Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...

Статьи Чертежи Таблицы О сайте Реклама

Насыщение однородно

В качестве базового варианта для расчетов была использована модель однородного и изотропного пласта толщиной к= ш и проницаемостью ко=1 дарси, насыщенного однородной жидкостью с вязкостью //=1 мПа с. Пласт разбурен одиночной скважиной, работающей с дебитом q(t), изменяющимся с периодом Т=24 часа. Дебит задается в виде последовательности импульсов прямоугольной формы в режиме отбор - простой. Начальное давление в пласте задавалось одинаковым для всех экспериментов. В результате, в пласте возникали периодические изменения давления, в том числе и на стенке возмущающей скважины. Точка наблюдения находится на расстоянии г=219 м. Для удобства сравнений все давления в пределах отдельного рисунка нормированы на максимальное значение.  [c.14]


Рис. 109. Насыщение усиления активной среды (1—к°(т) 2—к )) а—при однородном уширении линии, б — при наличии неоднородного уширения Рис. 109. <a href="/info/144382">Насыщение усиления</a> <a href="/info/14671">активной среды</a> (1—к°(т) 2—к )) а—при <a href="/info/192380">однородном уширении</a> линии, б — при наличии неоднородного уширения
Величина коэффициента усиления при стационарной генерации устанавливается вследствие явления насыщения усиления. Выше мы видели ( 3), что оно носит разный характер при однородном и неоднородном уширении спектральной линии рабочего перехода, вследствие чего спектральные свойства генерации оказываются различными, см. рис. 111. Здесь взят наиболее типичный случай, когда ширина атомной линии значительно превышает расстояние между соседними продольными модами резонатора. Для простоты предположено, что в ОКГ выделена одна поперечная мода. В случае однородного уширения (а) стационарная генерация осуществляется только на той продольной моде, которая ближе всего расположена к центру атомной линии vq. На других модах генерация не возникает, так как коэффициент усиления оказывается ниже уровня потерь. Если имеется неоднородное уши-рение (б), то генерация происходит на всех продольных модах, для которых К° ) Кп-  [c.292]

При исследовании явления насыщения усиления мы рассматривали взаимодействие среды с бегущими световыми волнами. В действительности, при достаточно высоких коэффициентах отражения зеркал, поле в резонаторе может быть близко к стоячей волне. Если подвижность атомов ограниченна (например, в твердых телах), то инверсная населенность и коэффициент усиления в узлах стоячей волны будут больше, чем в пучностях. Поскольку для разных продольных мод положения узлов различны, то и при однородном уширении каждая из них использует в какой-то мере свой запас инверсной населенности. Это может привести к тому, что и в случае однородного уширения генерация лазера будет  [c.292]

При подходе к той же точке кривой насыщения из области однородных состояний (т. е. со стороны газовой фазы) получится иное значение к, которое может быть вычислено с помощью термодинамического соотношения (3.59)  [c.278]


Рис. 2.8.2. Распределение температур Т и массовых скоростей W, давление р, температура насыщения Ts, температура пара на границе ячейки Гь и скорость изменения радиуса капли воды а в сферической ячейке радиуса гь = = 5 ао, заполненной водяным паром. В начальный момент времени (t = 0) давление ро = 0,1 МПа, а температуры в фазах принимались однородными Tgo = 373 К (Тео = 1Ь Гго = 293 К (f,o = 0,785). Цифры на кривых 1, 2, 5, 4 относятся соответственно к безразмерным моментам времени = ha Рис. 2.8.2. <a href="/info/249037">Распределение температур</a> Т и <a href="/info/198279">массовых скоростей</a> W, давление р, <a href="/info/23045">температура насыщения</a> Ts, температура пара на границе ячейки Гь и <a href="/info/437938">скорость изменения</a> радиуса капли воды а в сферической <a href="/info/387380">ячейке радиуса</a> гь = = 5 ао, заполненной <a href="/info/346965">водяным паром</a>. В <a href="/info/44453">начальный момент</a> времени (t = 0) давление ро = 0,1 МПа, а температуры в фазах принимались однородными Tgo = 373 К (Тео = 1Ь Гго = 293 К (f,o = 0,785). Цифры на кривых 1, 2, 5, 4 относятся соответственно к безразмерным моментам времени = ha
Далее будем рассматривать установившееся движение грунтовых вод в однородном изотропном (фиктивном) грунте с т — подстилаемом плоским водонепроницаемым слоем (водоупором). Рассматривается движение в полностью насыщенном водой грунте.  [c.259]

