Лучи остаточные

Рентгеновские методы исследования остаточных напряжений основаны на определении расстояния между кристаллографическими плоскостями, т. е. деформации кристаллографической решетки, с помощью измерения угла отражения луча. Остаточные напряжения этим методом можно определить с невысокой точностью и только в тонком поверхностном слое. Для рентгеновских методов исследования остаточных напряжений характерны большая трудоемкость и высокая стоимость проведения эксперимента. [c.424]

Сварка электронным лучом в вакууме является одним из наиболее распространенных способов в СССР и за рубежом. Она обеспечивает не только хорошую защиту и получение чистого металла, но дает возможность осуществить концентрированный разогрев и сквозное проплавление. При этом термическое влияние на окружающую зону уменьщается. При сварке электронным лучом остаточные деформации значительно меньше, нежели при дуговом процессе. Этим способом сваривают активные, тугоплавкие металлы при большой производительности процесса, а также различные высокопрочные стали. Электронный луч сваривает керамику и разные сочетания сплавов. Однако требуется дальнейшая исследовательская и практическая работа. [c.123]

Помимо тер.мообработки существуют в нашей стране методы снятия остаточных, сварочных напряжений при гидравлических испытаниях повышенным давлением и послесварочной взрывной обработкой. 100% сварных соединений установок подготовки газа подвергаются контролю просвечиванием рентгеновскими или гамма-лучами для обнаружения дефектов до обработки и снятия остаточных сварочных напряжений и 20%—с выборочным дублированием после обработки (в этом случае контроль допускается любыми физическими методами). [c.177]

Тип Управление лучом Размер проекции изображения, мм Освещен -и ость мишени, лк Ток сигнала, н А Разрешающая способность (в центре). линий Остаточный сигнал через 40 мс. % [c.365]

На индукционном методе измерения остаточной индукции основана установка типа ТАМ-6. Движущаяся в трубе контролируемая деталь пересекает луч света, падающий на фотоэлемент, который включает соленоид, намагничивающий деталь. После выключения соленоида деталь продолжает падение и проходит через измерительные катушки, ЭДС которых пропорциональна остаточной индукции. Установка настраивается на уровень срабатывания по образцовым изделиям так, что исполнительный механизм сортирует контролируемые детали по твердости. [c.74]

Величина остаточных напряжений ограничена релаксацией скольжения в матрице. Методом дифракции рентгеновских лучей [c.63]

Отпуск при 560° С приводит к интенсивному распаду остаточного аустенита, превращению его во вторичный мартенсит и значительному повышению твердости первого слоя (с 500—600 кгс/мм перед отпуском до 850—925 кгс/мм после отпуска), в то время как микротвердость исходной структуры сохраняется равной 780 кгс/мм (кривая 2, рис. 5). Таким образом, отпуск быстрорежущей стали, подвергнутой нагреву лучом ОКГ, при температуре 560° С приводит к некоторому упрочнению ее по сравнению с исходным состоянием стали, полученным в результате стандартной термической обработки. Повышение микротвердости составляет 70—100 кгс/мм [c.17]

Анализ результатов металлографических исследований образцов, подвергнутых действию излучения ОКГ, показал, что ЗТВ в этом случае состоит из трех слоев. Первый слой имеет крупнозернистую структуру мартенсита и остаточного аустенита, второй — структуру мелкоигольчатого мартенсита, остаточного аустенита и избыточных карбидов. Между первыми двумя слоями и исходной структурой располагается слой отпуска, вызванного тепловым воздействием луча ОКГ. [c.21]

КОНЦЫ их разде-ляют распорками 5 Размеры скоб и толщину распорок выбирают с таким расчётом, чтобы по лучить максимальные напряжения на изгиб по середине образцов. Каждую пару образцов в собранном виде подвергают термообработке, после которой остаточные напряжения вычисляют по степени выпрямления, происходящего после освобождения образцов из скобы. [c.217]

Известно большое разнообразие высокоэффективных технологических методов поверхностного упрочнения деталей машин, повышающих пределы выносливости в два-три раза и усталостную долговечность - в десятки и сотни раз. К ним относятся методы поверхностного пластического деформирования (ПГЩ), химико-термические (азотирование, цементация, цианирование), поверхностная закалка с нагрева токами высокой частоты или лучом лазера, комбинированные и др. Причинами столь высокого повышения сопротивления усталости являются остаточные сжимающие напряжения в поверхностном слое и повышение механических свойств слоя в результате обработки. Суммарный эффект упрочнения зависит от взаимного расположения эпюр остаточных и рабочих напряжений и сопротивления усталости материала по сечению детали [4, 12]. [c.140]

