Испарение в вакууме

Аморфные твердые тела с тетраэдрическими связями, такие, как кремний, германий, соединения А В . Эти полупроводники в аморфном состоянии нельзя получить путем охлаждения расплава. Их получают, обычно, в виде тонких пленок с помощью различных методов осаждения (термическое испарение в вакууме, катодное напыление и т. д.). Их свойства в значительной степени подобны свойствам кристаллических аналогов. [c.360]

ОеО кууме Термическое испарение в вакууме 9-12 0,002—0,01 [c.381]

При испарении в вакуум массовая скорость уноса [c.91]

Серебро применяют также для непосредственного нанесения на диэлектрики, в качестве обкладок в производстве керамических и слюдяных конденсаторов. Для этой цели используют метод вжигания или испарения в вакууме. [c.31]

Одним электродом выпрямителя служит медная пластинка, па которой расположен слой закиси меди второй электрод из серебра наносят поверх слоя закиси меди испарением в вакууме. На серебряный электрод накладывается свинцовая шайба. Иногда электродом [c.187]

Отожженные в вакууме при температуре 700° С в течение 2 ч образцы из титанового сплава ВТ-9 подвергались обработке ударными волнами относительно высоких давлений. На деформированные взрывом образцы из сплава ВТ-9 путем термического испарения в вакууме наносилось медное покрытие толщиной 10 мкм. Диффузионный отжиг осуществлялся также в вакууме при температуре 750° С в течение 2 ч. [c.121]

Первоначально методы тепловой микроскопии, например высокотемпературная вакуумная металлография, позволяющая определенным образом устанавливать связь между свойствами зерен, их границ и агрегата в целом, основывались главным образом на эффекте термического травления, заключающемся в выявлении строения металлов и сплавов вследствие избирательного испарения в вакууме при достаточно высоких температурах и влиянии поверхностного натяжения, а также на всех явлениях, связанных с объем- [c.9]

Основываясь на принципе ориентационной зависимости скорости травления и условии повышенной травимости в местах скопления дефектов, можно объяснить, например, экспериментально установленные факты выявления границ зерен под воздействием избирательного испарения в вакууме. [c.22]

Процесс выявления структуры при избирательном испарении в вакууме в отличие от других способов травления обладает спецификой, заключающейся в том, что при сравнительно низких температурах, когда давление паров металлов обычно составляет доли миллиметров ртутного столба, истинную скорость испарения можно считать не зависящей от присутствия окружающего пара. Из этого следует, что скорость испарения в высоком вакууме такая же, как и в атмосфере насыщенного пара. [c.22]

В табл. 3 приведены величины давления паров и скоростей испарения различных металлов, вычисленные по уравнению (7). Кроме того, в этой же таблице даны значения температур плавления материалов и соответствующие им давления паров металлов. Данные табл. 3 позволяют определять 24 примерные режимы выявления строения металлов при испарении в вакууме. [c.24]

Физическая адсорбция воды на поверхности металлов. Адсорбция водяных паров изучалась на металлических пленках, полученных испарением в вакууме. [c.46]

В нашей промышленности получили развитие многие способы изготовления печатных схем. Их принципиально можно разбить на две группы избирательного удаления и избирательного нанесения проводящего материала. Первые создаются по способу травления и удаления ненужных участков медной фольги с изоляционной подложки. Вторые изготовляются способом осаждения меди из раствора, вжиганием, испарением в вакууме и прессованием. В тех случаях, когда требуется иметь пересечения проводников, используется не одностороннее, а двустороннее расположение проводников на изолирующем основании. Двухсторонняя печатная плата с осажденными проводниками представлена на рис. 81. [c.420]

При использовании пленочной технологии на подложку наносятся проводящие, диэлектрические, ферромагнитные и резистивные пленки преимущественно способом термического испарения в вакууме. Такими же способами возможно выполнять и активные элементы схемы полупроводниковые диоды и триоды. Конечно, такое производство пока еще очень сложно, требует высокой тщательности и почти полной его автоматизации. Но зато изделия, полученные таким способом, обладают исключительной надежностью. [c.420]

