Форма полосы отражения

ФОРМА полосы ОТРАЖЕНИЙ 271 [c.271]

Форма полосы отражения [c.271]

Из формул (4.16) и (4.17) видно, что одни и те же значения R могут быть получены при различных п и х. Поэтому при произвольных зависимостях n((u), k (u) форма полосы отражения может быть любой, иначе говоря, контуры полос поглощения х((й) и отражения R (a) могут совпасть лишь в особых случаях. В частности, максимальные значения Я(о>) могут получаться при иных значениях ю, чем максимумы х((й). Некоторые ограничения могут накладываться лишь интегральными (в пределах от o)=0 до и->-оо) дисперсионными соотношениями Крамерса — Кронига для п и х [017, 018], справедливыми для любых п а) и х((й), если они аналитичны (см. 35). Анализ ряда возможных видов полосы / (( ) приведен в работе [119]. [c.271]

ФОРМА ПОЛОСЫ отражения [c.275]

ФОРМА ПОЛОСЫ ОТРАЖЕНИЯ [c.283]

Рис. 97. Формы полосы отражения при различных формах экситонных ЗОИ,-

ФОРМЫ ПОЛОСЫ ОТРАЖЕНИЯ 285 [c.285]

ФОРМА ПОЛОСЫ ОТРАЖЕНИЙ [c.287]

Форма полос интерференции в кремниевой пластинке искажается при попадании отраженного пучка в выходное окно лазера, что связано [c.146]

Отраженные от проверяемой поверхности 6 и зеркала И пучки лучей, пройдя микрообъективы 7 и 10, соединяются в полупрозрачном слое пластины 8 и с помощью объектива 13 и зеркала 14 направляются в окуляр 12. В фокальной плоскости окуляра наблюдают изображение проверяемой поверхности и систему интерференционных полос на ней. Форма полос в крупном масштабе воспроизводит профиль контролируемого участка поверхности. Величину искривления полос измеряют винтовым окулярным микрометром МОВ-1 с увеличением 15". Ширину и направление полос можно менять, смещая объектив 10 перпендикулярно [c.149]

Отраженные от проверяемой поверхности 5 и от зеркала И пучки лучей, пройдя микрообъективы 7 и 10, соединяются в полупрозрачном слое пластины 8 и с помощью объектива 13 и зеркала 14 направляются в окуляр 12. В фокальной плоскости окуляра наблюдают изображение проверяемой поверхности и систему интерференционных полос на ней. Форма полос в крупном масштабе воспроизводит профиль контролируемого участка поверхности. Величину искривления полос оценивают на глаз или измеряют винтовым окулярным микрометром МОВ-1 с увеличением 15 . Ширину и направление полос можно менять, смещая объектив 10 перпендикулярно его оптической оси. Для фотографирования интерференционной картины изображение ее получают в кадровом окне 16 с помощью объектива 15 и зеркала 17. Зеркало 14 при этом из хода лучей выводят. [c.137]

Измерения можно выполнять в деталях объемной формы (модели конструктивных элементов аппарата) с неплоскими поверхностями и рассеивающим отражением, тогда как классическая интерферометрия применима лишь при зеркальных плоских поверхностях. Для определения относительных деформаций аналогично методу муаровых полос проводят диф- [c.339]

Так же как и функция видимости, резкость F, характеризу ющая форму контура интерференционной полосы, полностью определяется коэффициентом отражения Я При Я — 1 имеем F — 00. Если Я 0,9 (такое значение Я для зеркал часто используют в реальных интерферометрах), то резкость F оказывается немногим меньше 30 (рис. 5.66). Это значит, что расстояние между двумя соседними максимумами примерно в 30 раз больше ширины каждого из них. [c.241]

Обычно применение интерференционных методов основано на употреблении образцового эталона, сделанного с большой тщательностью. Накладывая со всеми необходимыми предосторожностями (устранение пылинок, выравнивание температуры) на заданную эталонную поверхность испытуемую (рис. 7.10), мы получаем между этими поверхностями тонкую воздушную прослойку, дающую в отраженном свете отчетливую интерференционную картину. По форме интерференционных полос и их ширине можно судить о недостатках изготовленной поверхности и видеть, какие участки отступают от заданной формы, в какую сторону (выпуклость или вогнутость), и приблизительно оценить величину отступлений. Если несовершенство испытуемой поверхности очень невелико, то интерференционные кольца будут широкими, а в отсутствие отступлений вся поверхность будет иметь равномерную окраску. [c.146]

