Испарение и последующая конденсация в вакууме

Получение тонкослойных керамических покрытий испарением и последующей конденсацией в вакууме встречает затруднения, так как при нагревании в вакууме окислы подвергаются термической диссоциации. Распад окислов происходит тем интенсивнее, чем больше разница между величинами давления диссоциации соответствующего соединения и давления кислорода в реакционном объеме. [c.38]

Электронно-лучевая установка УЭ-193 нового поколения для плавки и испарения материалов в вакууме предназначена для переплава металлов и получения из них слитков (цилиндрических и плоских), получения композиционных материалов испарением с последующей конденсацией металлов и неметаллов, осаждения покрытий различного функционального назначения путем испарения и последующей конденсации парового потока на изделия с плоской и цилиндрической поверхностью. [c.434]

Первые работы в этом направлении были выполнены в 1912 году [19, 20] изучение испарения Zn, d, Se и As в вакууме, а также в водороде, азоте и углекислом газе показало, что размер получаемых частиц зависит от давления и атомной массы газа. Авторы [21] испаряли золото с нагретой вольфрамовой нити и при давлении азота 0,3 мм рт. ст. (40 Па) получили в конденсате сферические частицы диаметром от 1,5 до 10 нм. Они обнаружили, что размер частиц зависит от давления газа и в меньшей степени от скорости испарения. Конденсация паров алюминия в Hj, Не и Аг при различном давлении газов позволила получить частицы размером от 100 до 20 нм [22]. Позднее методом совместной конденсации паров металлов в Аг и Не удалось получить высокодисперсные сплавы Аи—Си и Fe—Си, образованные сферическими частицами диаметром 16—50 нм [23, 24]. Вариантом конденсации пара металла в газовой атмосфере является предложенный еще в XIX веке метод диспергирования металла с помощью электрической дуги в жидкости и последующей конденсации металлического пара в парах жидкости [25] позднее этот метод был усовершенствован авторами [26—28]. Первый об- [c.17]

Физическими методами испарения и конденсации можно наносить любые испаряющиеся без разложения вещества. Механизм конденсации насыщенного пара характерен для образования покрытий на инертной поверхности (низкая температура, нерастворимость конденсирующегося вещества в субстрате). При получении покрытий методами термического испарения с последующей конденсацией паров область испарения и область конденсации разделяются пространственно и между ними создается большой градиент температур. Испаряющееся вещество может находиться как в расплавленном (например, А1, 2п, Си, С(1, Ag, РЬ, И, Сг, N1), так и в твердом (например, В, С, 51, Мд, Мо) состояниях. Процесс ведется в вакуумных камерах. Давление остаточных газов в них не должно превышать 6,7-10" Па (5-10 мм рт. ст.). Высокий вакуум обеспечивает прямолинейность траектории полета атомов от испарителя к субстрату ( атомно-молекулярные пучки в вакууме ) и чистоту конденсированного слоя [35]. [c.38]

Процесс вакуумной металлизации заключается в испарении материала покрытия в глубоком вакууме и последующей конденсации его на поверхностях покрываемых изделий. Испаряемый металл нагревают до температуры плавления разность между упругостью пара расплавлен- [c.21]

Таким образом, было показано, что метод испарения и конденсации в вакууме пригоден для изготовления тонкой медной фольги, причем имеются большие возможности в управлении ее свойствами в широком диапазоне путем изменения условий конденсации пара и последующего отжига фольги. [c.261]

Сущность метода сублимации-конденсации заключается в возгонке (или испарении) исходного вещества и последующей конденсации паров на растущей поверхности. Метод характеризуется тем, что состав растущего кристалла практически идентичен составу источника, а паровая фаза состоит только из атомов или молекул, образующих источник и кристалл. В зависимости от паровой среды массоперенос в замкнутых системах осуществляется либо молекулярными пучками (в вакууме), либо молекулярной или конвективной диффузией. Лимитирующей стадией роста обычно является массоперенос подвод кристаллизующегося материала к поверхности роста. Рост кристалла происходит в диффузионной области. [c.258]

Изолированные наночастицы обычно получают испарением металла, сплава или полупроводника при контролируемой температуре в атмосфере инертного газа низкого давления с последующей конденсацией пара вблизи холодной поверхности или на ней. Это самый простой способ получения нанокристаллических порошков. В отличие от испарения в вакууме, атомы вещества, испаренного в разреженной инертной атмосфере, быстрее теряют кинетическую энергию из-за столкновений с атомами газа и образуют сегрегации (кластеры). [c.17]

Нитевидные кристаллы могут быть получены выращиванием из пересыщенной газовой фазы. Так как в этом случае усы растут вследствие притока атомов из газовой фазы, то с повышением температуры скорость роста и диаметр усов увеличиваются. Процесс проводят в предварительно вакуумированном сосуде, по длине которого создают перепад температур, зависящий от характера материала получаемых усов. Испарением в вакууме с последующей конденсацией паров получают усы цинка, серебра, платины, бериллия, кремния и других металлов. Усы железа, серебра, меди и некоторых других металлов можно получить электролитическим осаждением. [c.182]

Предлагаемая книга посвящена нанесению покрытий в вакууме на различные материалы, т. е. покрытий, получаемых испарением металлов в вакууме с последующей конденсацией их паров на защищаемой поверхности. Материалом для книги явились результаты исследований, проведенных в лаборатории Одесского технологического института им. Ломоносова, а также в лабораториях СССР и за рубежом. [c.3]

