники для контактов и электродов применяют пленки золота, серебра, платины пленки тантала отличаются высокой стабильностью электросопротивления нитрид тантала и некоторые пленки сплавов используют для конденсаторов. Пленки 5102, полученные методом радиочастотного распыления, имеют лучшую стабильность и адгезию, чем полученные любым другим методом. Новым направлением в применении катодного распыления является нанесение твердых смазок (например, МоЗ-з) и износостойких покрытий из хрома, вольфрама, нержавеющей стали и т. п. Например, освоен метод нанесения хромовых и платино-хромовых покрытий на лезвия бритв из нержавеющей стали для увеличения срока их службы. В полностью автоматизированной установке одновременно покрывается 70 ООО лезвий. Катодное распыление применяют для декоративных целей (получения различных орнаментов, рисунков) и для получения тонкого подслоя (хрома, меди и т. п.) на пластмассе с хорошей адгезией к основе. Особенно перспективен этот метод для нанесения покрытий из тугоплавких материалов, которые трудно нанести термическим испарением в вакууме. [c.8]

В методах термического испарения в вакууме конденсацию стараются вести как можно медленнее, поддерживая высокую температуру подложки. Это связано с тем, что при низких температурах подложки возникает большая опасность внедрения примесей в [c.382]

Многокомпонентные сплавы, состоящие из 81, Ре, Сг, N1, А1 и У (сплавы МЛТ), являются материалами для тонкопленочных резисторов. Эти сплавы обладают высокой стойкостью к окислителям и воздействию различных химических сред. Для увеличения удельного электросопротивления в состав большинства сплавов вводятся оксиды металлов. Резисторы из сплавов МЛТ получают путем термического испарения в вакууме из вольфрамовых испарителей и конденсации пленок на диэлектрической подложке. [c.640]

Оксид бериллия применяют в виде керамики или тонких пленок. Керамику получают из очищенного порошка ВеО, а тонкие пленки - методом термического испарения в вакууме с помощью электронного пучка. Благодаря высоким значениям теплопроводности и электросопротивления оксид бериллия используется для создания подложек полупроводниковых приборов и микросхем. [c.658]

Термические напряжения 440 Термическое испарение в вакууме 382 [c.739]

Термическое испарение в вакууме [c.327]

Существует. несколько способов нанесения проводящего слоя металла способ катодного распыления, способ термического испарения в вакууме и способ химического серебрения. [c.117]

Первоначально методы тепловой микроскопии, например высокотемпературная вакуумная металлография, позволяющая определенным образом устанавливать связь между свойствами зерен, их границ и агрегата в целом, основывались главным образом на эффекте термического травления, заключающемся в выявлении строения металлов и сплавов вследствие избирательного испарения в вакууме при достаточно высоких температурах и влиянии поверхностного натяжения, а также на всех явлениях, связанных с объем- [c.9]

Метод непрерывного термического напыления в вакууме отличается высокой производительностью, покрытия наносят на непрерывно движущуюся ленту и получают однородными с высокой степенью чистоты. Недостатком метода является сложность оборудования и технологии для получения и поддержания вакуума порядка 10-2 f] a испарения больших количеств металла. [c.140]

В условиях работы паяных соединений в вакууме при повышенных температурах их герметичность может быть нарушена в результате потери ими вакуумной стойкости — свойства материалов сопротивляться термическому разрушению в вакууме. Мерой вакуумной стойкости для металлических материалов принята скорость испарения их в вакууме и давление образовавшегося пара. [c.202]

Неодинаковое влияние вакуума на потерю массы продуктов различного химического строения связано прежде всего с различиями в их молекулярной массе, а также термоокислительной и термической стабильности. Для масел, не стойких к кислороду, рост скорости испарения исходного вещества, связанный с разрежением газовой среды, компенсируется за счет уменьшения количества легколетучих вторичных продуктов, образующихся в результате термоокислительных процессов в воздушной среде. Наоборот, скорость испарения в вакууме (особенно термически нестабильных веществ) имеет тенденцию к повышенному возрастанию по сравнению с чисто физическим процессом за счет вторичных продуктов термического распада исходных молекул, ускоряющегося в вакууме неодинаково. Таким образом, конечный результат влияния вакуума на процесс потери массы веществами складывается из его влияния на скорость испарения исходного вещества (она возрастает), на скорость термического распада (также возрастает) и скорость термоокислительного разложения (она уменьшается). [c.61]