Специальные методы получения биметаллов (сварка взрывом, трением, напы лением или испарением в вакууме с получением тонких пленок и пр.) пока не получили широкого распространения в промышленности [c.285]

Скорость испарения в вакууме тугоплавких бескислородных соединений, как правило, увеличивается для одних и тех же элементов в ряду карбиды—бориды— силициды—нитриды. [c.410]

У нитридов более высокие значения упругости пара и скорости испарения в вакууме при высоких температурах, чем у карбидов и боридов для одинаковых металлов. [c.428]

У силицидов сравнительно высокие значения упругости пара и скорости испарения в вакууме при высоких температурах (табл. 36). [c.432]

Пленки титаната бария от 0,1 до 2 мк могут быть получены путем испарения в вакууме при давлении 5-10 мм рт. ст. и при температуре на испарителе около 2200° С, с последующим осаждением на холодную или подогреваемую подложку из платины. [c.298]

Метод катодного напыления. По существу этот метод имеет много общего с предыдущим [58]. Покрываемое изделие здесь служит катодом в высоковольтной установке. Распыляемым анодом служит или молибден, или вольфрам, соответственно по форме копирующий поверхность катода и удаленный от него на строго заданное расстояние. Этому методу присущи многие недостатки, характерные для метода физического испарения в вакууме, однако он позволяет получать покрытия с более высокой адгезией путем предварительного катодного травления ловерхности подложки. Применение этого метода из-за его -сложности также ограничено. Чаще всего он используется в научных исследованиях, например для получения реплик в электронной микроскопии и для получения пленочных элементов микросхем в электронике. [c.106]

В интервале II, где Сш [c.260]

Второй причиной интенсификации процесса теплообмена при испарении является нарушение пристенного пограничного слоя очаговыми процессами испарения. При испарении жидкости при обычном температурном давлении объем вещества увеличивается примерно в 10 раз, а при конденсации пара происходит такое же уменьшение объема. В результате очаговых процессов испарения и конденсации происходит нарушение структуры ламинарного пограничного слоя, что ведет к интенсификации тепло- и массообмена. Особенно ярко этот эффект проявляется при испарении в вакууме, когда изменение объема при фазовых превращениях достигает порядка 10 . Это приводит к увеличению коэффициентов теплообмена примерно на один порядок. [c.28]

Коэффициент теплопроводности алюминиевой пленки (AI 99,5%) толщиной 0,04 мкм, испаренной в вакууме [c.25]

Изолированные наночастицы обычно получают испарением металла, сплава или полупроводника при контролируемой температуре в атмосфере инертного газа низкого давления с последующей конденсацией пара вблизи холодной поверхности или на ней. Это самый простой способ получения нанокристаллических порошков. В отличие от испарения в вакууме, атомы вещества, испаренного в разреженной инертной атмосфере, быстрее теряют кинетическую энергию из-за столкновений с атомами газа и образуют сегрегации (кластеры). [c.17]

Покрытия стекла пленкой кремния испарением в вакууме нашли применение в качестве зеркал для ультрафиолетового излучения благодаря высокой отражательной способности, к рем ния при длинах волн менее 180 нм. [c.259]

Коэффициент теплоотдачи в процессе испяреипя жидкости со свободной поверхности по сравнению с коэффициентом теплоотдачи при теплообмене, не осложненном массообмепом ( сухой теплообмен ), имеет большее значение. Одной из основных причин интенсификации теплообмена при испарении по сравнению с сухим теплообменом является объемное испарение. Согласно теории объемного испа[)епия, при соприкосновении потока ra.sa с поверхностью жидкости происходят неравномерные процессы очаговой конденсации вдоль ее поверхности. В результате этого имеет место отрыв субмикроскопических частиц жидкости, которые испаряются в пограничном слое. Второй причиной увеличения по сравнениго са,,у является наличие очаговых процессов испарения и конденсации, в результате которых вследствие попеременного изменения объема вещества (пара) в Ю раз происходит нарушение структуры ламинарного пограничного слоя, что и приводит к интенсификации тепло- и массообмепа. Наибольший эфс ект это явление имеет при испарении в вакууме. [c.514]