Интересен дефектоскоп для контроля поверхности при дрессировке тонких листов, который измеряет шероховатость листов, движущихся с большой скоростью. Сканирующий луч создает в плоскости детектора изображение, состоящее из основного светового пятна и дифракционных полос, форма которых зависит от структуры исследуемой поверхности. Для того чтобы выделить световые сигналы, соответствующие дефектам поверхности, перед детектором помещают компенсационный фильтр. Благодаря непрозрачным участкам, которые по форме совпадают с дифракционным изображением поверхности нормального качества, не имеющей дефектов, фильтр задерживает сигналы, отраженные основной частью поверхности, и пропускает только сигналы от участка поверхности с дефектами. [c.95]

НЬЮТОНА КОЛЬЦА — интерференц. полосы равной толщины в форме колец, расположенных концентрически вокруг точки касания двух сферич. поверхностей либо плоскости и сферы. Впервые описаны в 1675 И. Ньютоном. Интерференция света происходит в тонком зазоре (обычно воздушном), разделяющем соприкасающиеся поверхности этот зазор играет роль тонкой плёнки (см. Оптика тонких слоёв). Н. к. наблюдаются и в проходящем, и — более отчётливо — в отражённом свете. При освещении монохроматич. светом длины волны A. Н. к. представляют собой чередующиеся тёмные и светлые полосы (рис. 1). Светлые возникают в местах, где разность фаз между прямым и дважды отражённым лучом (в проходящем свете) или между лучами, отражёнными от обеих соприкасающихся поверхностей (в отражённом свете), равна 2ия (л = 1, 2, 3,. ..) (т. е. разность хода равна чётному числу полуволн). Тёмные кольца образуются там, где разность фаз равна (2л + 1)л. Разность фаз лучей определяется толщиной зазора 8т с учётом изменения фазы световой волны при отражении (см. Отражение света). Так, при отражении от границы воздух — стекло фаза меняется на я, а при отражении от границы стекло — воздух фаза остаётся неизменной. Поэтому в случае двух стеклянных поверхностей (рис. 2), с учётом различий в условиях отражения от ниж. и верх, поверхностей зазора (потеря по- [c.370]

Рассмотрим пример расчета профиля интерференционной полосы при прохождении через ИФП световых цугов конечной длины. Пусть мы имеем идеальный ИФП с коэффициентом отражения зеркал R = 0,9. Длина световой волны X = 500 нм, толщина ИФП t = А см, цуг имеет прямоугольную форму, источник света испускает цуги постоянной длины I — 28 см. Вид [c.101]

Толстая, или объемная, голограмма может выполнять роль как фильтра, так и собственно голограммы. В 5.2 мы показали, что голограмма, записанная в толстой среде, образует поверхности внутри такой регистрирующей среды, а не просто интерференционные полосы. Оптимальным углом освещения объемных голограмм является угол, совпадающий с тем, под которым падает опорная волна. Если за время с момента записи объемной голограммы до ее использования регистрирующая среда не меняет своей формы и не испытывает усадки и если она восстанавливается на той же самой длине волны, что и при освещении, то этот угол равен углу Брэгга. Дифракционная эффективность уменьшается не только при отклонении угла падения восстанавливающей волны от своего значения при записи, но также и при изменении длины волны восстанавливающего света. Таким образом, угол Брэгга определяется длиной волны и геометрией схемы записи. Изменение длины волны приводит к изменению угла, при котором все отраженные волны складываются в фазе. Этот эффект исключает появление лишних изображений, наблюдаемых в случае плоских цветных голограмм. Объемная голограмма будет только тогда восстанавливать изображение с высокой дифракционной эффективностью, когда она освещается под соответствующим углом светом с длиной волны, использованной при записи. Вопрос о восстановлении изображений с толстых отражательных голограмм мы подробно рассматривали в 5.1. [c.218]

