Регулятор концентрации растворов

В легкой промышленности в начале 50-х годов использовались отдельные виды автоматического оборудования автоматические ткацкие станки, автоматические регуляторы концентрации растворов в отделочном (текстильном) производстве, автоматы для трикотажных изделий, автоматы и полуавтоматы для изготовления обуви. [c.256]

РЕГУЛЯТОР КОНЦЕНТРАЦИИ РАСТВОРОВ [c.748]

Электронный регулятор налаживают, исходя из того, чтобы величина была не меньше 10 сек для обеспечения воспроизводимой подачи реагента, величина о по условиям обеспечения режима очистки воды была не больше 30 сек для насосов-дозаторов известкового молока, 40 сек для раствора коагулянта и 5 мин для дозатора каустического магнезита. Как показывает опыт эксплуатации, такие паузы в подаче реагентов не сказываются отрицательно на результатах очистки воды и допустимы как на установках с осветлителями, так и на прямоточных водоочистках. При максимальном значении Q и минимально допускаемой концентрации раствора или суспензии реагента у близко к 0,9, т. е. при полной нагрузке водоочистки дозатор работает практически непрерывно. Выполнение этого условия достигается правильным выбором номинальной подачи дозатора и при надобности изменением ее путем установления с помощью устройства подстройки соответствующей длины хода плунжера насоса-дозатор а или сменой шнека у шнекового дозатора. [c.162]

На рис. 98 показаны характеристики разгона аппарата по концентрации при возмущении расходом греющего пара. Анализ кривых показывает, что изменение концентрации раствора в аппарате при одном и том же возмущающем или регулирующем воздействии существенно зависит от того, на какую линию воздействует исполнительный орган регулятора уровня при установке последнего на линии выхода раствора из аппарата изменение концентрации происходит с большей скоростью, чем на линии входа продукта. [c.200]

При регулировании концентрации изменением расхода жидкости на выходе из аппарата большое значение имеет нормальная работа регулятора уровня. Если в элементах регулятора имеются нечувствительность и запаздывание, то при воздействии регулятора концентрации на изменение расходов раствора на выходе из аппарата концентрация в нем не изменяется до начала воздействия регулятора уровня на приток жидкости. [c.200]

Процесс изменения концентрации раствора в аппаратах зависит от того, на какую линию воздействует исполнительный орган регулятора уровня. Причем для последующих ступеней разница в концентрациях еще более ощутима. [c.201]

В процессе осаждения частиц краски на изделие уменьшается концентрация раствора, ванна обогащается аминами и pH возрастает. Из других факторов, способствующих изменению pH, можно назвать улетучивание аммиака, поглощение углекислого газа из воздуха и разряд гидроксильных ионов, сопровождающийся местным подкислением раствора. Поэтому регулярно, два раза в смену, проверяют pH раствора, содержание сухого остатка, электропроводность. Состав ЛКМ корректируют по сухому остатку, pH, содержанию спиртов и регуляторов процесса (аммиака или аминов). Колебания сухого остатку могут составлять 1%. При достижении низшего предела сухого остатка ванну нужно пополнить. Для этого в емкость приготовления рабочего раствора загружают кислый материал в количестве, рассчитанном из сухого остатка в ванне и известного объема ванны. Загрузка должна составлять не более 0,2 емкости смесителя. [c.139]

Рис. ]7. Схема приготовления регенерационного раствора с применением регулятора концентрации.

На рис. 17 дана схема приготовления и подачи регенерационного раствора с применением регулятора концентрации. Автомат регенерации фильтра АР дает команду на открытие задвижки 6 на линии регенерационного раствора и задвижки 2 на линии осветленной воды, одновременно включается пропуск пробы раствора (после разбавления) через датчик концентрации ДК и подключается регулятор концентрации РК. Изменение [c.45]

Более широкое распространение получила схема приготовления регенерационного раствора без применения регуляторов концентрации. Это возможно, если надежно обеспечено постоянное давление осветленной воды, по-46 [c.46]

Признается целесообразным применять регуляторы нагрузки водоочистки, регуляторы давления и температуры воды, регуляторы дозировки реагентов в осветлители по количеству обрабатываемой воды, автоматы промывки и регенерации фильтров, автоматические регуляторы концентрации регенерационных растворов. [c.75]