Точки, лежащие на р—Т-диаграмме по обе стороны от кривой равновесия фаз р = Ps T), соответствуют однородным состояниям тела, т. е. отдельным фазам верхние (лежащие над кривой или слева от нее) — низкотемпературной, а нижние (лежащие справа от кривой) — высокотемпературной фазе. Например, в случае равновесия жидкой и газообразной фаз (рис. 3.5) над кривой фазового равновесия расположена область жидкого состояния, а под кривой — область газообразного состояния. Кривая фазового равновесия представляет собой в данном случае кривую упругости насыщенного пара жидкости.  [c.207]

На диаграммах р—V, Т—v, Т—s область однородных состояний вещества отделена от двухфазных состояний пограничной кривой, являющейся линией фазового равновесия жидкой и газообразной фаз (рис. 6.9). Правая ветвь этой кривой соответствует состоянию насыщенного пара, левая—жидкости, находящейся в равновесии с паром. Пограничная кривая в координатах Г—v вблизи критической точки является симметричной кривой третьего порядка. В координатах Т—s пограничная кривая несимметрична относительно вертикальной прямой, проходящей через критическую точку s" — s << s — s. Так как на линии х = 1/2 объем двухфазной системы постоянен и равен а (дз/дТ)у >0, то линия х = 1/2 подходит к критической точке слева.  [c.430]

Поверка прибора при выпуске из производства и периодически у потребителя производится с помощью стандартных образцов, изготовленных из однородных по структуре заготовок сталей по специальной технологии и аттестованных по методу магнитного насыщения.  [c.67]

При этом в опытах было обнаружено, что если кипящий металл находится под давлением инертного газа, то теплоотдача обычно оказывается более высокой (примерно в 1,5 раза), чем тогда, когда металл находится под давлением своего насыщенного пара. По-видимому, это объясняется тем, что газ, частично растворяясь в жидкости, облегчает вскипание и увеличивает число действующих центров парообразования. Инертный газ также способствует более раннему переходу от неустойчивого к развитому режиму кипения. Теплоотдача при кипении металлов зависит также от физико-химических свойств и материала поверхности нагрева, ее однородности. Все это приводит к тому, что опытные данные, полученные разными исследователями, значительно различаются.  [c.278]

Модуль сдвига пирекса при облучении нейтронами увеличивается неравномерно и достигает насыщения при интегральном потоке тепловых нейтронов 3-10 нейтрон 1см (рис. 4.55). В работе [198] изучалось влияние давления однородной среды на модуль сдвига облученного стекла  [c.216]

Частичная компенсация радиальной неоднородности поля может быть достигнута с помощью высверливания отверстий вдоль оси симметрии полюсов [24, 64], благодаря чему поле в центральной части зазора несколько ослабляется и, следовательно, увеличивается размер однородного участка поля в зазоре. Интерес представляют составные полюса [71], где с целью увеличения размера однородного участка поля периферийные участки полюсов изготавливаются из материала с более высокой индукцией насыщения.  [c.222]


Высокая величина индукции насыщения материала полюсов позволяет обеспечить в зазоре магнита относительно более высокие поля ввиду быстрого убывания величины стохастических неоднородностей поля с увеличением расстояния от полюса появляется также возможность улучшить однородность поля за счет увеличения зазора магнита. Высокая магнитная проницаемость материала полюсов в области высоких индукций позволяет уменьшить радиальное падение поля в зазоре и расширить область высокой однородности.  [c.232]

Ввиду того что теория известных вибрационных магнитометров [1, 2] разработана, исходя из представления испытуемого образца в виде точечного магнитного диполя, измерения магнитного момента проводились на образцах небольших размеров. Поэтому вибрационный метод используется преимущественно для измерения магнитного момента образцов в виде сферы диаметром 2—3 мм 2] и намагниченности в функции от поля для однородно намагниченных образцов (на эллипсоидах одного типоразмера) [4]. Для однотипных неоднородно намагниченных образцов одного типоразмера вибрационный метод применяется для измерения только намагниченности насыщения [5].  [c.150]