Острота полос. Характеристикой формы оптического резонанса является острота полос F, определяемая с помощью выражения (2.15). При повышении температуры пластинки острота полос уменьшается, т. е. интерферограмма становится более симметричной относительно средней линии. Например, в пластинке кремния при в = 300 К поглощение линии 1,15 мкм незначительно (а Ri 1 см ) и Rq = 0,31, поэтому наблюдаются узкие минимумы и широкие максимумы отражения (F = 3,25). При увеличении температуры до 0 5504-600 К (а 304-45 см ) различие между шириной максимумов и минимумов практически отсутствует [F г 2). Это соответствует переходу от многолучевой к двухлучевой интерференции. [c.146]

Сдвиг края поглощения. Для полупроводниковых кристаллов применяется зондирование пучком с длиной волны вблизи края собственного поглощения. При увеличении температуры край поглощения сдвигается в длинноволновую область, при этом уменьшается контраст интерферограммы. Например, в отраженном свете для Л = 1,15 мкм при нагревании кремниевой пластинки толщиной 0,34-0,5 мм в диапазоне 2004-300 °С переход от одной полосы к другой сопровождается уменьшением контраста на 5%, что позволяет надежно определять направление температурных изменений [6.26]. При остывании пластинки контраст, наоборот, увеличивается (рис. 6.18). Такая форма [c.155]

Основное отличие ультразвукового спектрального от обычного многочастотного метода состоит в том, что в изделие излучают ультразвуковые колебания в широкой полосе частот, без искажения принимают отраженные от дефекта эхо-сигналы и анализируют спектр этих сигналов. Поскольку спектр зависит от формы и ориентации дефекта к направлению озвучивания и от соотношения размера дефекта к длине волны, то, исследуя огибающую спектра, можно в значительной степени повысить получаемую информацию о дефекте. [c.197]

Стремление уменьшить массы движущихся частей клапанов получило отражение в конструкции полосового клапана (рис. 58, б), упругие пластины которого имеют форму прямоугольных полос. Пластины 3 в свободном состоянии прилегают к седлу 2, выгибаясь при открытии клапана под действием перепада давлений по профилированной поверхности ограничителя подъема 1. Шпонки 5 препятствуют продольному сдвигу пластин, концы которых находятся в направляющих гнездах. Пластины самодействующих клапанов необходимо из- [c.111]

В интерферометре Фабри — Перо (см. 5.7) распределение интенсивности при освещении монохроматическим светом описывается формулой Эйри (5.72). При высоком коэффициенте отражения R зеркал отдельные максимумы имеют лоренцевскую форму (5.75). Такую же форму будет иметь и аппаратная функция, т. е. регистрируемый в монохроматическом свете контур отдельной полосы равного наклона или сигнал фотоприемника при сканировании с использованием круглой диафрагмы очень малого диаметра (что соответствует бесконечно узкой щели в дифракционном или призменном приборе). Если ее рассматривать как функцию от Л6 = 6—2лт, т. е. отклонения разности фаз 6 от ее значения в соответствующем максимуме, то в соответствии с (5.75) [c.318]

Для сильных отражений, полученных при двухволновых условиях от почти совершенного кристалла, который имеет форму клина, интенсивности прошедших и дифрагированных пучков будут показывать затухающие синусоидальные колебания с толщиной, давая полосы равной толщины, параллельные краю клина (гл. 9). Согласно уравнениям (9.1) и (9.2), из периодичности полос можно получить структурные амплитуды, если точно известны угол клина и отклонение от угла Брэгга. [c.339]

Изменяя расстояние х и проводя серию опытов при одинаковом давлении и составе исследуемого газа, используя приблизительно одинаковые диафрагмы, можно зарегистрировать форму отраженного ударного разрыва и сдвиг интерференционных полос, обусловленный процессом его взаимодействия с набегающим потоком на различных расстоя-ииях от торца. [c.116]