Формулы (2-25) и (2-26) хорошо подтверждаются известными опытами Гагена и Рубенса [Л. 101 ]. Последние исследовали отражение от полированных металлических поверхностей в инфракрасной области спектра методом остаточных лучей. Сущность этого метода сводится к следующему. [c.60]

До настоящего времени производились исследования остаточных напряжений в конструкциях, сваренных главным образом дуговой сваркой. Первоначальные эксперименты, проведенные по изучению образования остаточных напряжений, показали, что при сварке электронным лучом в результате резкого уменьшения зоны разогрева остаточные напряжения локализуются в сравнительно меньшем объеме металла. Средние значения остаточных напряжений в зоне соединения намного ниже, нежели при дуговой сварке. Значительно ниже оказываются также величины остаточных деформаций. [c.134]

Простой и иногда применяемый способ — непрерывный нагрев катода, однако для достаточно эффективной десорбции остаточных газов необходимы достаточно большие температуры, что значительно понижает достоинство автокатода. При необходимости подогрева более целесообразен импульсный нагрев [307]. Период подачи импульсов определяется степенью вакуума в приборе и условиям эксплуатации, но обычно составляет 10 с. Ширина импульса зависит от температуры нагрева. Колебания температуры лежат в пределах 420—1270 К. Температура менее 420 К не очень хорошо очищает поверхность катода. С другой стороны, нагревание выше, чем 1270 К приводит к большому падению тока пучка. Наиболее перспективным такого рода режим может быть для приборов растрового типа, где время обратного хода луча совпадает со временем очистки автокатода. [c.241]

Назначение. Дефектоскопия просвечиванием рентгеновскими лучами деталей, металлов, сплавов, сварных швов, отливок, биметаллических изделий, исследование остаточных напряжений в деталях, изучение процессов кристаллизации металлов, структурный анализ, анализ процессов превращений в сплавах в результате обработки организация и контроль цеховых рентгеновских лабораторий. Рентгеновские лаборатории в качестве самостоятельных специальных лабораторий создают на крупных (ведущих) заводах на средних заводах — входят в состав металлофизических лабораторий на малых заводах, как правило, не создают. [c.177]

Процесс применяют для получения отверстий цилиндрической или фигурной формы диаметром = 2...500 мкм, тонких пазов, щелей размерами от нескольких до десятков микрометров в материалах малой толщины, а также для резки. Глубина Н отверстий, пазов при обработке металлов не превышает 2 мм, а диэлектриков - 15 мм. Для устранения остаточных напряжений и растрескивания обработку диэлектриков проводят с предварительным или сопутствующим нагревом заготовок, а также с последующим отжигом их. Прошитые отверстия имеют конусность, величина которой зависит от расположения луча относительно поверхности заготовки и составляет [c.752]

Поэтому лучшим решением является комбинация двух методов хлорирования, с расчетом на поддержание некоторого небольшого постоянного количества остаточного хлопа и облучения циркуляционной воды бассейна ультрафиолетовыми лучами. В некоторых бассейнах применяется только облучение. [c.36]

Методы теории аберраций оптических систем в лучшем случае позволяют найти систему, у которой полностью или частично компенсированы аберрации низших порядков — третьего и пятого, причем всегда существуют остаточные аберрации, определяющие максимально возможные апертуру и полезное поле изображения системы. Более, того, в большинстве случаев решение, найденное из аберрационного расчета, — всего лишь исходный пункт последующей численной оптимизации параметров системы, осуществляемой методом прослеживания хода лучей. В процессе оптимизации, как правило, нарушается достигнутая коррекция аберраций низших порядков, и остаточная аберрация системы представляет собой сложный комплекс членов различных порядков, сбалансированных таким образом, чтобы их совместное влияние на качество изображения было минимальным. Поэтому разработка оптической системы обязательно включает оценку ее реального качества — оценку, при которой [c.80]

По описанной методике все аберрационные коэффициенты Li — Lg принимают одинаковые значения с равной вероятностью. Неизвестно, соответствует ли это реальному распределению аберрационных коэффициентов всего множества оптических систем с малыми остаточными аберрациями, которые рассчитывали и рассчитывают на практике. Существуют, однако, классы оптических систем, для которых это положение не выполняется. Например, симметричные объективы с симметричным ходом лучей в принципе не имеют нечетных аберраций. У тех же симметричных объективов, используемых в несимметричном режиме, как правило, четные аберрации превалируют над нечетными. С другой стороны, вряд ли возможна какая-либо другая модель для изучения корреляции критериев качества, кроме модели равновероятных одинаковых значений для всех аберрационных коэффициентов. В конечном итоге такой подход при достаточно обширной статистике учитывает все типы оптических систем, хотя для каждого отдельно взятого типа может [c.100]