Разрешение радиоспектрометров лимитируется однородностью магнитного поля в объеме образца, исходное значение которой зависит от физических и геометрических параметров электромагнита в целом и полюсных наконечников в частности [1]. Для данной системы электромагнита и геометрии полюсных наконечников распределение поля в зазоре определяется распределением намагниченности в полюсных наконечниках, что в свою очередь зависит от магнитных свойств материала наконечников. Применение материала с более высокой индукцией насыщения улучшает однородность поля. Другой способ улучшения однородности предполагает использование составных наконечников из материалов с различной магнитной проницаемостью [2]. Однако эти задачи можно, по-видимому, решить и за счет создания необходимой текстуры в наконечниках. При этом необходимо иметь в виду, что окончательное высокое разрешение удается получить, если поле в зазоре имеет цилиндрическую симметрию [3]. Поэтому и текстура в объеме наконечников должна обладать одной из аксиальных симметрий с осью симметрии, совпадающей с осью наконечника. Однородная текстура необходимой ориентировки будет эквивалентна улучшению физических характеристик материала наконечников, а текстура, интенсивность которой является функцией расстояния до оси,— составным наконечником.  [c.203]

Оптимальной исходной структурой, обеспечивающей при закалке сочетание наибольшего насыщения твердого раствора и минимальной величины зерна, является структура однородного мелкозернистого перлита (балл 2—4) НВ 187—207. Зака-  [c.368]

Рис. 5.6. Частотная зависимость усиления лазера от скорости иакачки Wp при условии насыщения (однородно уширенная линия). Рис. 5.6. Частотная зависимость <a href="/info/144548">усиления лазера</a> от скорости иакачки Wp при <a href="/info/192373">условии насыщения</a> (<a href="/info/192380">однородно уширенная</a> линия).
Цля получения высокой прочности подшипниковые стали при закалке нагревают выше температур эвтектоидного превращения, что обеспечивает необходимую концентрацию С и Сг в твердом растворе и очень мелкое однородное зерно. У подшипниковых сталей большое значение имеет карбидная составляющая, которая определяет степень насыщения твердого раствора и величину действительного зерна  [c.188]

На рис. 12.12 показано из-менение твердости закаленной н отпущенной стали ШХ15 в зависимости от исходной структуры и температуры закалки. Оптимальной исходной структурой, обеспечивающей при закалке сочетание наибольшего насыщения твердого раствора и минимальной величины зерна, является структура однородного мелкозернистого перлита (балл 2—4), обладающего твердостью 187—207 НВ. Закаленная сталь имеет хорошие упругие свойства и относительно большую вязкость.  [c.189]

Рис. 5.9.2. Распределение температур Т и массовых скоростей W, давление р, тем-нература насыщения Т,, температура пара на границе ячейки и скорость изменения радиуса капли воды а в сферической ячейке радиуса = Ьа , заполненной водяным паром, В начальный момент времени давление р = 1 бар, а температуры в фазах принимались однородными Tg, = 373 К (Tg = 1), Ti = 293 К (Tjo = 0,785). Цифры ча кривых О, 1, 2, 3, 4 относятся соответственно к безразмерным моментам времени т = 0 0,5 10 20 Рис. 5.9.2. <a href="/info/249037">Распределение температур</a> Т и <a href="/info/198279">массовых скоростей</a> W, давление р, тем-нература насыщения Т,, температура пара на границе ячейки и <a href="/info/437938">скорость изменения</a> радиуса капли воды а в сферической <a href="/info/387380">ячейке радиуса</a> = Ьа , заполненной <a href="/info/346965">водяным паром</a>, В <a href="/info/44453">начальный момент</a> времени давление р = 1 бар, а температуры в фазах принимались однородными Tg, = 373 К (Tg = 1), Ti = 293 К (Tjo = 0,785). Цифры ча кривых О, 1, 2, 3, 4 относятся соответственно к безразмерным моментам времени т = 0 0,5 10 20
Рис. 3.9.3. Распределение температур Т п массовых скоростей W, давление р, температура насыщения Г , температура пара на границе ячейки "Tfj и скорость а изменения радиуса капли воды, перегретой в начальный момент, в сферической ячейке радиуса rt = 5а , заполненной водяным паром, в начальный момент времени давление р = 1 бар, а температуры в фазах принимались однородными Г = 473 °-К (Т = 1), 378 °К (Г, = =0, 0), Г5 =373 К (fs = 0,789). Цифры на кривых 1, 2, 3, 4, S относятся соответственно к безра%ервым моментам времени т = 0,01 2,0 15 50 оо. Рис. 3.9.3. <a href="/info/249037">Распределение температур</a> Т п <a href="/info/198279">массовых скоростей</a> W, давление р, <a href="/info/23045">температура насыщения</a> Г , температура пара на границе ячейки "Tfj и скорость а изменения радиуса капли воды, перегретой в <a href="/info/44453">начальный момент</a>, в сферической <a href="/info/387380">ячейке радиуса</a> rt = 5а , заполненной <a href="/info/346965">водяным паром</a>, в <a href="/info/44453">начальный момент</a> времени давление р = 1 бар, а температуры в фазах принимались однородными Г = 473 °-К (Т = 1), 378 °К (Г, = =0, 0), Г5 =373 К (fs = 0,789). Цифры на кривых 1, 2, 3, 4, S относятся соответственно к безра%ервым моментам времени т = 0,01 2,0 15 50 оо.