На фиг. 139 приведен один из вариантов схемы автоматического регулирования выпарной установки [50]. Основным регуля- тором является регулятор концентрации (плотности) раствора 2. Концентрация раствора на выходе из выпарной установки определяется по разности температур выходящего щелока и сокового пара в первой ступени, т. е. по температурной депрессии. Регулирующий прибор 2, получая импульс по указанной разности тем- [c.332]

Допустим, что в результате возмущения концентрация раствора изменилась. Тогда регулятор уровня, стремясь поддерживать объем в аппарате неизменным, изменит количество поступающего на выпарку раствора на величину [c.335]

Если требуется поддерживать постоянство концентрации раствора с большой точностью, то регулирование следует производить изодромными регуляторами, которые обеспечивают минимальное отклонение регулируемой величины от заданного значения. [c.347]

Этот недостаток должен быть своевременно обнаружен проверкой концентрации раствора, если проверка производится достаточно часто. Поплавковый регулятор может стать причиной излишнего разведения моющего раствора также при появлении течи в ванне. [c.328]

Проверить, не слишком ли повысилась концентрация раствора вследствие испарения или чрезмерного потребления раствора. Унос на деталях и разбрызгивание остаются одинаковыми и при чрезмерной концентрации раствора. Восстановить концентрацию добавлением воды или оборудованием автоматического контроля уровня, например поплавковым регулятором. [c.341]

На предприятиях химической промышленности используются радиоактивные позиционные регуляторы, контролирующие уровень заполнения емкостей различными жидкостями, и радиоактивные позиционные регуляторы плотности жидкости, автоматически поддерживающие заданную концентрацию жидкости при непрерывном процессе приготовления растворов и пульпы. [c.190]

Радиоактивный датчик позиционного регулятора плотности жидкости предназначается для позиционного регулирования плотности жидкости или сигнализации в непрерывном производственном процессе приготовления раствора требуемой концентрации (рис. 2). Изменение плотности жидкости производится с помощью ареометра 1, па стержень которого наносится радиоактивное вещество 2, перемещающееся вместе с ареометром относительно неподвижных газоразрядных счетчиков 3. Последние включены в схемы радиоактивных реле (см. рис. 1), которые регистрируют положение ареометра по шкале плотности 4. Такое устройство позволяет производить позиционный контроль и регулирование с большей точностью, чем нри помощи радиоактивных измерителей плотности, основанных на поглощении -/-излучения в исследуемой среде [10], Кроме того, контроль и регулирование достигается использованием источника излучения в сотни раз меньшей активности, чем в случае ис- [c.261]

Рекомендуемые концентрации регулятора травления Р — 0,2—0,5%, пенообразователя 0,5—1,5 кг/м2 поверхности травильного раствора в ваине [68]. Инструкция по приготовлению травильного состава приводится в [68]. [c.163]

Регулятором потенциала устанавливают область регулирования (ф1 — фг) с таким расчетом, чтобы стационарный потенциал протектора (фз) находился внутри этой зоны (рис. 7.2). При включении поляризующего тока происходит одновременное смещение потенциалов защищаемого аппарата и протектора до верхней границы интервала регулирования. Как будет показано далее, при смещении потенциала исследованных нами графитовых протекторов положительнее стационарного значения (фз) происходит накопление заряда на поверхности. При достижении фг поляризующий ток отключается, и накопленный протектором заряд расходуется на уменьщение скорости спада потенциала. В это время потенциалы защищаемого аппарата и протектора постепенно снижаются до нижней границы зоны регулирования, что приводит к повторному включению поляризующего тока после чего начинается новый цикл зарядки поверхности протектора. По мере формирования устойчивого пассивного состояния плотность необходимого защитного тока (г з) снижается. Когда плотность тока протектора окажется достаточной для сохранения пассивности, снижение потенциала прекращается. Это состояние защиты протектором сохраняется до тех пор, пока не возникнут факторы, приводящие к возрастанию плотности защитного тока (резкое изменение уровня, температуры, концентрации и других параметров технологического раствора в аппарате). Эти нарушения в ходе технологического процесса приводят к повторным включениям регулятора потенциала на время их действия. [c.127]