Максимальное значение ро может достигать 10 ... 10 Вт/мм , что позволяет проводить размерную обработку материалов путем их локального испарения в месте воздействия луча на изделие. По мере уменьшения ро (это сравнительно просто можно осуществить путем расфокусировки луча) возможно проведение термических процессов плавки, сварки, нагрева в вакууме, а также нетермических процессов типа стерилизации, полимеризации и т. п. [c.112]

В зависимости от способа нагрева материала, подлежащего нанесению, существуют следующие разновидности получения пленок в вакууме термическое испарение, испарение электронным лучом, реактивное катодное распыление, катодное распыление в высокочастотно.м разряде. [c.106]

Термическое испарение осуществляется с помощью нагревателя сопротивления (например, вольфрамового). Наносимый материал соприкасается с поверхностью, нагретой до температуры выше, чем его температура плавления. Это в отдельных случаях может привести к разложению сложного соединения, которое наносится, тем более, что нанесение происходит в вакууме. Поэтому этот метод связан с большими трудностями при получении покрытий с высокой излучательной способностью, так как не гарантирует образования неметаллической пленки покрытия. [c.106]

Процессы вида Ф4 — способы осаждения покрытий пз активной обрабатывающей среды, в которой исходный материал покрытия находится в жидком, газообразном или ионизированном состоянии. Сюда могут быть отнесены способы получения покрытий окунанием заготовок в расплавы и самотвердеющие растворы, термическим испарением и конденсацией в вакууме и др. Схема 4.2 является струйным вариантом этих способов. [c.37]

Зависимость теплоемкости и теплопроводности карбидов от температуры, а также их коэффициенты термического линейного расширения и удельного электросопротивления приведены в табл. 13—16. Карбиды переходных металлов лучше других тугоплавких соединений ведут себя в условиях эксплуатации при высоких температурах в вакууме. Об этом свидетельствуют более низкие значения скорости испарения и давление диссоциации металла над карбидом (табл. 17) [16], Карбиды, относящиеся к фазам внедрения, при испарении диссоциируют на металлы и углерод (например, карбиды титана, циркония, ниобия, тантала и др.). Испарение карбида хрома, в отличие от перечисленных карбидов, носит ступенчатый характер — при [c.419]

Термическое испарение основано на нагреве исходного материала или композиции материалов в вакууме до температуры, при которой возрастающая с нагревом кинетическая энергия атомов и молекул вещества становится достаточной для их отрыва от поверхности и распространения в окружающем пространстве. Это происходит при температуре, когда давление собственных паров вещества превышает на несколько порядков давление остаточных газов. При этом атомарный поток распространяется прямолинейно, и при соударении с поверхностью подложки испаряемые атомы и молекулы конденсируются на ней. [c.423]

Электронно-лучевая и лазерная резка. Эти процессы основаны на испарении металла под воздействием мощного, концентрированного источника нагрева. Электронно-лучевая резка осуществляется в вакууме, в то время как резка лазером может происходить в обычной атмосфере. Резка этими методами отличается высокой чистотой и точностью реза, небольшой зоной термического влияния на кромках разрезаемого материала. Однако установки для электронно-лучевой и лазерной резки имеют повышенную сложность и стоимость. [c.522]

Пленки значительно большей прочности и термической устойчивости могут быть получены с помощью испарения и конденсации в вакууме некоторых неорганических веществ. Наиболее часто [c.18]

Серебряный первичный отпечаток изготовляют следующим образом [116 117 118]. Исследуемый образец подвешивают под вакуумным колпаком наподобие маятника так, чтобы он мог отклоняться на небольшой угол (фиг. 42). Во время качания образца на него напыляют серебряный слой толщиной не менее 5 мк. Испарение серебра осуществляется из маленького тигля, сделанного из конусообразной вольфрамовой спирали, покрытой пастой из окиси алюминия. После высыхания пасты тигель должен быть предва рительно прокален в вакууме для удаления поглощенного газа и продуктов термического разложения связки пасты, которая обычно делается из раствора коллодия в амилацетате. Испарение из тигля позволяет уменьшить расход серебра по сравнению с испарением его из обычной конусообразной или цилиндрической спирали. Кроме того, при испарении из обычной спирали расплавленное серебро закорачивает витки спирали, в результате чего для испарения приходится применять очень большие токи. [c.91]