Сложение амплитуд, подобное (12.35), послужило основой подробных расчетов Дойля [119], проведенных на основе л-волновой теории интенсивностей плазмонного рассеяния в тонких кристаллах А1, ориентированных так, что возбуждался только систематический набор отражений hhh. В согласии с экспериментальными наблюдениями Дойль показал, что при возбуждении сильного отражения 111 диффузное рассеяние обнаруживает тенденцию к исчезновению в области между сильными пучками ООО и 111 (см. также [214]). Кроме того, в согласии с экспериментом он рассчитал форму полос равной толщины, полученных с помощью пучков электронов [c.277]

Принцип действия интерферометров основан на использовании явле+1ия интерференции света, отраженного от образцовой и исследуемой поверхностей. Форма образующихся интерференционных полос зависит от вида и высоты (до 1 мкм) неровностей контролируемой поверхности. Принцип действия растровых микроскопов основан на явлении образования муаровых полос при наложении ]130бражений элементов двух периодических структур (направленных следов обработки и д.чфракцнонной решетки). При наличии неровностей муаровые полосы искривляются. Высоту микронеровностей определяют по степени искривления муаровых полсс. [c.201]

В первой серии опытов на конец стержня падал груз весом 108 г с высоты 305 мм. Чтобы распределить нагрузку по концу стержня, была предусмотрена тонкая стальная пластинка. Поверхность контакта стальной пластинки с концом стержня была смазана для сведения к минимуму сдерживающего влияния трения. Картины полос для стержня при ударе, приведенные на фиг. 12.1, были сфотографированы камерой Фастакс при скорости съемки 12 500 кадр1сек. Поскольку уретановый каучук, используемый для изготовления образцов, обладает, как это отмечалось в гл. 5, некоторой вязкоупругостью, мон<но было ожидать, что при прохождении вдоль стержня волна напряжений станет ослабевать. Подобное ослабление ясно видно на фиг. 12.2 по уменьшению порядка полос в зависимости от расстояния. На фиг. 12.3 показано, как изменяется форма импульса для пяти характерных моментов времени после удара. При нагрузке падающим грузом можно исследовать только фронт импульса, так как импульс имеет большую протяженность и отражение происходит [c.369]

При измерении ПФ структур с фазовой модуляцией отраженного считывающего света пучок гелий-кадмиевого лазера освещал тест-объект — лезвие ножа. Изображение резкой границы проецировалось на поверхность фотополупроводцика структуры ФП— ЖК- Весьма удобным оказалось иметь в считываемом изображении систему интерференционных полос, перпендикулярных грани це освещенной области [157]. Эта решетка была образована с по мощью интерферометра Майкельсона, одним из плеч которого яв лялось Диэлектрическое зеркало структуры ФП—ЖК. Направле пие начальной ориентации директора в ЖК и электрического вектора считывающего света гелий-неонового лазера совпадали с осью у выбранной коордиг1этной системы. При этом форма интерференционных полос в изображении структуры представляла собой точный график переходной характеристики структуры по фазовой задержке [79]. [c.162]

Принципиальная схема многолучевого интерферометра для исследования неровностей поверхности приведена на рис. 132 [281. Основной частью интерференционной схемы являются пластина 4, Покрытая с нижней стороны полупрозрачным отражающим слоем, и испытуемая поверхность 5. Коэффициенты отражения пластины и испытуемой поверхности обычно подбирают близкими по значению. Между зеркальной пластиной и образцом возникает интерференция многократно отраженных лучей. Интерференционная картина, локализованная на поверхности пластины, рассматривается через микроскоп 1, 2, 3 с увеличением 100><. С помощью принципиальной схемы, изображенной на рис. 132, можно наблюдать интерференцию как в клинообразной, так и плоскоггараллельиой пластине в первом случае эго будут полосы равной толщины. Наряду с полосами равной толщины используются полосы равного наклона, которые позволяют исследовать не только форму плоской поверхности, но и контролировать плоскопараллельность, определяя при этом не только угол клина, но и знак изменения толщины. [c.221]