Влияние подслоя олова. После пескоструйной обработки на сталь испарением в вакууме при температуре конденсации 180— 200° С наносили подслой олова с последующим осаждением 2п или Сс1 при той же температуре [89 ]. Давление в камере при осаждении подслоя и основного покрытия было порядка 5-10 Па, 144 [c.144]

Сравнение методов алюминирования затруднено из-за различных свойств, толщины и назначения покрытий. В табл. 38 приведены наиболее характерные для каждого из сравниваемых методов данные о толщине покрытий, размерах стальной полосы, скорости движения при металлизации, производительности промышленных агрегатов и т. д. Из анализа данных табл. 38 следует, что наиболее универсальным способом является испарение в вакууме, так как имеется возможность регулировать в широких пределах толщину покрытий, отсутствуют хрупкие диффузионные слои между покрытием и основой, и ее механические свойства не ухудшаются. При равных толщинах покрытия, наносимые в вакууме, обладают меньшей пористостью, чем покрытия, полученные методом электрофореза и погружением в расплав. Адгезия и внешний вид покрытий получаются достаточно хорошими без всякой дополнительной обработки, в то время как при других методах нанесения необходим высокотемпературный отжиг и последующая прокатка стали с покрытием. Вакуумный метод нанесения является наиболее производительным (в расчете на единицу поверхности покрытия), что обусловлено большой скоростью движения полосы и высокой скоростью конденсации паров металла в вакууме. [c.223]

При получении медной фольги барабан диаметром 1,8 и длиной 1,5 м вращается так, что линейная скорость движения поверхности конденсации составляет 0,5 1,25 м/с. Температура поверхности барабана при помощи систем электронно-лучевого нагрева и водяного охлаждения поддерживается в диапазоне 135—155° С, что обеспечивает наилучшие условия для последующего отделения фольги от подложки (фольга отделяется в атмосфере). Графитовый испаритель располагается на расстоянии 15—45 см от поверхности конденсации, вакуум в рабочей камере составляет 2,7-10 Па. Для получения фольги из тугоплавких металлов, так же как при нанесении покрытий из этих металлов, испарение производят из водоохлаждаемого медного тигля. [c.257]

Соленая вода проходит через отстойник 1 и деаэратор 2, подается в колонну 3, где нагревается теплоносителем. Затем по трубе 4 н гретая соленая вода поступает в многоступенчатый адиабатный испаритель 5, в котором вакуум поддерживается паровым эжектором 6. Вода последовательно проходит через камеры мгновенного испарения I—V, пар конденсируется в особом отделении каждой камеры на каплях подаваемого из последующей камеры более холодного дистиллята. Из ступени I дистиллят перекачивается в теплообменник 7, подогревается паром и проходит сверху вниз через колонку 5, нагревая капли гидрофобного теплоносителя, поступающего из колонны 3. Часть охлажденного дистиллята по трубе 9 отводится, остальной дистиллят по трубе 10 возвращается в ступень V испарителя для конденсации пара. Трудности осуществления этих установок заключаются в необходимости применять теплоноситель, практически нерастворимый в воде, не сорбирующей из [c.165]

Металлические покрытия наносят электроосаждением, погружением в расплавленные металлы, металлизацией напьшением, химическим осаждением солей, диффузией и т. д. В последнее время все большее распространение получает нанесение покрытий в вакууме. В этом случае покрытия получают испарением металлов в вакууме с последующей конденсацией паров на защищаемой поверхности. Этим способом производят алюмини-рование, кадмирование и цинкование в вакууме стальных деталей. [c.496]

Ход кривых при щелочном обезжиривании (рис. 98) почти такой же, как при промывке образцов в спирте. Максимальная адгезия получена у покрытий, содержащих 30—40% Zn, при температуре конденсации 300° С (более 0,016 ГПа). В случае применения предварительного прогрева до 650—700° С в вакууме с последующим охлаждением происходит интенсивное испарение жировых пленок, адсорбированных газов и других загрязнений. Кроме того, при высоких температурах разрушаются окисные пленки, что благоприятно сказывается на прочности сцепления покрытий. После такой обработки достаточно высокая адгезия была получена при низких температурах конденсации 30—50° С (рис. 99). Однако при повышении содержания цинка до 60—70% адгезия резко ухудшалась, и прочность сцепления более 0,016 ГПа была достигнута для сплавов, богатых цинком, и для чистого цинка лишь при температуре2120—150° С. [c.191]

Оксид цинка можно получить при сжигании или окислений цинка, обжигом на воздухе сернистого цинка, при прокаливании солей, осаждением аммиаком из кипящего водного раствора азотнокислого цинка. Компактные образцы ZnO получают прессованием заготовок из порошкообразного соединения и их последующим спеканием. Тонкие пленки ZnO производят испарением, а потом конденсацией цинка на подложку в вакууме с последующим окислением пленки металла при нагревании в атмосфере кислорода либо реактивным двухэлектродным ионным распылением цинка в атмосфере Аг + О2. Оксид цинка широко применяется в радиоэлектронике для изготовления самоактивированного люминофора ZnO.Zn, в качестве светочувствительного слоя электрофотографических бумаг. [c.659]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...