Плазма низкотемпературная

К) плазмы. Низкотемпературная плазма может иметь в своем [c.389]

Плазма низкотемпературная 350, 700 Пластина шероховатая 605 Пластичность жидкости 356, 390 Плоскость годографа скорости 171, 251 [c.733]

Принцип газоэлектрической резки заключается в использовании подогревающего действия электрической дуги, которая горит между электродом и разрезаемым изделием. При газоэлектрической резке используют низкотемпературную плазму. Низкотемпературную плазму получают обычно в электрической дуге, поэтому ее называют также дуговой или газоразрядной плазмой. [c.200]

Принцип газоэлектрической резки заключается в использовании подогревающего действия электрической дуги, которая горит между электродом и разрезаемым изделием. При газоэлектрической резке используют низкотемпературную плазму. Низкотемпературную плазму получают обычно [c.193]

Плавку стали в плазменно-дуговых печах применяют для получения высококачественных сталей и сплавов. Источник теплоты в этих печах — низкотемпературная плазма (30 000°С), получаемая в плазменных горелках. В этих печах можно создавать нейтральную среду заданного состава (аргон, гелий). Плазменно-дуговые печи позволяют быстро расплавить шихту, а в нейтральной газовой среде происходит дегазация выплавляемого металла, легкоиспаряющиеся элементы, входящие в его состав, не испаряются. [c.48]

Плазмотроны, создающие струи плотной низкотемпературной плазмы, широко применяют в различных областях техники. В частности, с их помощью режут н сваривают металлы, накосят покрытия. [c.290]

Что такое низкотемпературная и высокотемпературная плазма, а также плазмотрон [c.307]

Что такое высокотемпературная и низкотемпературная плазма [c.328]

Физико-металлургические основы процесса напыления. В различных областях металлургии применяется низкотемпературная плазма, степень ионизации составляет около 1%. Необходимым условием существования плазмы является ее квазинейтральность, т.е. отсутствие заметного избытка одних зарядов над другими. [c.434]

Диссоциативная рекомбинация. Этот процесс является основным каналом нейтрализации заряженных частиц в низкотемпературной плазме, где основным сортом положительных ионов являются молекулярные ионы [15] [c.399]

Излучение абсолютно черного тела с температурой 2000 К при длине волны 1,5 мкм проходит через слой низкотемпературной воздушной плазмы, имеющей температуру 12 ООО К и давление 0,1 МПа. Определить интенсивность выходящего пучка излучения а) без учета собственного излучения плазмы б) суммарную интенсивность с учетом собственного излучения. Толщина слоя плазмы 10 см, коэффициент поглощения при указанных условиях принять равным 40 1/м. [c.286]

Плазма, используемая для создания МГД генераторов, называется низкотемпературной в отличие от высокотемпературной плазмы, исследуемой в работах по созданию регулируемой термоядерной реакции). [c.196]

Плазма — это уникальное рабочее тело качественно новой энергетической техники. Она может быть и низкотемпературной (до 10 К), и высокотемпературной (более 10 К). Низкотемпературная плазма используется в магнитогидродинамических (МГД) генераторах и термоэлектронных преобразователях (ТЭП), а высокотемпературная плазма -в термоядерных энергетических установках. Плазма применяется также в лазерах в качестве активной среды (например, в газоразрядных лазерах) или источника возбуждения лазерной активной среды (электронная накачка). [c.280]

В МГД-генераторе используется низкотемпературная плазма (Т 3000 К), движущаяся с большой скоростью wx 1000 м/с) поперек магнитного поля, создаваемого специальными сверхпроводящими магнитными системами. Использование МГД-генератора позволяет повысить КПД тепловой электростанции от 40 — 42 до 50%, а в перспективе и до 60%, обеспечивает значительную экономию топлива, уменьшение тепловых потерь и выбросов вредных веществ в окружающую среду. [c.289]