При травлении углеродистых и низколегированных сталей в соляной и серной кислотах и их смесях (до 100 °С), а также в качестве регулятора травления алюминия и цинка и в других случаях применяют ингибитор ПКУ-К. Он нечувствителен к ионам Fe , стабилен в кислотах любой концентрации в присутствии солей железа, обладает высоким защитным действием до 100 С, не тормозит растворения окалины и других растворимых в кислотах отложений, обладает высокими защитными свойствами в серной и соляной кислотах, полностью исключает наводороживание металла ПКУ-К в растворы кислот вводят в количестве 1—3 г/л. [c.120]

Использование саморегулируемых электролитов-суспензий [5.4, 5.32 ] для осаждения покрытий сплавами двух и более металлов (Си—8Ь, Ag—5Ь, Аи—5Ь, Сд—2п и др.). Принцип способа слабо растворимая в электролите дисперсная фаза является регулятором (по мере разряда перешедшего в раствор иона) концентрации одного из компонентов. Отсутствует необходимость вследствие этого в растворимом аноде и его смене, а также корректировка электролита. [c.324]

Для успешного выполнения процесса регенерации ионообменного материала, кроме обеспечения максимально полного контакта раствора с частицами ионита, необходимо обеспечить протекание ионного обмена в нужном направлении, что зависит прежде всего от концентрации реагента в регенерационном растворе. Как уже указывалось выше, по мере прохождения регенерационного раствора через истощенный ионит раствор все в большей степени загрязняется удаляемыми из молекул ионита вредными ионами, что приводит к торможению процесса регенерации ионита. Этот процесс своеобразного отравления регенерационного раствора можно в значительной степени ослабить, пропуская через истощенный ионит регенерационный раствор с переменной концентрацией реагента, не увеличивая при этом его средний удельный расход. Для этого пропускают сначала первую порцию относительно мало концентрированного регенерационного раствора, в результате чего происходит лишь частичное вытеснение из истощенных молекул ионита вредных катионов. Затем пропускают вторую порцию регенерационного раствора повышенной концентрации в более благоприятных условиях, поскольку некоторая часть вредных катионов была удалена вначале. Оптимальным решением в этих условиях является плавное изменение концентрации реагента в регенерационном растворе при помощи автоматического регулятора. [c.110]

С помощью уравнений (VIII,16) и (VIII,17) можно исследовать переходные процессы изменения концентраций в выпарных аппаратах в случае нанесения различных возмущений. На основе этих уравнений возможно обоснование выбора канала регулирования концентрации раствора на выходе из аппарата, а также анализ переходных процессов аппарата при воздействии исполнительного органа регулятора уровня на расход раствора на входе или на выходе из аппарата. Аналитический расчет переходных процессов очень громоздок — необходимо интегрировать систему 3 п дифференциальных уравнений. [c.193]

В МЭИ под руководством Д. В. Радуна и А. Г. Левачева проводятся работы по применению управляющих вычислительных машин (УВМ) для оптимального управления выпарной станции хлорного завода, схема которой и краткое описание приведены в гл. III. Предлагается следующая структура системы управления. Автоматические регуляторы стабилизируют на заданном уровне ряд параметров выпарной станции уровни в аппаратах, концентрацию раствора на выходе первой и второй стадий, давление пара в греющей камере и вакуум в конденсаторе. На УВМ через определенные интервалы времени вычисляются в соответствии с алгоритмом управления оптимальные в заданной ситуации величины управляющих воздействий.При этом осуществляется воздействие на уставки стабилизирующих регуляторов, которые выводят выпарную установку на оптимальный режим. Одновременно УВМ регистрирует необходимые показатели процесса. В случае неисправности вычислительной машины предлагается предусмотреть автоматическое отключение УВМ с сохранением уставок стабилизирующих регуляторов, которые они имели до повреждения УВМ. [c.203]

В зависимости от природы металла и участка анодной кривой, на котором производится полирование и глянцевание металла, и качестве дополнительных регуляторов могут быть использованы перемешивание, изменение температуры, изменение концентрации растворов. Указанные факторы могут улучшать и ухудшать качество полирования. В тех случаях, когда металл склонен к переиас-сивацик или межкристаллитной коррозии, процесс полирования при высоких плотностях тока может сопровождаться растворением границ зерен. В связи с этим должны быть подобраны другие растворы н режимы полирования. [c.78]