С увеличением глубины вакуума возникает опасность испарения отдельных компонентов. Парциальное давление, паров легирующих компонентов зависит от температуры (рис. 132). Парциальное давление паров отдельных компонентов является значительным при термической обработке в обычном интервале температур. Давление паров таких компонентов, как Мп и Сг, при 1000°С составляет, [c.152]

Существуют два метода нанесения покрытий в вакууме, различающиеся по механизму генерации потока осаждаемых частиц метод термического испарения и метод распыления материалов ионной бомбардировкой. Испарение или [c.110]

Получение тонкослойных керамических покрытий испарением и последующей конденсацией в вакууме встречает затруднения, так как при нагревании в вакууме окислы подвергаются термической диссоциации. Распад окислов происходит тем интенсивнее, чем больше разница между величинами давления диссоциации соответствующего соединения и давления кислорода в реакционном объеме. [c.38]

Брэдфорд [71] использовал метод термического испарения в вакууме для нанесения алюминия и двуокиси кремния на пла-стиню/ из нержавеющей стали. Нанесение осуществлялось при давлении 10 -133 Па. В испарительную камеру с вольфрамовым нагревателем засыпался алюминий чистоты 99,99% и наносился на диск из нержавеющей стали. Расстояние до покрываемой детали составляло 280 мм. После напыления алюминия таким же образом наносят двуокись кремния. Скорость нанесения 300 нм/с. Степень черноты покрытия при толщине слоя 0,5 мкм составила 0,52. Следует отметить, что увеличение толщины покрытия позволяет повысить степень черноты, однако при этом ухудшается адгезия. [c.107]

Для образования омических контактов металл—полупроводник через окна фотошаблона наносится слой алюминия методом термического испарения в вакууме. Для образования внутрисхемных соединений между элементами данной ИС удаляют методом фотогравировки алюминий между контактами, соединяющими эти элементы. [c.95]

В исиарительно-ионных насосах активные пленки создаются путем термического испарения в вакууме накаленной титановой проволоки или штабика. В магниторазрядных насосах титан распыляется бомбардировкой ионами, образованными газовым разрядом. [c.51]

Фазовая модуляция света в аналогичной структуре с dS осуществлялась также на основе отиентационного 5-эффекта [79]. Использование в структурах ФП —ЖК 5-эффекта и поли-кристаллических ФП-слоев в виде твердого раствора сульфидов кадмия и цинка состава Znoj do.aS (максимум спектральной чувствительности на длине волны 442 им), полученных термическим испарением в вакууме, позволило достичь нувствигельности около 10 Дж,см2 При глубине модуляции фазы считывающего света п (на длине волны 633 им) и контрасте в скрещенных поляроидах не менее 2о 1, [c.143]

Основными способами получения тонких пленок являются термическое испарение в вакууме, катодное распыление и химическое осаждение. Толстые пленки наносятся на подложку методом шелкографии. Выбор метода получения пленок зависит от многих факторов состава наносимого вещества, состояния поверхности и температуры подложки, заданной толщины, режима технологического процесса, методов контроля и т. п. [c.687]

Поликристаллический теллурид кадмия получают сплавлением исходных элементов в вакуумированных запаянных кварцевых ампулах. Монокристаллы выращивают методом направленной кристаллизации (см. рис. 5.4), тонкие пленки получают методом термического испарения в вакууме из танталовых лодочек. Теллурид кадмия обнаруживает заметную фотопроводимость и прозрачность в ИК-области спектра, используется как оптический материал и для производства фотоэлектропреобразователей. [c.661]

Защищая от потускнения металл покрытия, прозрачные лаковые пленки в двухлойных покрытиях рассматриваемого типа служат одновременно барьером, предохраняющим металлическую пленку от механических повреждений. Например, при металлизации полимерных материалов термическим испарением в вакууме на их поверхности образуется тонкая, механически непрочная пленка металла, которая в процессе эксплуатации довольно быстро разрушается. Нанесение на нее прозрачной лаковой пленки во много раз увеличивает срок службы покрытия [123]. [c.174]

