Осаждение гальванических покрытий

Описаны современные методы наводороживания и водородной хрупкости сталей при осаждении гальванических покрытий. Обобщены представления о механизмах процесса абсорбции водорода катодной основой при формировании электролитического осадка. Дан детальный анализ методов снижения и устранения наводороживания и водородной хрупкости сталей при гальванической обработке. Приведены практические рекомендации по контролю процесса наводороживания и водородной хрупкости высокопрочных и пружинных сталей. [c.318]

Электролиты, используемые для осаждения гальванических покрытий, должны отвечать следующим требованиям [c.220]

После нанесения гальванических покрытий размеры деталей изменяются. Осаждение гальванических покрытий происходит с неизбежной неравномерностью слоя по толщине. Для простейших деталей типа вал неравномерность толщины слоя покрытия можно считать равной минимальной толщине. Для улучшения равномерности толщины покрытия необходимо притуплять острые кромки деталей фасками или закруглять их. [c.647]

В результате осаждения гальванических покрытий чистота поверхности изделий может повышаться на 2— 3 класса. Это достигается как подготовкой поверхности перед покрытием, так и последующей его полировкой. [c.676]

Разработан также прибор, позволяющий определять толщину в процессе осаждения гальванических покрытий. [c.264]

Анодирование алюминия в фосфорной кисло-т е перед последующим осаждением гальванических покрытий производится в растворе, содержащем 250—500 г/л фосфорной кислоты. Плотность тока 1,2—2 А/дм . Температура 15—25° С, продолжительность обработки 10—15 мин. Для лучшего ведения процесса желательно повыщенное напряжение (30—60 В) и перемешивание электролита сжатым воздухом. Толщина получаемой пленки около 3 мкм. [c.113]

ПОКРЫТИЕ КОНТАКТНЫМ ОСАЖДЕНИЕМ (ГАЛЬВАНИЧЕСКИЕ ПОКРЫТИЯ) [c.207]

Во всех случаях применения гальванопластики используются особые свойства первичного мелкокристаллического слоя металла, образующегося в самом начале осаждения гальванических покрытий. Осадок вследствие тончайшей структуры обладает способностью заполнять мельчайшие штрихи катодной поверхности матрицы, давая точное воспроизведение последней. Таким образом, если изготовить матрицу с обратным изображением нужной конфигурации, то после гальванопластического наращивания и отделения формы получается полая деталь прямого изображения, причем в детали будут совершенно точно воспроизведены размеры матрицы и обработка ее поверхности. [c.159]

ОСАЖДЕНИЕ ГАЛЬВАНИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ НА ХРОМИСТЫЕ И ХРОМОНИКЕЛЕВЫЕ СТАЛИ [c.424]

Снижение трудоемкости механической подготовки изделий перед осаждением гальванических покрытий достигается механизацией процессов. При массовом выпуске однотипной продукции особенно целесообразно применение станков-автоматов или полуавтоматов. [c.11]

ПЕРЕД ОСАЖДЕНИЕМ ГАЛЬВАНИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ [c.40]

Лужение деталей из алюминиевых сплавов. В технологии приборостроения весьма часто возникает необходимость пайки мягкими припоями деталей из различных металлов к деталям из алюминиевых сплавов. Эта задача решается различными способами применением специальных флюсов, ультразвуковых паяльников или ванн. Наиболее простым методом осуществления пайки является нанесение на алюминий гальванического покрытия, поверхность которого воспринимает пайку с использованием обычных флюсов. Существуют различные варианты процессов осаждения гальванических покрытий алюминия, однако наиболее надежные результаты с точки зрения получения прочного сцепления достигаются при непосредственном никелировании во фторидном электролите [7]. На слой никеля толщиной 9—12 мкм осаждается затем олово (или его сплавы), которое и обеспечивает выполнение операции пайки. Рекомендуется следующая последовательность операций травление в горячем щелочном растворе, промывка, осветление в растворе азотной кислоты, промывка, никелирование, промывка, термическая обработка, электролитическое декапирование, промывка, лужение, промывка и сушка. [c.35]