Регенерационный раствор поваренной соли подается в течение определенного времени эжектором, необходимая концентрация раствора обеспечивается установкой регулятора расхода эжектирующей воды и поддержанием постоянного уровня (напора) в расходном баке концентрированного раствора соли. Схемы автоматиза-3 35 [c.35]

Для этого схемой (фиг. 137) предусмотрено воздействие регулятора уровня раствора 5 в сборнике 1 и регулятора концентрации 10 выходящего раствора через регулятор соотношения запаса сатурационного сока и концентрации сока на выходе выпарной установки 5а как на впуск пара в первую ступень, так и на отвод его из концентратора в конденсатор. Считают, что такой способ регулирования обеспечивает наименьшее запаздывание и взаимную коррекцию влияния изменения количества раствора, поступающего в первую ступень, и отклонения концентрации выходя-лцего раствора от заданной величины. [c.327]

Из рассмотренных схем регулирования видно, что необходимым узлом этих схем является регулятор концентрации (плотности) раствора на выходе из выпарной установки. В способах измерения этого параметра особенно сильно проявляется специфика различных производств. Рассматривая способы измерения концентрации, следует учитывать, что для повышения качества регулирования целесообразно измерять концентрацию (плотность) либо непоЬредственно в аппарате, либо в выходном трубопроводе вблизи аппарата. [c.340]

Рис. 5.9. Схема опытного налива трассерного раствора в скважину / — водопровод 2 — мешалки 3 — труба для подачи сжатого воздуха 4 — регулятор концентрации и температуры 5 — смеситель 6 — электронагреватель 7 — фильтровая часть скважины 8 — датчики концентрации и

Широко распространенная присадка ЧМ применяется при травлении черных металлов (откуда и название) серной кислотой при любых концентрациях и температурах. Присадка состоит из регулятора травления Р, вводимого в количестве от 0,5 до 5 кг на 1 Л1 травильного раствора, и пенообразователя П. Доза последнего составляет 0,5—1,5 кг па I поверхности раствора. Например, при температуре раствора 40—50° С для травления грубообрабатываемых изделий требуется 0,5 кг регулятора травления Р на 1 ж раствора и столько же пенообразователя Я на 1 ванны. [c.58]

Висмут играет все более важную роль в ядерной энергетике. В реакторе, работающем на жидком металлическом топливе 3 , (см. рис. 2), сконструированном в США, расплавленный висмут используется как теплоноситель (горючее или и как Охлаждающий агент. Расщепленный уран растворяется в жидком висмуте до концентрации 15%. В реакторе имеется регулятор из незащищенного графита. Жидкий висмут, содержащий растворенное вещество (U- или перекачивается через г )афитовый регулятор. Запроектированные параметры таковы, что достигается критическое состояние и имеет место саморасшеплепне. Тепло, выделяющееся в результате деления урана, передается жидкому висмуту, который перекачивается через раскаленные теплообменники. [c.134]

Водорастворимые полимеры находят широкое применение в качестве регуляторов реологических свойств жидкостей. Увеличение вязкости раствора полимера по сравнению с чистым растворителем является хорошо известным явлением. В случае полиэлектролитов этот эффект выражен в десятки раз сильнее. Причем полиэлектролитное набухание и рост вязкости происходят при достаточно малых концентрациях высокомолекулярных полиэлектролитов = 0,01...0,1 %). Однако неожиданным является тот факт, что в турбулентном режиме течения добавки водорастворимых полимеров вызывают снижение вязкости и, следовательно, гидравлического сопротивления течению [2]. Количественно эффект изменения вязкости выражается следующим образом [c.624]

Пенообразователь П вводится в травильную ванну для предотвращения образования кислотного тумана с учетом площади зеркала травильного раствора. При концентрации регулятора 0,5 кг м раствора вводят 0,5 г пенообразователя на 1 поверхности ванны. При введении в ванну регулятора в количестве 1,5кг/.и требуется 1 кг пенообразователя на 1 ж поверхности ванны. Концентрация присадки ЧМ выбирается с учетом состояния металла, подлежа-inero травлению (марка стали, толщина окалины), а также условий травления. Инструкция по применению в [218]. Ингибитор коррозии стали (Ст. 3) в нефти [c.26]

