Элементы Температуры плавления и испарения

На стр. 422 приведены температуры плавления и испарения, теплоемкость и теплоты кипения и испарения чистых элементов, на рис. 8 (стр.418) показано периодическое изменение температуры плавления с ростом атомного номера. Такого же рода зависимость имеет место для сил междуатомной связи, которые максимальны для переходных металлов [c.233]

Для стальных деталей припоем обычно служит чистая электролитическая медь (марки М1 и М2). Она весьма жидкотекуча в восстановительной атмосфере, даёт прочное, чистое соединение, не требует флюса, за исключением некоторых плохо смачиваемых сортов стали. Применение флюсов вообще удорожает процесс пайки и требует последующей очистки. Флюсы требуются при содержании в стали более 1—2о/о хрома, марганца, кремния, ванадия и алюминия, образующих окисные плёнки, не восстанавливаемые газовой атмосферой и ухудшающие смачивание. Никель, наоборот, усиливает смачивание и является желательным элементом в сталях для пайки. Иногда в качестве припоя используется латунь, которая обычно требует применения флюса для уменьшения окисления цинка и растворения образовавшейся окиси. В процессе пайки латунь может повышать температуру плавления вследствие испарения части цинка. С флюсом латунь растекается почти так же хорошо, как и чистая медь. Для меди и медных сплавов, не- [c.448]

Температура и удельная теплота плавления и испарения элементов и соединений [c.188]

Свойства 211 Элементы химические — Температура и теплота плавления и испарения 188 Эллипс 117, 128 Эллипсоид — Объем 82 Энергетические единицы 236 [c.603]

Условия стыка (14) и (15) выполняются следующим образом. Напряжение, отвечающее температуре фазового перехода, поддерживается постоянным на потенциометре, соответствующем элементу Ах д, в котором в данный момент времени происходит плавление или испарение до тех пор, пока суммарный ток /, = / (рис. 2, г) не окажется равным величине Ь 2, пропорциональной теп- [c.386]

Этот способ пайки осуществим обычно в вакууме или инертном газе, в которых возможно испарение элементов, способных химически адсорбироваться на твердых металлах, взаимодействуя с ними и понижая температуру их плавления в прореагировавшем с парами слое. Необходимые условия осуществления такого процесса те же, что и для контактно-реактивного плавления 1) способность испаряющегося элемента образовывать с паяемым металлом или металлом покрытия, прокладок или кусков, уложенных у зазора, легкоплавкие эвтектики или растворы с минимальной температурой плавления 2) ведение процесса пайки при температурах выше температуры плавления соответствующей эвтектики или легкоплавкого твердого раствора. [c.167]

Диффузионная пайка выше температуры солидуса припоя может быть выполнена с изменением химического состава паяемого соединения в результате испарения элементов-депрессантов, снижающих температуру плавления припоя. Процесс пайки в этом случае может производиться в два приема. Сначала припой вводится в зазор паяемого соединения по способу обычной капиллярной пайки и затем затвердевает. Испарение элемента,, снижающего температуру плавления припоя, происходит при повторном нагреве в вакууме выше температуры солидуса припоя. Нагрев в вакууме обеспечивает эффективное и быстрое испарение элемента с высоким давлением пара. Процесс такой пайки может не заканчиваться или заканчиваться полным затвердеванием паяного шва. Только в последнем случае произой дет диффузионная пайка. [c.174]

Легкоплавкие стекла, используемые в качестве заливочных компаундов, имеют в исходном состоянии удовлетворительные диэлектрические и механические свойства, однако их применение для заливки представляет определенные технологические трудности, связанные с высокой температурой их плавления и возможностью разрушения заливаемых узлов. Кроме того, после заливки обмоток и других элементов электротехнических конструкций неизбежно появление значительных внутренних напряжений, а иногда и трещин. Следует также иметь в виду, что диэлектрические свойства многих легкоплавких стекол резко снижаются с ростом температуры [5, 225]. Компаунды, содержащие в своем составе легкоплавкие стекла, имеют весьма низкую пористость, однако для этого приходится вводить в композицию до 70— 80% (по массе) стекла. Иногда легкоплавкие стекла диспергируют в растворителе и такие дисперсии используют в качестве связующих для получения заливочных компаундов. Получить заливки большого объема в этом случае не представляется возможным из-за испарения растворителя. [c.151]