Если раньше эти вопросы возникали в химической и нефтеперерабатывающей промышленности, то в последнее время они приобрели более широкое значение особенно в связи с использованием низкотемпературной плазмы, освоением космоса, прогресса в атомной промышленности и в ряде других областей техники. [c.113]

Свойства низкотемпературной плазмы и методы ее диагностики. [c.208]

С освоением низкотемпературной плазмы, электронного луча в вакууме и луча квантового оптического генератора появилась возможность концентрировать энергию источника в малых объемах, а значит, точно ее дозировать, с большим совершенством управлять технологическими процессами. Это открыло дорогу их применению в качестве энергетических источников для получения композиционных материа-. лов. Пользуясь плазменным и электронно-лучевым напылением, можно металлизировать высокопрочные высокомодульные волокна бора, карбида кремния и> бериллия в доли миллиметра, не разрушая их. [c.140]

Генераторы низкотемпературной плазмы. Под ред. [c.385]

Рис. 5-31. Усовершенствованный аппарат с электропроводным псевдоожижен-ным слоем в качестве одного из электродов генератора низкотемпературной плазмы [Л. 467].

ФОТОРЕЗОНАНСНАЯ ПЛАЗМА — низкотемпературная плазма, образующаяся в результате воздействия на газ монохроматич. излучения, частота к-рого соответствует энергии резонансного перехода в атоме газа. Впервые такой способ создания плазмы был реализован в 1930 Моллером и Бокнером, наблюдавшими появление ионов при облучении паров цезия излучением резонансной цезиевой лампы. Детальные исследования Ф. п. начались в 1967 также с использованием резонансного излучения газоразрядных ламп. Возможности исследования Ф. п., а также круг её применений существенно расширились после создания перестраиваемых по частоте лазеров на жидких красителях. Это позволило значительно увеличить пропускаемые через газ потоки резонансного излучения, а также расширить класс атомов, на основе к-рых получена Ф. п. [c.358]

Низкотемпературная плазма (температура IOOOK) находит применение в газоразрядных источниках спета и в газовых лазерах, в термоэлектронных преобразователях тепловой энергии в электрическую и Б магиитогидродннамических (МГД) генераторах. [c.290]

Работу ракетного двигателя можно представить в виде последовательности квазиравновесных процессов, таких как нагревание топлива, его горение, расширение продуктов сгорания до давления истечения из сопла. Особенность их состоит в зависимости химического состава продуктов сгорания от условий проведения процесса. Термодинамика позволяет рассчитать равновесный молекулярный состав газов на каждом из этапов работы двигателя, если известны необходимые свойства исходных веществ и продуктов сгорания. В итоге удается отделить термодинамические задачи от газодинамических и оценить удельную тягу двигателя при заданном топливе или, не прибегая к прямому эксперименту, подобрать горючее и окислитель, обеспечивающие необходимые характеристики двигателя. Другой пример — расчет электропроводности низкотемпературной газовой плазмы, являющейся рабочим телом в устройствах для магнитно-гидродинамического преобразования теплоты в работу. Электропроводность относится к числу важнейших характеристик плазмы она пропорциональна концентрации заряженных частиц, в основном электронов, и их подвижности. Концентрация частиц может сложным образом зависеть от ис- ходного элементного состава газа, температуры, давления и свойств компонентов, но для равновесной плазмы она строго рассчитывается методами термодинамики. Что касается подвижности частиц, то для ее нахождения надо использовать другие, нетермодипамические методы. Сочетание обоих подходов позволяет теоретически определить, какие легкоионизирующиеся вещества и в каких количествах следует добавить в плазму, чтобы обеспечить ее требуемую электропроводность. [c.167]

ОБ ЭФФЕКИВНОСТИ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ НЕРАВНОВЕСНОЙ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ПЛАЗМЫ В ТЕХНОЛОГИИ ОТДЕЛКИ ТЕКСТИЛЬНЫХ МАТЕРИАЛОВ [c.91]