Непосредственно на поверхность покрываемой детали наносят пленку эмали или лака горячей сушки, обладающих высоким глянцем и хорошим розливом. После высыхания лакокрасочной пленки на нее напыляется тонкий слой металла, например алюминия или хорма, способом термического испарения в вакууме. Образующееся при этом зеркально блестящее металлопокрытие защищают бесцветной прозрачной лаковой пленкой. По такой же технологии производится облагораживание различных изделий из пластмасс — ручек радиоаппаратуры, сувениров, игрушек и т. п. [123]. [c.176]

В различных областях электротехники, в частности в радиотехнике, используют тонкие нагревостойкие диэлектрические пленки, которые наносят на поверхность металла или полупроводника илп на иные юдложки. Такие пленки д ожно наносить сиособаднт испарения в вакууме, шоопированием и т. п. возможно также осаждение исходных веществ, которые в результате взаимной химической реакции дают диэлектрическую пленку. Представляют большой интерес пленки, получаемые путем оксидирования (термического, электрохимического или плазменного) металла-подложки, т. е. получение диэлектрической иленки на поверхности металла за счет химического ссединения этого металла с кислородом — так называемая оксидная изоляция. [c.206]

Оборудование для напыления в вакууме. Одна из областей применения десублимации - нанесение различных покрытий. Наиболее качественные зеркальные покрытия получают десублимацией паров алюминия в вакууме. Металлы и другие материалы покрываются полимерами путем термического испарения последних и последующей десублимацией паров. [c.560]

Выбор материала и конструкции разрядного канала. Керамика из AI2O3 широко применяется в вакуумной технике, в том числе и при высоких температурах [177]. И тем не менее даже в настоящее время трудно иметь полное представление о ее поведении в процессе длительного срока службы при воздействии различных факторов (температуры, среды, нагрузок и т.д.). В работе [178] показано, что наиболее сильное влияние на свойства керамики оказывает высокая температура при длительном нагреве изменяется ее микроструктура — происходит так называемое термическое старение. Этот процесс связан с рекристаллизацией (ростом кристаллов) керамики, сопровождающейся уменьшением ее кажущейся плотности, прочности, термостойкости, теплопроводности, ползучести и испарения. Керамика из окиси алюминия подвергается существенному старению даже при относительно невысоких температурах, если время нагрева составляет тысячи часов. Термическая обработка (выдержка) корундовой керамики при 1300 °С в течение 500, 1000 и даже 2000 ч практически не приводит к заметному изменению ее структуры. Нагрев до 1700°С вызывает резкие изменения уже в первые часы работы. Установлено [178], что прочность спеченной керамики после нагрева в вакууме при 1900 °С в течение 10 ч снижается примерно в четыре раза, при этом размер кристаллов увеличивается в шесть раз. Поэтому керамика А-995, работающая в АЭ на парах меди при температурах 1500-1600 °С, с целью сохранения ее свойств предварительно подвергается обжигу при более высоких температурах. В нашем случае температура обжига составляет (1700 20) °С. [c.37]

Для металлических покрытий применяют медь, алюминий, никель, хром, серебро, золото, цинк и другие металлы и сплавы. В промышленности применяют следующие методы металлизации пластмасс термическое испарение металлов в вакууме, катодное распыление металлов в вакууме, электролитическое осаждение металлов, пневмораспыление расплавленного металла. [c.72]

Энергия подается изшульсамн длительностью 10 —10" сек. При встрече потока электронов с новерхностью обрабатываемой детали энергия электронов переходит в тепло. Все это обеспечивает высокую степень локальности нагрева. Если в зоне непосредственного контакта луча с заготовкой (пятна контакта) температура достигает 3000—4000° С, то на расстоянии всего 1 мкм от него температура не превышает 300° С. Такие условия передачи тепла заготовке позволяют вести обработку любого материала, осуществлять мгновенное испарение его в вакууме, термически воздействовать только непосредственно на зону обработки, [c.468]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...