Алюминий — химический элемент, находящийся в третьей группе Периодической системы Менделеева. Он имеет температуру плавления 660 и испарения 2060° С. Плотность алюминия составляет 2,7 г/сл1 . [c.25]

Вольфрам характеризуется высокой температурой плавления (3400°), превосходящей температуру плавления всех элементов (кроме углерода), высоким удельным весом, низким коэффициентом теплового расширения, низкой упругостью пара, малой скоростью испарения, значительно более высоким удельным электрическим сопротивлением, чем у меди, но более низким, чем у никеля, железа и платины, высокой прочностью при температуре выше 1000° С стоек в кислотах, щелочах и некоторых расплавленных металлах, а также в воде и на воздухе (при 20°). [c.145]

По температуре плавления вольфрам превосходит все элементы, кроме углерода. Металл отличается высокой точкой кипения, малой скоростью испарения при высоких температурах и малым термическим коэффициентом расширения. Удельное электросопротивление вольфрама примерно втрое выше электросопротивления меди. [c.26]

Следует отметить, что имеется большая группа элементов, которые дают указанные соотношения больше единицы, но не образуют защитных пленок, что объясняется фи-З ико-химическими особенностями образующихся на их поверхностях окислов. В частности, для молибдена это объясняется тем, что на его поверхности при окислении образуются окислы, имеющие высокую упругость испарения и низкую температуру плавления. [c.917]

Трудность электродуговой сварки цветных металлов и сплавов обусловлена их физическими и технологическими свойствами. Цветные металлы обладают высокой теплопроводностью и теплоемкостью, что заставляет применять при их сварке концентрированный и мощный источник тепла — электрическую сварочную дугу. Но так как температура дуги в несколько раз превосходит температуру плавления меди, алюминия и элементов, входящих в их сплавы, то при сварке происходит интенсивное испарение и окисление этих элементов и создаются большие трудности в подборе стабильных режимов сварки. [c.12]

Упругость паров окиси магния достаточно высока при температурах значительно ниже, чем температура ее плавления, и потому она непригодна для работы в вакууме при -—1700° С. Окись магния испаряется не в виде молекул, а диссоциирует на элементы. Плазменное или пламенное нанесение окиси магния происходит с трудом из-за ее испарения. Для улучшения качества покрытия из MgO часто вводят добавки никеля и N10. [c.32]

Температуры и теплоты испарения и плавления элементов п химических соединений приведены в гл. X, Химия . [c.72]

Проблема расчета пограничного слоя на поверхности, пронизываемой потоком вещества, имеет чрезвычайно важное значение. Такого рода процессы возникают при защите элементов машин, летательных аппаратов и других устройств от воздействия потока газа высокой температуры, при испарении и конденсации, при наличии химических реакций в потоке и на стенке, при затвердевании и плавлении тел. [c.68]

Химические соединения — Температура и теплота плавления и испарения 188 Химические элементы — Температура и теплота плавления и испарения 188 Ходомеры для контроля зубчатых цилиндрических колес 527, 535 [c.602]

С увеличением порядкового номера наблюдается монотонное повышение фактора Мондолфо для атомного диаметра, плотности и электроотрицательности. Иначе изменяются факторы Мондолфо для свойств, характеризующих энергию связи температуры плавления и энтропии плавления и испарения. По мере возрастания атомного номера они сначала резко возрастают, а потом плавно уменьшаются. Причем этот максимум приходится на элементы У(5пл и 5исп) и VI групп (7 пл). Аналогичные зависимости, хотя и менее ярко выраженные, проявляются для элементов четвертого и пятого периодов. [c.17]