Данный вид отделки достигается огнестойкой пропиткой (ОП). При работе по обычной технологии под отделку ОП используютс ткани полульняные (с содержанием льна — 50% и хлопка — 50%), я их стойкость к горению составляет 7—10 секунд. Мы првдположилк, что повысить огнестойкость можно предварительной активацией йе подготовленной ткани низкотемпературной плазмой. [c.91]

Энергия сродства к протону (РЛ) соответствует энергии, выделяющейся при присоединении к нейтральному атому или молекуле протона (Н+), и является основной характеристикой газофазных процессов перехода протона при столкновениях частиц в низкотемпературной плазме. Универсальное определение искомой величины РА основач.0 на рассмотрении гипотетической реакции [c.420]

Плазмой называется вещество, находящееся в частично или полностью ионизованном состоянии и состоящее из положительно и отрицательно заряженных частиц в такой пропорции, что общий заряд равен нулю. Следовательно, плазма — это электрически нейтральная в ма>кроскопическом масштабе смесь, в каждом кубическом сантиметре которой содержится электронов, П1 положительных ионов, а в низкотемпературной плазме еще и нейтральных атомов или молекул. Плазму часто называют четвертым состоянием вещества, так как ев свойства резко отличаются от свойств тех же веществ, находящихся во всех других известных состояниях. [c.383]

Получение п./щзмы низкотемпературной и особенно высокотемпературной связано с большими техннческилЯи трудностями. Для получения низкотемпературной плазмы широко применяют так на.зывае- [c.384]

Всевозрастающий интерес ученых, инженеров и технологов к физике плазмы связан с необходимостью решения ряда важнейших фундаментальных и прикладных задач, в которых плазма должна выполнять сложную роль и высокотемпературного рабочего тела, и носителя электрических зарядов, и источника электромагнитных излучений в широком диапазоне длин воли, н электромагнитной силовой динамической системы, и активной среды с инверсной населенностью. К таким задачам относятся создание управляемых термоядерных реакторов, магиитогидродинамических преобразователей тепловой энергии в электрическую, электрореактивных плазменных ДЕ)И1 ателей для космических аппаратов, мощных лазеров на основе низкотемпературной плазмы сложного состава в качестве активной среды, гмазмохи-миЧеских реакторов, плазменно-технологических установок для плй вки резки, сварки и пайки металлов, нанесения различных покрытий и др. [c.384]

Подводя итоги экспериментам по нанесению покрытий с по-мош ью низкотемпературной плазмы, можно сделать заключение о безусловной перспективности метода нанесения двуслойных покрытий для заш,иты металлов, в частности стали, от воздействия, атмосферы при повышенных температурах, а также действия расплавленных сред, не растворяюш их окись алюминия. [c.215]

В ионно-плазменных методах нанесения покрытий используется также низкотемпературная плазма. Наиболее распространена КИБ-конденсация из плазменной фазы в условиях ионной бомбардировки поверхности. Некоторые практические вопросы нанесения ионноплазменных покрытий изложены в обзорах А. И. Григорова и О. А. Елизарова [12] и Л. М. Джеломановой [13]. [c.12]

Появлению намагниченности могут способствовать многие факторы, например тепловые возмущения, существенная неравномерность тепловых потоков по высоте и периметру труб, изменение температуры стенки, действие мазутного факела как низкотемпературной плазмы, акустоэлектрический эффект вследствие работы отрыва паровых пузырей и их захлопывания. Рассмотрение этих процессов в динамике показывает, что важнейшим фактором следует считать именно термоволновой эффект. Очевидно, эффект проявляется в наибольшей мере в мазутных котлах давлением 110-155 кгс/см на участках с высокой тепловой нагрузкой, особенно при нарушении стабильного пузырькового кипения, в результате чего максимум магнитной индукции наблюдается вдоль образующей экранной трубы, наиболее выступающей в топку. Действие такой магнитной ловушки оказывается достаточным для образования отложений на узком участке внутренней поверхности парогенерирующей трубы вдоль указанной образующей даже в условиях весьма незначительного содержания взвешенных ферромагнитных примесей в котловой воде. Наблюдаемое в практике эксплуатации явно выраженное неравномерное (чередующееся) распределение отложений по длине экранной трубы с обогреваемой ее стороны, по-видймому, соответствует узлам пучности волн магнитной индукции. [c.54]