Осаждение гальванических покрытий на детали из А1 и его сплавов без [c.240]

Этот вид серебрения наиболее часто применяется при изготовлении зеркал, для создания электропроводного слоя на деталях из керамики, стекла и пластмасс, в оптической промышленности при изготовлении интерферометров. В ряде случаев серебряный слой, полученный химическим путем, служит подслоем для последующего осаждения гальванических покрытий, [c.19]

Наряду с декапированием применяется процесс пассивирования поверхности металла перед осаждением гальванических покрытий. Этот процесс связан не с удалением окисных пленок, а напротив с образованием очень тонкого [c.79]

Проводятся обширные исследования по изучению процесса осаждения хрома и растворов на основе хлорида трехвалентного хрома, которые обеспечивают более высокие эффективность катода и скорость осаждения в сочетании с более низкими рабочими температурами. Гальванические покрытия хромом, образующиеся в ваннах трехвалентного хрома, немного темнее покрытий, получаемых в ваннах из растворов шестивалентных ионов хрома в присутствии серной кислоты. [c.92]

Для определения толщины покрытия свинцово-оловянистых (из сплавов типа ПОС), осажденных гальваническим путем применяется метод струйного электрохимического растворения, и прибор, представленный на рис. 92. Прибор конструктивно мало отличается от прибора для определения толщины покрытий струйно-периодическим вариантом различие заключается в том, что в стеклянную трубку 1 установлена дополнительная стеклянная трубка с впаянной на конце платиновой проволокой 2, которая является катодом. В качестве анода служит контролируемая деталь 4. Прибор подключается к источнику постоянного тока — батарее сухих элементов 6. [c.101]

Образцы представляют собой цапфы с конусными хвостовика ми. Испытания гальванических покрытий показали, что прочность их зависит как от прочности материала основания, режима термической обработки, так и от режима осаждения покрытий. Испытаниями можно установить наиболее целесообразные покрытия и уточнить области их применения. [c.62]

Кудрявцеве. Н., ПеданК-С. Наводороживание и водородная хрупкость сталей при осаждении гальванических покрытий. — 15 л. — 3 р. [c.318]

Баташов К. П. Осаждение гальванических покрытий на титан и его сплавы. ЛДНТП, вып. 6—7, сер. Защитные покрытия металлов , 1959. [c.354]

Наряду с декапированием, в последнее время получает большое распространение процесс пассивирования поверхности металла перед осаждением гальванических покрытий. Этот процесс связан не с удалением окисньк пленок, а, напротив, с образованием очень тонкого оксидного слоя на металле. Если этот слой имеет значительную толщину, прочность сцепления покрытия с поверхностью изделия будет низкой. Но при малой толщине и определенной структуре слоя достигается хорошее сцепление основного металла с покрытием и уменьтрстся его пористость. Было [c.40]

С поверхности листового холоднокатанного материала продукты коррозии могут быть удалены в разбавленных растворах серной или соляной кислот с применением переменного тока плотностью 3—5 А/дм . Для подготовки такого материала перед осаждением гальванических покрытий используют электролит, содержащий 80—100 г/л H2SO4 и 50—60 г/л FeS04 при t = 50-Ь60 °С, i = 4-I-6 А/дм с реверсированием постоянного тока при продолжительности катодного и анодного периодов 2—3 с. [c.63]

Травление резьбовых стальных деталей. Осаждение гальванических покрытий на резьбовые детали — винты, шурупы, гайки всегда связано с трудностями из-за неравномерности толщины покрытия у основания и вершины резьбы, что влечет за собою нарушение свинчиваемости сопряженной пары. Поэтому для таких деталей снижают толщину покрытий, что может неблагоприятно сказаться при эксплуатации изделий. Этих неприятностей можно избежать, применяя размерное травление, основанное на реакции контактного обмена. Как известно, при погружении железа в раствор сульфата меди происходит его растворение и одновременное выделение на поверхности обрабатываемых деталей рыхлого слоя меди. Если этот слой механически удалить, то реакция контактного обмена будет продолжаться и на оголившихся участках железа снова выделится медь. Толщина стравливаемого таким путем железа будет определяться лишь содержанием в растворе ионов меди. Количество Си504-5Н20, требуемое для занижения размера деталей на определенную величину, можно определить по формуле = 0,58пЬ, где 5 — площадь обрабатываемой детали, дм п — число одновременно обрабатываемых деталей, шт Ь — требуемое занижение толщины детали, мкм 0,5 — переводной коэффициент. Например, для занижения размера 1000 шт. винтов с цилиндрической головкой на 10 мкм при длине винта 10 мм и диаметре резьбы М3, М5, Мб потребуется соответственно ПО, 218, 295 г сульфата меди. [c.64]