Несущую способность прессовых соединений можно повысить также металлизацией и термодиффузионным насыщением (например, горячим цинкованием), которое в отличие от гальванических покрытий не вызывает водородного охрупчивания металла. Дальнейшего повышения несущей спо-. собности можно достичь нанесением разнородных покрытий, например цинкового покрытия на одну поверхность и медного на другую. В результате взаимной диффузии атомов металлов можно ожидать образования в зоне контакта промежуточных структур более высокой прочносш, чем металлы однородных покрытий (например, сплавов типа латуней при сочетании цинкового и медного покрытий).  [c.485]

Если сжимать газ при постоянной температуре, то можно достигнуть состояния насыщения (сжижения газа), соответствующего этой температуре и некоторому определенному давлению. При дальнейшем сжатии пар будет конденсироваться и в определенный момент полностью превратится в жидкость. Процесс перехода пара в жидкость проходит при постоянных температуре и давлении, так как давление насыщенного пара однозначно определяется температурой. На р— у-диаграмме (рис. 9.1) область двухфазных состояний (пар и жидкость) лежит между кривыми кипящей жидкости и сухого насыщенного пара. При увеличении давления эти кривые сближаются. Сближение происходит потому, что объем пара уменьшается, а объем жидкости увеличивается. При некотором определенном для данной жидкости (пара) давлении кривые кипящей жидкости и пара встречаются в так называемой критической точке, которс1Й соответствуют критические параметры давление р , температура удельный объем характеризующие критическое состояние вещества. При критическом состоянии исчезают различия между жидкостью и паром. Оно является предельным физическим состоянием как для однородного, так и для распавшегося на две фазы вещества. При температуре более высокой, чем критическая, газ ни при каком давлении не может сконденсироваться, т. е. превратиться в жидкость.  [c.103]

Плотность тока насыщения термоэлектронной эмиссии (ТЭ) для эмиттера с однородной поверхностью при слабом внешнем электрическом поле, не влияющем на работу выхода, определяется уравнением Ричардсона — Дэшмана [2]  [c.570]

Основные характеристики термокатодов — работа выхода бф рабочая температура Т плотность тока насыщения ТЭ /э и ее зависимость от температуры скорость испарения активного вещества при рабочей температуре Чисп эффективность катода ti — отношение плотности тока ТЭ к мощности, затрачиваемой на нагревание катода критерий качества катода t — отношение работы выхода к теплоте испарения активного вещества при данной температуре толщина активного слоя d (для однородных катодов — диаметр). Характеристики различных термокатодов приведены в табл. 25.5—25.14 и на рис. 25.4—25.11.  [c.571]

Наконец, в однородном изотропном аморфном сплаве должна отсутствовать макроскопическая магнитная анизотропия. Однако за счет спин-орбитальных взаимодействий и различного типа неоднородностей в аморфных магнетиках все же возникает случайная анизотропия. Нередко она оказывается слабой, и в этоА1 случае низкие значения магнитной анизотропии приводят к легкости перемагничивания аморфных сплавов. В связи с этим многие аморфные магнетики относятся к классу обладающих особой мякостью магнитно-мягких материалов. Так, типичные коэрцитивные силы этих материалов 0,01—0,2 Э, что значительно меньше соответствующих значений для кристаллических сплавов, причем магнитное насыщение достигается в полях —200 Э. Петля гистерезиса мала и имеет прямоугольную форму, вытянутую вдоль оси  [c.290]

Выравнивание температуры в пузырьке происходит во много раз быстрее, чем в жидкости по двум причинам. Во-первых, за счет того, что при одинаковых перепадах температур и температуропроводностях фаз выравнивание температур внутри сферы происходит па порядок быстрее, чем снаружи (см. Nui и Nuj в 8 гл. 2). Во-вторых, за счет того, что температуропроводность пара обычно во много раз больше, чем жпдкостп. Поэтому для описания поведения пара можно использовать схему однородного насыщенного (равновесного) парового пузырька  [c.195]