Анализ показывает, что при небольших значениях апертурного и полевого углов дублета (не более 20° каждый) и при любой толщине мениска (вплоть до й = 0) практически приемлемые решения существуют для всех увеличений в диапазоне Oi>p>—1, если 1,5 < Я < 10 (ограниченность К снизу согласуется с рассмотренной выше невозможностью компенсировать дисторсию из-за малой кривизны поля). При Р > 1 одновременно компенсировать кому и астигматизм в дублете с силовой ДЛ при том порядке расположения элементов, которое показано на рис. 5.1, невозможно, поэтому для формирования увеличенного изображения необходимо использовать в обратном ходе лучей систему, рассчитанную для Р < 1. Таким образом, у комбинированного дублета, свободного от первичных комы и астигматизма, с низким уровнем остаточной кривизны поля РЛ всегда находится со стороны увеличенного изображения (предмета). [c.163]

Канал оптической записи — воспроизведения. При оптической записи — воспроизведении происходят следующие преобразования (рис. 1.19). Входной сигнала U t) преобразуют в ток зажигаиня полупроводникового лазера /з(0 (или в ток модулятора света). На выходе оптической головки образуется модулированный пучок света мощностью P t). Он фокусируется на рабочей поверхности (дорожке) движущегося носителя оптической записи и вызывает изменение его состояния (формы) в локальной зоне, которое сохраняется при выходе ее из зоны действия луча. Остаточное состояние А Р, х) зависит от свойств носителя, мощности излучения и координаты х вдоль дорожки записи и отображает записанный сигнал . При воспроизведении используют активный способ извлечения информации движущийся носитель освещает сфокусированным лучом лазера. Отраженный от дорожки с записанной информацией [c.18]

Если материал испытал предварительную пластическую деформацию по какой-нибудь траектории ОАВ (рис. 11.5), то поверхность нагружения может быть построена следующим образом. Образец разгружается по той же траектории и получает какую-то остаточную деформацию 1Эр1=Д. Затем испытывают этот же образец по прямолинейным лучам до достижения модулем вектора пластической деформации значения остаточной деформации Д. Соединяя точки плавной линией, получают кривую нагружения. Кривая нагружения смещается в направлении предварительной пластической деформации (рис. 11.5). [c.255]

Обычное устройство простой ахроматической линзы показано на рпс. 13.17. К двояковыпуклой линзе из крона присоединяется (приклеивается) соответствующим образом рассчитанная рассеивающая линза из флинта (см. упражнение 114). Добавочная линза удлиняет фокусные расстояния первой линзы. При этом больще увеличивается фокусное расстояние лучей, сильнее преломляемых (короткой длины волны), так что фокус Оф отодвигается больще, чем фокус Окр. Выбирая соответствующим образом параметры, мы заставляем совпадать фокусы двух (или даже трех) длин волн. Однако при современных сортах стекол не удается добиться совпадения фокусов для всех видимых лучей, в результате чего возникает остаточный хроматизм, называемый вторичным спектром. Для тонких линз совпадение положения фокуса для разных длин волн означает также уравнивание фокусных расстояний, т. е. полную ахроматизацию. Для толстых же линз (систем) совпадение [c.317]

Рентгенографические методы анализа широко используются для изучения структуры, состава и свойств различных материалов. Широкому распространению рентгенофафического анализа способствовали его объективность, универсальность, быстрота многих его методов, точность и возможность решения разнообразных задач, часто недоступных другим методам исследований. Вследствие высокой проникающей способности рентгеновских лучей для осуществления анализа не требуется создание вакуума. С помощью рентгенографического анализа исследуют качественный и количественный состав материалов (рентгенофазовый анализ), тонкую структуру кристаллических веществ - форму, размер и тип элементарной ячейки, симметрию кристалла, координаты атомов в пространстве, степень совершенства кристаллов и наличие в них микронапряжений, наличие и величину остаточных макронапряжений в материале, размер мозаичных блоков, тип твердых растворов, текстуру веп ес1в, плотность, коэффициент термического расширения, толидину покрытий и т.д. [c.158]