Из сказанного ясна необходимость накопления и систематизации надежных справочных данных по основным природным и промышленным средам в области поглощения. Между тем, систематизированные результаты для наиболее важной инфракрасной области 1—25 мкм в справочной литературе практически отсутствуют за исключением, пожалуй, данных по металлам. Это объясняется, на наш взгляд, экспериментальными трудностями исследования объектов в области основных колебательных полос поглощения молекул. Однако за последнее время и теория и аппаратурнометодическая база спектральны с методов исследования вещества получили значительное развитие, что существенно углубило и расширило возможности эксперимента. С другой стороны, появление прецизионных ИК-спектрофотометров, оснащенных ЭВМ, и возросший в целом метрологический уровень измерений позволили от традиционных исследований, основанных главным образом на анализе оптической плотности, перейти к измерениям констант, т. е. собственных параметров вещества. Все это привело к тому, что стало появляться все больше публикаций по оптическим постоянным и работ, в которых эти величины используются в той или иной форме. В периодической литературе возник, по-существу, банк констант для различных объектов. Методы спектроскопии нарушенного полного внутреннего отражения позволили повысить точность измерений оптических констант и значительно пополнить круг объектов, малодоступных для количественного анализа традиционными способами исследования. На базе этих методов удалось разработать приемы неразрушающего контроля поверхностных и объемных свойств изделий. [c.4]

III. Лучи 4а и 46 соответствуют той части волны, которая испытывает двукратное рассеяние на поверхности I— до отражения от поверхности II и после него. Эти лучи характеризуются разностью хода А4, зависящей от расстояния между рассеивающими частицами и от скачков фаз, сопутствующих рассеянию на каждой из них. При нерегулярной структуре покрытия величина А4 от точки к точке изменяется хаотически, что приводит к возникновению системы большого числа лучей с некоррелированной разностью хода и созданию некогерентного светового фона, снижающего контрастность интерференционной картины. Вклад некогерентного фона растет с увеличением плотности рассеивающего покрытия. Поэтому соотношение между яркостью изображения S и освещенностью интерференционных полос и их контрастностью в немалой степени зависит от плотности покрытия. Вместе с тем, пространственное распределение интенсивности излучения — индикатриса рассеяния, зависит от размеров рассеивающих частиц d и их формы. При в направлении падения рассеивается больше света, чем в обратном направлении (эффект Ми [45]), Причём, увеличение d сопровождается существенным сужением и удлинением индикатрисы рассеяния в направлении падения. В силу такого инди-катрисного эффекта размеры и яркость интерференционного поля существенно зависят от размеров и формы рассеивающих частиц. Таким образом, свойства рассеивающего покрытия самым непосредственным образом влияют на распределение освещенности в интерференционной картине. [c.11]

По этому методу рентгенограммы от поликристаллов снимают, направляя расходящийся пучок монохроматических рентгеновских лучей под весьма малым углом к поверхности плоского образца и располагая фотопленку почти параллельно этой поверхности. Получаемые таким образом снимки увеличивают в несколько десятков раз, после чего удается наблюдать рефлексы от кристалликов, находящихся в положении отражения. По характеру рефлексов можно судить не только о размере и форме зерен, но и о состоянии кристаллической решетки. Если съемку производят от пластически деформированного образца, каждый рефлекс на рентгенограмме оказывается псресечен ым характерными светлыми полосами, отвечающими следам скольжения . Ред. [c.83]

НЬЮТОНА КОЛЬЦА — интерференционные полосы равной толщины, возникающие в проходящем или отраженном свете в окрестности соприкосновения выпуклой (напр., сферической) поверхности с плоскостью. Интерференция происходит в тонком воздушном зазоре, разделяющем соприкасающиеся тела. При монохроматнч. освещении наблюдается система светлых и темных колец, обрисовывающих линии постоянной оптической, а следовательно, и геометрической толщины, т, к. показатель преломления воздуха близок к 1. В проходящем свете максимумы яркости располагаются при t = т — а) Х/2, где т — целое число, t — толщина зазора, X — длина волны, а — сумма фазовых сдвигов при отражении света от обеих поверхностей, деленная на 2я. При тех же значениях t наблюдаются минимумы яркости в отраженном свете. Т. к. расстояние между полосами соответствует изменению толщины зазора на Х/2, И. к. используются Д.ЛЯ измерения радиусов кривизны поверхностей линз и контроля правильности формы сферических и плоских поверхностей. Радиус кривизны сферич. поверхности можно вычислить по ф-ле р == (r —r )IX n—m) [c.450]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...