В зависимости от метода переноса диффузионного элемента на насыщаемую поверхность различают следующие основные способы диф( )узионного насыщения металлами 1) погружение в расплавленный металл, если диффундирующий элемент имеет низкую температуру плавления (например, алюминий, цинк) 2) насыщение из расплавленных солей, содержащих диффундирующий элемент (с электролизом и без электролиза) 3) насыщение из сублимированной фазы путем испарения диффундярующего элемента 4) насыщение из газовой фазы (контактным и неконтактным методом), состоящей из галогенных соединений диффундирующего элемента. [c.247]

Т Ig 7 +218,7 Дж/моль. Состав газа над кремнеземом, равновесные парциальные давления pt и давления насыщенного пара pj приведены в табл. 9 [1]. Подробно термодинамический анализ свойств кремнезема приведен в работе Г. Л. Шика [52]. С углеродом кремний обра-.зует карбид кремния (карборунд) Si , теплота образования которого 62,8 кДж/моль. Энтропия Si составляет 16,5 Дж/(К-моль), для определения изменения энергии Гиббса образования карборунда из элементов может быть использована следующая зависимость Sir + T=Si T AGy= —100525-f 34,88Т Дж/моль. Плотность карборунда 3,2 г/см , температура плавления (испарения) колеблется, по различным данным, от 2450 до 2950 К. Подробно термодинамика силицидов металлов и карби-I Да кремния и их свойства рассмотрены в работах [53—55]. [c.45]

Химические методы получения простых полупроводников и чистых элементов, используемых при легировании и в производстве сложных полупроводниковых материалов, обеспечивают высокую степень очистки. Дистилляцией (испарение жидкой фазы) удаляют легкоиспаряющи-еся примеси, ректификацией (многократное испарение и конденсация) — примеси, имеющие невысокие температуры плавления, испарения и большой интервал жидкого состояния. Сублимацией (испарение твердой фазы) очищают от механических примесей и газов и получают монокристалл. Перечисленными методами можно получать монокристаллы с высоким значением удельного электросопротивления. Например, монокристалл германия при р = 0,10 Ом -м содержит в 1 м 10 ° атомов примесей (см. рис. 18.10). [c.590]

Насыщение поверхности стали элементами осуществляют при температурах 700—1400° С следующими способами 1) погружением в расплавленный металл, если диффундирующий элемент имеет невысокую температуру плавления (например, алюминий, цинк) 2) погружением в расплав солей, содержащих диффундирующий элемент (с электролизом и без применения электролиза) 3) из сублимированной фазы путем испарения диффундирующего элемента (парофазиый метод) 4) насыщенней ИЗ газовой фазы-(-к-оитактиым или некон.тактньш, методом), состоящей из галогенных соединений диффундирующего элемента [37, 14]. [c.350]

Ожидаемые значения измеряемых температур, Те.мпература плавления основных конструктивных деталей ИПТ является естественным верхним пределом температур, измеряемых контактным преобра.эова-телем данного типа. Но ограничения в применении контактных ИПТ возникают уже при температурах значительно более низких, чем температура плавления деталей. Эти ограничения вызываются нестабильностью (изменением во времени) градуировочной характеристики ИПТ, тем более сильной, чем выше измеряемая температура. В резистивных контактных ИПТ нестабильность градуировочной характеристики обусловлена испарением металла чувствительного элемента, а в термоэлектрических — явлениями неодинаковой возгонки составляющих сплавов термоэлектродов и, как следствие, изменением термоЭДС. [c.78]

Элементы М с низкой темп атурой испарения в вакууме и металлы Mj, способные к образованию с ним ввтектик или твердых растворов с наинизшей температурой плавления [c.168]

При вакуумной пайке в парах металлов есть опасность конденсации их на источниках теплоты, что может снизить их тепловую эффективность. При пайке в вакууме с легкоиспаряющ,имися припоями или в парах легкоиспаряющ,нхся элементов вакуумиро-ванную камеру нагревают до температуры ниже температуры плавления припоя или начала испарения элементов с высокой упругостью пара и после откачки до 10 мм рт. ст заполняют нейтраль-ным газом, а затем нагревают до те.мпературы пайки. [c.204]