При определении еоставляющей напряжения, действующей в определенном направлении, применяют следующий метод. Делают два рентгеновских снимка первый — при перпендикулярном падении рентгеновского луча на поверхность детали и второй — при падении луча иод некоторым углом, но в плоекости нормали и измеряемой составляющей напряжения. По этим снимкам рассчитывают соответствующие межплоскостные расстояния й, и (1 , которые при наличии на исследуемой поверхности детали остаточных напряжений первого рода не равны друг другу. Полученные значения (I и с/ подставляют в формулу для определения напряжения [c.217]

Возможности рентгеноструктурного анализа машиностроительных материалов не исчерпываются методами, рассмотренными в справочнике. В настоящее время разработаны методы измерения остаточных напряжений и де-формвций, числа и распределения дислокаций, размеров, формы и преимущественной ориентировки кристаллов [I, 2, 8, 9]. Некоторые данные для их применения приведены в справочнике [3], Примеры применения рентгеноструктурного анализа для контроля существующих методов упрочнения машиностроительных материалов и разработки новых методов упрочнения термомеханической обработки, обработки лучами лазера и ударными волнами) приведены в работах [5, 7]. [c.4]

Плавку в электронно-лучевых печах (ЭЛП) применяют для получения чистых и ультрачистых тугоплавких металлов (молибдена, ниобия, циркония и др.), для выплавки специальных сплавов и сталей. Источником теплоты в этих печах является энергия, выделяющаяся при торможении свободных электронов, пучок которых направлен на металл. Получение электронов, их разгон, концентрация в луч, направление луча в зону плавления осуществляются электронной пушкой. Металл плавится и затвердевает в водоохлаждаемых кристаллизаторах при остаточном давлении 1,33 Па. Вакуум внутри печи, большой перефев и высокие скорости охлаждения слитка способствуют удалению газов и примесей, получению металла [c.52]

Электронный луч - это поток электронов, возникающий в результате термоэмиссии с раскаленного катода "электронной пушки". Этот поток разгоняется напряжением 20...200 кВ до скорости 0,05...0,70 от скорости света. Обрабатываемая поверхность бомбардируется направленным концентрированным пучком электронов. Последний может фокусироваться электромагнитной системой, отклоняться и подаваться в зону нагрева, где он тормозится в течение 10Л..10 " с. При этом температура материала поднимается до 10 ООО... 15 ООО К (достаточной до испарения металла). Обработку ведут в герметизированной камере, в которой поддерживается остаточное давление 10 ... 10 Па. [c.240]

Остаточные напряжения на поверхности материалов. Для оценки влияния технологии изготовления образцов на величину и глубину поля остаточных напряжений было проведено рентгеноструктурное исследование поверхностного слоя образцов из стали 13Х1Ш2В2МФ и сплава BT3-L Примененная интегральная рентгеновская методика позволяет по ширине линий дифракции рентгеновских лучей судить о макро- н микродеформациях. Работа проводилась на рентгеновском аппарате ДРОН-2 в железном излучении. Регистрация интенсивности дифрагированного образцом излучения и фиксирование дифракционных линий (110). (200), (211), (220) для стали 13Х11Н2В2МФ и (100), (200), (101), (102), (110), (103) для титанового сплава ВТЗ-1 проводились сцинтиляционным счетчиком в режиме записи на диаграммной ленте потенциометра [c.103]

Построим начальную кривую текучести Т (рис. 88), ограничивающую на плоскости OzzOOaa упругую область Dg для исходного (иеупрочненного) металла. Для этого испытывается ряд образцов при различных в каждом опыте отношениях Р р, соответствующих лучам 1, 2, 3, 4 и т. д. На каждом луче отмечается точка А, В, С, F к т. д.), соответствующая началу текучести (определяемая, например, по величине остаточной деформации в 0,2 %). Соединяя найденные точки плавной кривой, получаем кривую текучести Т, или начальную кривую нагружения. [c.205]

Использование вакуумных фотоэлементов для измеретгя остаточной бактерицидной облученности основано на их свой стве давать фототок, прямо пропорциойальяый потоку бактеря=-циДных лучей, падающих на магниевый катод фотоэлемента. [c.85]

Измеряя величны остаточной облученности после Прохождения лучей, пропущенных через отверстие диафрагмы, перекрытое вначале варцевым стеклом, а затем стеклом пирекс , через испытуемую воду и вычитая из первой величины вторую, получим величину остаточной бактерицидной облученности, прошедшей через воду. Эта величина. необходима нам для определения коэффициента поглош ения излучения данной испытуемой водой. [c.87]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...