Отметим также работу Хонинга [70], который показал принципиальную возможность распыления карбида кремния с помощью ионов аргона для получения покрытия. В работе [67] описаны способы получения с помощью напыления в вакууме стеклянных пленок. Рассмотренные выше исследования показывают принципиальную возможность нанесения неорганических неметаллических материалов на металлы различными способами испарения в вакууме. Однако об излучательных характеристиках полученных покрытий не сообщается. [c.107]

Брэдфорд [71] использовал метод термического испарения в вакууме для нанесения алюминия и двуокиси кремния на пла-стиню/ из нержавеющей стали. Нанесение осуществлялось при давлении 10 -133 Па. В испарительную камеру с вольфрамовым нагревателем засыпался алюминий чистоты 99,99% и наносился на диск из нержавеющей стали. Расстояние до покрываемой детали составляло 280 мм. После напыления алюминия таким же образом наносят двуокись кремния. Скорость нанесения 300 нм/с. Степень черноты покрытия при толщине слоя 0,5 мкм составила 0,52. Следует отметить, что увеличение толщины покрытия позволяет повысить степень черноты, однако при этом ухудшается адгезия. [c.107]

К настоя1щему времени существуют три основные группы методов получения аморфных материалов а) нанесение на подложку путем распыления (испарение в вакууме, напыление, электролитическое осаждение, осаждение в разряде и т. д.) 6) быстрое охлаждение расплава (превращение капли или тонкой струи расплава в пленку или ленту и охлаждение за счет теплообмена с металлической подложкой, раздробление жидкого металла газовой струей и охлаждение образовавшейся массы в газовом потоке, жидкой среде или на твердой поверхности, вытягивание микропровода в стеклянной оболочке, расплавление поверхности лазерным или электронным пучком и охлаждение за счет теплообмена с нерасплавленной частью материала и т. д.) в) ионная имплантация. [c.274]

Для образования омических контактов металл—полупроводник через окна фотошаблона наносится слой алюминия методом термического испарения в вакууме. Для образования внутрисхемных соединений между элементами данной ИС удаляют методом фотогравировки алюминий между контактами, соединяющими эти элементы. [c.95]

Тантал. По своим физическим и химическим свойствам тантал напоминает ниобий, методы получения их аналогичны.. Температура плавления близка к 3000° С, ТК1 f= 8,8-10 1/град. Тантал, как и ниобий, имеет весьма небольшую интенсивность испарения в вакууме. Применение тантала отчасти связано с его способностью к газопогло-щеиию, особенно при температуре 1800° С. Из тантала изготовляют [c.300]

Серебро —белый, блестяш,ий металл, стойкий против окисления при нормальной температуре. Серебро имеет меньшее удельное сопротивление р (при нормальной температуре), чем какой бы то ни было другой металл (см. табл. 7-1). Механические свойства серебряной проволоки Ор около 200 МПа, МП примерно 50 %. Такую проволоку используют для изготовления контактов, рассчитанных на небольшие токи. Серебро применяют также для непосредственного нанесения на диэлектрики в качестве электродов в производстве керамических и слюдяных конденсаторов. Для этой цели используют метод вжигания или испарения в вакууме. Недостатком серебра является его склонность к миграции внутрь диэлектрика, на который нанесено серебро, в условиях высокой влажности, а также при высоких температурах окружающей среды. Химическая стойкость серебра по сравнению с другими благородными металлами пониженная. [c.215]

В исиарительно-ионных насосах активные пленки создаются путем термического испарения в вакууме накаленной титановой проволоки или штабика. В магниторазрядных насосах титан распыляется бомбардировкой ионами, образованными газовым разрядом. [c.51]