Обычные лампы накаливания, устанавливаемые в фары, представляют собой электровакуумный прибор. Основными элементами лампы является тело накала (одно или два), установленное на специальных электродах и помещенное в стеклянный баллон из силикатного стекла, обеспечивающий изоляцию тела накала от внешнего пространства. Внутренняя полость баллона заполняется инертным газом или смесью газов, которые обеспечивают уменьшение скорости испарения материала тела накала. Для крепления лампы на фаре она снабжается цоколем, который соединяется с баллоном специальной мастикой. Тело накала изготовляется из вольфрама, имеющего температуру плавления 3390 °С. Тело накала имеет форму спирали или биспирали, что обеспечивает наибольшую его концентрацию. [c.207]

Диффузионная пайка путем испарения компонентов-депрессантов была осуществлена, например, при соединении аустенитных нержавеющих сталей припоями систем N1 — 1п, N1 — Сг — 1п. Диффузионная пайка может происходить также путем диффузии элементов паяемого металла в припой или взаимной диффузии. Например, при пайке сплава ХН77ТЮР (ЭИ437Б) слаболегированными припоями N1 — Мп — Сг паяный шов дополнительно легируется компонентами основного материала [66]. При пайке вольфрама эвтектическим припоем Р1 — 3,5% В в результате диффузии вольфрама в припой в шве образуется твердый раствор с платиной и тугоплавкий борид ШгВ при этом температура плавления шва повышается и температура распая шва оказывается выше температуры рекристаллизации вольфрама [250]. [c.162]

Эти методы основаны на укладке на Подложку атома к атому и требуют, чтобы кинетическая энергия осаждаемого атома не превышала энергию связи атомов на поверхности подложки. Размещение атомов с низкой подвижностью на поверхности увеличивает вероятность образования аморфного состояния, в результате последовательного присоединения атомов. Оба способа, и испарения, и распыления, очень чувствительны к условиям осаждения атомов. Очень высокая скорость осаждения, присущая этим методам (более 10 К/с), позволяет приготовить ряд аморфных сплавов, которые не удается получить путем закалки из расплава. Такими методами можно приготовить аморфные сплавы, смешивая при низкой температуре элементы с высокой температурой плавления, а также химически активные (например, редкоземельные элементы). Преимуществом методов распыления и испарения является высокая скорость охлаждения, недостатком - низкая скорость нарастания амррфного слоя. [c.382]

Температура плавления Т л и заметного испарения Tuen некоторых элементов в вакууме с малым остаточным давление. г [c.22]

Высокая температура в зоне дуги приводит к быстрому плавлению электродного металла, покрытия, флюса, а также металла свариваемых частей. Молекулы кислорода, азота, водорода, находящиеся в воздухе в зоне дуги, частично распадаются на атомы и ионы. В атомарном состоянии эти элементы обладают высокой активностью, вступают в химические соединения с элементами расплавленной стали и растворяются в ней, образуя после остывания хрупкий металл. Высокая температура при сварке приводит также к испарению, выгоранию и разбрызгиванию металла и друтих веществ, находящихся в зоне сварки. [c.20]

Поверхностное насыщение стйли металлами, а также такими элементами, как кремний и бор, можно проводить при 900—1050 °С упаковкой изделий в соответствующие пороиткообразные смеси (обычно ферросплавы и 0,5—5 % NH4 I), погружением их в расплавленный металл, если диффундирующий элемент имеет невысокую температуру плавления (например, цинк и алюминий), или насыщением из газовой среды. При газовом методе чаще применяют летучие хлористые соединения металлов (АЮ , СгС , Si i и т. д.), образующиеся при воздействии хлора (или хлористого. водорода) на металлы или их сплавы (ферросплавы) с железом гри высоких температурах. Хлориды взаимодействуют с. железом, и. выделяющийся в атомарном состоянии. алл диффундирует в железо. Насыщение металлами (например, хромом) проводят и путем испарения диффундирующего элемента в вакууме. Продолжительность процесса обычно 6—12 ч. [c.203]