В камеру сгорания МГД-500 подаются природный газ, подогретый до 500°С, и окислитель в виде воздуха, нагретого до 1700°С. В первый период освоения МГД-500 возможно потребуется дополнительное обогащение этого воздуха кислородом. Кроме того, для обеспечения электропроводности образующегося рабочего тела —низкотемпературной (около 2700°С) плазмы —в камеру сгорания подается также ионизирующая присад-124 [c.124]

Применяя низкотемпературную плазму, можно наносить покрытия практически из всех материалов, которые в плазменной струе не сублимируют и не претерпевают интенсивного разложения. Нанесение износостойких, антифрикционных, коррознонно- и жаростойких покрытий плазменным напылением значительно расширяет круг применяемых материалов и улучшает качество покрытий, получаемых газотермическим напылением. Следует отметить, что некоторые тугоплавкие металлы и керамические материалы можно нанести только плазменным методом. Этот метод получает все большее развитие и применение в промышленности. [c.139]

В общем случае определение термофизических свойств такой плазмы является задачей многих тел (причем без малого параметра разложения), аналитическое решение которой пока не получено. Существующие к настоящему времени приемы и методы расчета состава и термодинамических функций плотной низкотемпературной неидеальной плазмы (Г=1) по погрешностям оценки параметров плазмы существенно уступают соответствующим методам расчета идеального газа. Наиболее слабым звеном в этих методах является отсутствие теоретических предпосылок для оценки погрешностей расчета. Эксперименты на ударных трубах, с пробоем диэлектриков и другие в силу значительных погрешностей не могут к настоящему времени однозначно базироваться на той или иной методике расчета. В такой ситуации следует стремиться к наиболее простым формам уравнения состояния плазмы, а оценку коэффициентов, входящих в него, с погрешностью 3-4% считать удовлетворительной. При этом следует иметь в виду, что традиционная химическая модель (модель смеси) даже для плазмы с Г s 7 может дать удовлетворительные результаты по большинству параметров плазмы при обоснованном учете связанных, состояний и кулоновского взаимодействия. Достаточно надежные результаты могут быть получены также для некоторых параметров с использованием методов разложения термодинамических величин в канонические ансамбли, дать приемлемые результаты для не слишком широкого диапазона давлений в канале. [c.51]

По оси струи на расстоянии менее 38 мм от места входа ее в слой отмечались пульсации температуры (равные примерно 100° С), особенно заметные, когда подводимая мощность превышала 1 кет. Видимо, из-за эжекции частиц струей плазмы происходили быстрое нарастание двухфазного (среда — частицы) пограничного слоя струи, смыкание ее газового факела и периодические отрывы его с образованием пузырей аналогично появлению пузырей при распространении в псевдоожи-женном слое турбулентных низкотемпературных газовых струй, наблюдавшемуся автором [Л. 350]. Уже поэтому закономерна пульсация температуры по оси струи — в зоне образования и движения пузырей. Следует отметить, что для восходящей высокотемпературной струи в более холодном псевдоожиженном слое эффект эжекции частиц может быть сильнее, чем в изотермическом слое, из-за быстрого уменьшения удельного объема плазменного газа при охлаждении. Это, видимо, позволяет интенсивно эжектировать даже тонкодисперсные частицы, которые в изотермическом слое увлекаются слабо. Улучшение условий эжекции подтверждаются измерениями авторов (Л. 472], показавшими, что давление в плазменной струе ниже входа ее в псевдоожи-женный слой значительно меньше статического давления в слое на уровне решетки, а также самим фактом очень быстрого охлаждения плазменной струи в псевдоожиженном слое, связанным, по нашему мнению, в первую очередь с увеличением большого количества тонко-дисперсных частиц, а не с радиационным обменом, которому сами авторы 1[Л. 472] отводят несколько преувеличенную роль, считая, что им обусловлена главная часть теплообмена струи в поперечном направлении . Во всяком случае в середине проводившегося процесса глубокого охлаждения струи с 6 000 до 80—100° С, когда температура тонкой, имевшей малую оптическую толщину струи была уже в пределах 1000—1500° С, не приходилось ожидать существенной теплоотдачи радиацией непосредственно от струи газа, тем не менее и эта [c.63]