Применение металлизации для нанесения достаточно толстых (свыше 2,5 мкм) покрытий в первую очередь потребовалось для защиты от коррозии деталей из высокопрочной стали. Органические покрытия для них непригодны, так как детали часто находятся при температуре выше 100° С. Гальванические кадмиевые покрытия, хотя и обеспечивают хорошую защиту от коррозии, также малопригодны для ответственных деталей самолетов, ракет и космических аппаратов, требующих 100%-ной надежности, так как высокопрочные стали в процессе травления в растворах кислот и щелочей, а также в процессе осаждения гальванического покрытия наводороживаются и становятся хрупкими. Процесс нанесения покрытий в вакууме полностью устраняет опасность водородной хрупкости. [c.132]

Вспомогательное время делится на перекрываемое и непере-крываемое основным временем. В оперативное время не включаются те элементы вспомогательного времени, которые могут быть выполнены во время работы оборудования или протекания того или иного процесса при восстановлении деталей, например процесса осаждения гальванических покрытий. [c.347]

Осаждение по оксидной пленке. Особенность анодного окисления — возможность непосредственного осаждения гальванических покрытий на окисиую пленку без проведения последуюнгей обработки. Оксидные пленки, полученные при анодном окислении в H. POi, тонкие, [c.9]

Осаждение гальванических покрытий на детали из меди и ее сплавов проводится, как правило, по подслою (Си, Ni, Ag). Осаждение Ni, Sn проводится по предварительно омедненной поверхности. Подслой наносят из цианистого медного электролита толщиной 3— 6 мкм. Для бронз предварительное меднение в цианистом электролите обязательно. Защитно-декоративное и защитное хромирование осуществляется по подслою N1, а износостойкое хроглирование — без подслоя. Цинкование и кадмирование деталей из Си и ее сплавов проводится также без подслоя. [c.17]

Гальванические покрытия. Принципы получения гальванических покрытий основаны на осаждении на поверхности защн-гцаемых металлов катионов из водных растворов солей при пропускании через них постоянного электрического тока от внешнего источника. Защищаемый металл при этом является катодом, а анодами служат пластины осаждаемого металла (растворимые аноды) либо пластины графита или металла, нерастворимого в электролите (нерастворимые аноды). В первом случае при замыкании электрической цепи металл анода растворяется, а из раствора на катоде выделяется такое же количество металла, так что концентрация раствора соли в процессе электролиза практически ие изменяется. При проведении процесса с нерастворимыми анодами постоянную концентрацию раствора поддерживают периодическим введением требуемых количеств соответствующей соли. [c.319]

Одной из наиболее частных причин преждевременного выхода машины из строя является коррозия. В конструкции машин, особенно работающих на открытом воздухе, в условиях повышенной влажности йли в химически активных средах, следует предусматривать эффективные средства защиты, применяя гальванические покрытия (хромирование, никелирование, омеднение), осаждение химических пленок (фоефатирование, оксидирование), нанесение полимерных пленок (капронизация, политени-зация). I [c.33]

Широкое применение, особенно в машиностроении, для защиты от атмосферной коррозии находят гальванические покрытия, которые получаются катодным осаждением заш,ищающего металла или сплава из водных растворов, содержащих катионы металла — покрытия. Металлические покрытия получают также химическими методами путем восстановления ионов металла е помощью веществ-восстановителей, находящихся в растворе. [c.49]