Режим с малым изменением радиуса пузырька. Рассмотрим такой режим, когда в начальный момент жидкость (г > а) имеет однородную температуру (Ti = T ) и процесс начинается из-за резкого изл енения давления в пузырьке рг и связанной с рг температуры насыщения Taipi), совпадающей с температурой Тх на поверхности пузырька. На начальной стадии, когда размер пузырька после указанного изменения рг пе успел заметно измениться, в уравнении теплопроводности жидкости можно пренебречь конвективной составляющей переноса тепла по сравнению с молекулярной теплопроводностью. Тогда на этой стадии самое сложное уравнение системы (2.6.13) — уравнение с частными производными относительно распределения температуры в жидкости Ti = Ti, нужное для определения si, приближенно может быть записано в таком же виде, как в неподвижной среде  [c.198]

Сущность этого способа заключается в следующем (рис, 22). Перед записью магнитную ленту предварительно намагничивают поперечным однородным постоянным полем до индукции насыщения — (точка А на кривой начального намагничивания). Для этого ее достаточно протянуть между полюсами подключенного к источнику постоянного тока намагничивающего устройства, В результате лента приоб-  [c.49]

На рис. 7-28 показаны зависимости химического потенциала газовой и жидкой фаз данного вещества от давления и температуры. Точка S является следом бино-дали (линии насыщения в устойчивом состоянии парожидкостной системы). Параметры на участке aS характеризуют стабильное, а на участке Sa — метастабильное состояние жидкости. -Граница устойчивых и неустойчивых состояний однородной массы называется спино-далью. Эта граница определяет максимальные перегревы  [c.219]

В результате предварительного насыщения поверхности никелевого сплава никелем и хромом образуется однородный слой (толщиной порядка 15 мкм) твердого раствора хрома в никеле с закономерно, в зависимости от химического состава, изменяющимся параметром кристаллической ре1петки.  [c.172]

Отношение — RilRa- Величина g характеризует усиление поля в зазоре. Для намагниченных однородно вдоль оси до насыщения конических полюсов, у которых образующие пересекаются в одной точке, Монтгомери [62] было получено выражение для 2-компоненты поля в зависимости от  [c.219]

Магнитомягкий сплав с высокой индукцией насыщения Fe o-2V применяется при изготовлении полюсных наконечников прецизионных магнитов. Технология изготовления полюсных наконечников оказывает большое влияние на однородность магнитного поля. Одни авторы связывают однородность поля в зазоре магнита с распределением остаточной намагниченности на лицевой поверхности наконечника [1], которая в свою очередь обусловлена режимами деформирования заготовки и последующими отжигами, другие указывают на зависимость однородности от характера кристаллической структуры [2] или же от радиального изменения магнитных свойств составных полюсных наконечников [3].  [c.195]


Такой интенсивный процесс насыщения можно объяснить механическим перемешиванием перегретых металлов под действием динамических сил, возникающих при поглощении энергии лазерно- "р го излучения поверхностью. Доказательством этому может служить сравнение однородности твердого раствора в зонах, обработанных  [c.28]

Двукратное превышение расчетного давления над экспериментально полученным объясняется завышенным расходом истекающего из реактора теплоносителя, рассчитанного по гидравлической модели с использованием коэффициента расхода, равного 0,61, и плотности насыщенной жидкости. При этом допускалось, что имеет место полное разделение фаз и течет только вода. Давление в реакторе при истечении принималось постоянным. Кроме того, при сопоставлении расчетной модели было принято, что процесс истечения теплоносителя в оболочку (сухой колодец) квазистабилен, что вся масса пароводяной смеси и воздуха проходит через перепускной патрубок в камеру снижения давления и воды в сухом колодце не остается. Смесь при этом принималась однородной и находящейся в термодинамическом равновесии как в сухом колодце, так и в любой точке вдоль пути перепуска.  [c.102]

Если однородной фазой является насыщенный пар, то при прочих равных условиях рассчитанный коэффициент теплопроводности равен 0,149 ккал1(ч-м-° С). Измерения, выполненные на облученном горючем с толстым слоем отложений, не соответствуют столь низким значениям коэффициента теплопроводности.  [c.27]


Смотреть страницы где упоминается термин Насыщение однородно : [c.150]    [c.147]    [c.289]    [c.225]    [c.138]    [c.310]    [c.318]    [c.336]    [c.20]    [c.221]    [c.121]    [c.277]   
Принципы лазеров (1990) -- [ c.77 ]



ПОИСК



Насыщение

Насыщение поглощения однородно уширенная линия

Насыщение усиления однородно уширенная линия

Насыщенность

Однородность тел

Пар насыщенный



© 2025 Mash-xxl.info Реклама на сайте