К недостаткам ее можно отнести лишь увеличение продолжительности периода плавления вследствие медленного растворения ферровольфрама и ферромолибдена в расплаве, а также возможность потерь вольфрама и молибдена в виде ошлаковавшихся и нерастворившихся в металле в течение всей плавки кусков ферровольфрама и ферромолибдена. В связи с этим иногда применяют вариант переплава легированных отходов в час-тичньш окислением — продувкой ванны газообразньшс кислородом. При этом в шихту часто добавляют для снижения расхода феррованадия ванадиевый шлак в смеси с известью. Обязательным условием является введение в состав шихты кремния до 0,5 %, чтобы уменьшить потери ценных легирующих элементов в процессе продувки. Кремний вводят с отходами кремнистых сталей, с ферросилицием или другими сплавами кремния. Окисление кремния кислородом способствует быстрому повышению температуры металла, ускоряет плавление шихты и растворение ферровольфрама и ферромолибдена. Быстро образующийся во время продувки шлак предохраняет металл от воздействия дуг и снижает угар и испарение легирующих. Кроме того, перемешивание ванны при продувке также ускоряет плавление и вследствие увеличения поверхности контакта углеродистого металла и Шлака приводит к восстановлению части образовавшихся оксидов легирующих углеродом металла. В результате на плавках с Продувкой ванны кислородом общие потери вольфрама могут бьггь снижены на 4-5 % по сравнению с плавками без окисления примесей, несмотря на окисление части легирующих в результате продувки. Восстановительный период плавок быстрорежущей стали с продувкой расплава кислородом проводится так же, как на плавках без окисления, [c.157]

Некоторые окислы металлов также имеют достаточно большое давление пара в вакууме. Так, в вакууме с остаточным давлением 10 мм рт. ст. окислы СаО, SrO, ВаО, и МоОа испаряются при температурах 1000—1200° С, СгаОз — при температуре >1000° С, МоОз — при температуре 600° С и WO — при температуре 800° С. Окисел AI2O3 в этом отношении чрезвычайно устойчив. Давление пара настолько мало, что заметное испарение этого окисла происходит только при температуре, близкой к температуре его плавления (2050° С). Окислы же таких элементов, как Be, Si, Mg, Zr, Сг в вакууме с разрежением 10 — 10- мм рт. ст., начинают заметно испаряться только при температурах около 1600—2000° С. [c.195]

В большинстве рассмотренных выше случаев повышение температуры распая, а следовательно, и возможность диффузионной пайки достигались путем частичного или полного удаления из шва элементов-депрессантов, снижающих температуру его плавления, путем диффузии в основной материал или испарения. Диффузионная пайка возможна и в том случае, когда припой является сплавом, в котором компонент, ответственный за низкую температуру солидуса, не растворим или очень мала растворим в основном материале и имеет низкое давление пара,, т. е. его нельзя удалить из зоны шва путем испарения или диффузии в основной материал. Повышение температуры распая. в этом случае возможно тогда, когда при взаимодействии припоя с основным металлом элемент-депрессант образует химическое соединение с основой паяемого материала, растворяющегося в паяном шве. При этом необходимо, чтобы образующийся шов имел более высокую температуру солидуса, чем исходный припой. [c.174]

В [14-36] установлено, что эвтектические расплавы на основе железа, никеля, титана, циркония, хрома, бора и ряда других элементов, а также тройные эвтектические расплавы этих эле.ментов с углеродо.м при взаимодействии с углеродом обнаруживают ускоренное испарение углерода с поверхности расплава при сохранении без изменения количества углерода в расплаве. Выделяющийся при испарении углерод отличается высокой степенью трехмерного упорядочения (с/2=0,3354 нм). Обнаруженный эффект прекращается при перегреве эвтектики на 150—200°С выше температуры ее плавления, т. е. после начала интенсивного испарения самой эвтектики. [c.288]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...