Шкала прибора, замеряющего концентрацию циана в растворе, проградуирована в зависимости от показаний электрода-датчика 204Hg от О до 100 мг/л. На шкале смонтирован передвижной регулятор показаний. Допускаемая концентрация ионов СМ в растворе 0,06 мг/л. Если содержание циана в растворе больше [c.240]

К таким показателям относятся производительность установки, глубина обессоливания, потеря напора по ступе-1 я л очистки, колебания концентрации регенерационных растворов, вынос фильтрующих материалов. Необходимо проверить правильность показаний контрольно-измерительных приборов, работу насосов дозаторов и регуляторов. Если фактические данные для них значительно отклоняются от нормативных или проектных, то выявляют и З страня-ют причины отклонений. [c.79]

Эмаль ФЛ-149Э разводят до рабочей концентрации деминерализованной водой. Стабильность водного раствора эмали повышается в присутствии активных полярньпс растворителей. Перед растворение м исходного материала в воду вводят регулятор pH — аммиак. Это объясняется тем, что входящие в состав эмали смолы в воде почти не растворяются, а образующиеся в результате нейтрализации соли растворяются. Полученные растворы способны диссоциировать на отрицательно заряженный ион пленкообразователя и ион аммония . [c.136]

Присадка Уникол-ЧМ состоит из двух компонентов регулятора травления Р и пенообразователя П [4.27 ]. Регулятор травления Р представляет собой труднорастворимую жидкость или пасту темного цвета с характерным запахом, а пенообразователь П — легкорастворимую липкую темную жидкость почти без запаха. В травильный раствор вводят при перемешивании состав П из расчета 0,8 кг на 1 м зеркала раствора и состав Р из расчета 0,5 г/л, если температура раствора не ниже 50 °С. При более высокой температуре и значительном слое окалины вводят соответственно 1,5 кг/м состава П и 1,5 г/л состава Р. Концентрация ингибитора ЧМ в процессе травления снижается вследствие уноса с деталями и парами раствора. [c.119]

При травлении в соляной кислоте применяются ингибитор Уникол ПБ-8 и ПБ-5. Первый из них вводится в ванну в виде водного сиропа, второй предварительно растворяют в концентрированной соляной кислоте. Концентрация ингибитора в травильном растворе составляет 8 10 г [л. При травлении в серной кислоте применяется ингибитор ЧМ, состоящий из двух отдельны реактивов — регулятора травления < Р и пенообразователя П . В травильный раствор сначала вводят состав П , а затем Р . Концентрацию ингибитора меняют в зависимости от температуры, при которой производится травление, и состояния повеохности металла. При температуре травильного раствора ниже 50° и незначительном слое окалины концентрация состава Р принимается 0,5 г[л, состава П — 0,8 кг на 1 площади зеркала раствора. При температуре выше 50° и толстом слое окалины концентрация состава Р принимается 1,5 г[л, состава П — 1—1,5 кг на 1 площади зеркала раствора. Ингибитор ЧМ при работе ванны не расходуется, и уменьшение концентрации его происходит в основном за счет уноса с деталями и парами раствора. При корректировании травильного раствора добавкой кислот одновременно добавляется пропорциональное количество ингибитора. [c.32]

Незначительные изменения качества исходной воды или колебания концентрации реагентов, подаваемых в осветлитель, могут быть скорректированы задатчиком 3 регулятора, изменяющим режим работы импульсатора, т. е. изменением длительности импульса. В тех случаях, если регулятором не удается обеспечить необходимое соответствие количества вводимых реагентов качеству исходной воды (например, при значительных сезонных колебаниях концентрации примесей в ней), следует изменить концентрации вводимых в осветлитель раствора коагулянта и известкового молока. Так как каустический магнезит (или доломит) дозируется в сухом виде, то во всех случаях необходимое изменение его дозы может осуществляться лишь задатчиком регулятора. [c.21]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...