Хотя никель корродирует в активной области с образованием ионов Ni2+, эта реакция требует гораздо более высокого активационного перенапряжения, чем анодное растворение таких обратимых металлов, как Си и Zn. Однако для никеля перенапряжение значительно уменьшается, когда в растворе присутствуют ионы сульфидов. Это явление учитывается при производстве электролитических никелевых анодов, используемых для гальванического никелирования. Аноды получают в никелевой ванне, содержащей органическое сернистое соединение, из которого определенное количество серы (0,02%) выпадает в осадок. Такие аноды разрушаются довольно равномерно по сравнению с анодами, не содержащими серы, и при более отрицательном коррозионном потенциале. Аналогичным образом происходит осаждение блестящего гальванического покрытия в ванне с органическими сернистыми соединениями, которые используются как выравниватели и блескообразова-тели. Осадки, содержащие серу, являются более активными электрохимически и поэтому имеют при той же плотности тока более отрицательный потенциал, чем матовый осадок никеля, получаемый в простой ванне Ватта. Это явление используется для защиты стали двухслойным никелевым покрытием. [c.40]

Неконтролируемые включения в покрытиях. Как известно, осаждению ряда металлов при электролизе предшествует образование высокодисперсных или коллоидных систем в околокатодном пространстве. Коллоидные частицы принимают непосредственное участие в образовании определенной структуры гальванического покрытия. Их соосаждение на катоде приводит к существенному отличию свойств гальванических покрытий (Ni, Fe и др.) от металлургических компактных металлов. В цинковых покрытиях, полученных из сульфатного электролита, найдено до 3,5% оксидов. В осадках из цианидного электролита обнаруживают до 3% оксидов и цианидов. Это максимальные значения естественных включений, обычно они меньше, и определить их труднее. При соосаждении дисперсных частиц с чистыми гальваническими покрытиями содержание включений больше, и оно легко регулируется. [c.35]

Плотность тока. Известно, что при более высоких плотностях тока (большая скорость осаждения) возможно цементирование гальваническим покрытием твердых частиц шлама в больших количествах, чем при малой плотности тока. В последнем случае налипшие к поверхности частицы могут перемещаться -вместе с растущим осадком, не за-растая им. Значительным поглощением шлама при высоких значениях г к объясняют иногда повышенную шероховатость осадков. Аналогичная закономерность наблюдается и при осаждении КЭП. Так, при железнении iB результате повышения плотности тока с 0,5 до 10 кА/м увеличивается относительпое содержание в осадке частиц больших размеров. КЭП серебро — корунд из цианидного электролита образуется только при 1к>0,1 кА/м . Медные покрытия при высоких плотностях тока содержат до 75% (об.) графита, а при низких плотностях — лишь до 10%. [c.65]

Допустив, что оптимальными для электрофореза условиями являются макс=+0,1 В, У=100В/м, 8н20=81 и rjH o—1 мПа-с, получаем скорость переноса частицы V=7 мкм/с, что в сотни раз превышает скорость осаждения покрытия. При неблагоприятных для электрофореза условиях ( =+0,003 В, е=бО, U=10 В/м, г) = 2 мПа-с) получим V=7 нм/с, т. е. величину такого же порядка, как и скорость осаждения многих гальванических покрытий. Таким образом, электрофорез i no o6-ствует переносу частиц к поверхности катода в количествах, достаточных для получения КЭП с содержанием частиц менее 1—5% (масс.). [c.75]

Электрофоретические осадки можно упрочнять и гальваническими осадками. Описаны материалы [1, с. 150], включающие частицы M0S2, UO2, АЬОз, Si , V . Толщина покрытий 25—50 мкм при разовом осаж дении и до 750 мкм при многократном. Связующим мо жет быть никель и кобальт, осажденные гальванически или химически, или никель, полученный восстановлени ем его оксида, осажденного одновременно с керамиче скими материалами. [c.237]

При организации контроля гальванических покрытий, наносимых в стационарных ваннах, также необходимо предварительно установить опытным путем наиболее слабые участки на подвесочных приспособлениях, на которых медленее всего идет осаждение покрытия, и указать в технологической документации именно эти участки для отбора проб на испытание. Это обеспечит контролерам уверенность в качестве всей загрузки. [c.537]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...