ПИНЧ-ЭФФЕКТ есть свойство канала электрического разряда в электропроводящей среде уменьшать свое сечение под действием собственного магнитного поля тока ПИРОЭЛЕКТРИК— кристаллический диэлектрик, обладающий самопроизвольной поляризацией ПИРОЭЛЕКТРИЧЕСТВО — возникновение электрических зарядов на поверхости некоторых кристаллов диэлектриков при их нагревании или охлаждении ПЛАЗМА (есть частично или полностью ионизированный газ, в котором объемные плотности положительных и отрицательных электрических зарядов практически одинаковы высокотемпературная имеет температуру ионов выше 10 К газоразрядная находится в газовом разряде кварк-глюонная возникает в результате соударения тяжелых ядер при высоких энергиях ядерного вещества низкотемпературная имеет температуру ионов менее 10" К твердых тел — условный термин, обозначающий совокупность подвижных заряженных частиц в твердых проводниках, когда их свойства близки к свойствам газоразрядной плазмы) ПЛАСТИНКА вырезанная из двоя-копреломляющего кристалла параллельно его оптической оси, толщина которой соответствует оптической разности хода обыкновенного и необыкновенного лучей, кратной [длине волны для пластинки в целую волну нечетному числу (половин для волн для пластинки в полволны четвертей длин волн для пластинки в четверть волны)] зонная — прозрачная плоскость, на которой четные или нечетные зоны Френеля для данного точечного источника света сделаны непрозрачными нлоскопараллельная — ограниченный параллельными плоскостями слой среды, прозрачной в некотором интервале длин волн оптического излучения ПЛАСТИЧНОСТЬ — свойство твердых тел необратимо изменять свои размеры и форму под действием механических нагрузок ПЛОТНОСТЬ тела — одна из основных характеристик тела (вещества), равная отношению массы элемента тела к его объему [c.259]

Химическое газофазное осаждение. Одним из наиболее широко применяемых методов получения нанотрубок является химическое газофазное осаждение ( VD — hemi al vapour deposition). Под этим общим названием понимаются различные методы получения низкотемпературной плазмы углеродсодержащего газа, например, разряд постоянного тока [49], высокочастотный [50] и радиочастотный разряд [51]. Наиболее распространенный метод реализации VD — газовый разряд постоянного тока в смеси газов, например, водород—метан. [c.38]

Пленочные автокатоды на основе нанотрубок имеют различную структуру в зависимости от технологаи получения. Первый вариант — это нанесение предварительно изготовленных и помолотых нанотрубок с помощью биндера. Второй вариант — непосредственное осаждение нанотрубок на подложку или заготовку автокатода. Во втором варианте наиболее перспективным является такое осаждение, чтобы нанотрубоки были расположены перпендикулярно поверхности основания автокатода [262, 263]. При этом нанесение нанотрубок производилось двумя методами 1) нанесение графита в вакууме 10 —10 мм рт. ст. под действием электронного пучка с последующим напылением на подложку 2) формирование структуры различных фаз углерода в области полной рекомбинации низкотемпературной газоразрядной плазмы (такой же, как при нанесении [c.205]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...