Не менее важным применением молибдена в атомной технике являются ТЭП. В поликристаллическом, и особенно в моно-кристаллическом, состоянии молибден считают одним из основных конструкцрюнных материалов для ядерных термоэмиссионных преобразователей, так как эти материалы имеют низкую скорость испарения в вакууме и обладают высокой термоэлектронной эмиссией (табл. 1.4) [20, 125]. [c.15]

Широкое применение нашли экраны из полимерной пленки, покрытой с одной или двух сторон напыленным слоем металла. Для изготовления пленки применяют полиэфирные смолы, в частности полиэтиленте-рефталат. На полиэтилентерефталатную (лавсановую) пленку толщиной 0,006— 0,012 мм напыляют методом испарения в вакууме слой алюминия толщиной 0,01 — 0,02 мкм. [c.250]

Обширная и крайне актуальная сфера применения капиллярно-пористых материалов открывается в связи с решением вопросов, возникающих при освоении космического пространства. При этом наибЬлее существенными являются проблемы, связанные с поддержанием оптимальных температурных условий функционирования различных устройств и элементов космического корабля. По существу, решение этих вопросов заключается в разработке способов отвода тепловой энергии, генерируемой внутри корабля, и сброса ее в окружающее пространство. Если в обычных земных условиях способы охлаждения путем вдува газов и испарения жидкости в известной мере равноценны, то в специфических условиях космоса (гл бокий вакуум, состояние невесомости, жесткие требования к системам терморегулирования) испарительное охлаждение оказывается не только единст- венным, но и оптимальным вариантом. При космических условиях наиболее полно раскрываются достоинства испарительного охлаждения высокая эффективность охлаждения, связанная с интенсивным испарением в вакууме высокая экономичность благодаря сильному эндотермическому эффекту фазового перехода нетребовательность к предварительной температурной подготовке охладителя отсутствие необходимости в специальных системах подачи охладителя, так как в условиях невесомости капиллярный потенциал подвода жидкого охладителя к охлаждаемой поверхности теоретически неограничен. Следует отметить универсальность испарительного охлаждения оно применимо как для внешней тепловой защиты и для сброса внутренней тепловой энергии в отдельности, так и для комплексного охлаждения. Кроме того, испарительное охлаждение легко поддается автоматическому управлению путем дозирования подачи охладителя. [c.375]

Соотношения (5-8-7) и (5-8-8) определены при адиабатических условиях испарения. При неадиабатических условиях испарения (внутреннем теплоподводе) создаются условия перенасыщения пограничного слоя, сопровождаемые эф( ктом конденсации пара. Кроме того, при испарении в вакуум резко увеличивается объем вещества (при давлении около 1 мм рт. ст. увеличение объема фаз при переходе изо льда в пар составляет примерно 10 раз). Этот эффект резкого увеличения объема создает фронт уплотнения, т. е. волны разрежения (аналог образования ударных волн). В этом случае давление пара у поверхности тела не равно давлению насыщенного пара при данной температуре [Л.5-81]. [c.380]

Данные табл. 3.2 не могут быть использованы непосредственно для расчетовЦпереноса тепла при пузырьковом кипении, так как при их получении использовались опыты [3.26] для плоской поверхности испарения в вакуум, в то время как в реальных условиях пузырькового кипения испарение идет в пузырь с давлением рд Тем не менее они показывают верхнюю границу для передачи тепла испарением. Видно, что исп на три порядка больше, чем конвективный теплоперенос при движении жидкости вдоль нагретой пластины, что объясняет высокие коэффициенты теплоотдачи при пузырьковом кипении. [c.111]

Гипотеза струйного тепло- и массообмена при испарении в вакууме разработана А. А. Гухманом 1[Л. 12]. Вполне естественно, что эти эффекты, иитенсифи цирующие тепло- и массообмен, имеют место и при испарении в условиях обычного барометрического давления, хотя их влияние будет значительно меньше. [c.29]

Рис. 4-4. Структура высокока-чественного алюминированного зеркала, полученного методом испарения в вакууме.

Рис. 4-4. Структура высокока-чественного алюминированного зеркала, <a href="/info/473555">полученного методом</a> испарения в вакууме.

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...