Распыление катода 66, 209,

Схема с независимым распылением катодов — схема, в которой поочередно распыляется несколько катодов, а образующиеся пленки осаждаются на одну и ту же подложку последовательно. [c.428]

Различные дефекты освещения объектива слишком большой апертурный угол освещающего пучка из-за излишней длины катода, падения потенциала смещения на направляющем электроде (при этом возрастает ток эмиссии) неправильная фокусировка пучка конденсорной линзой (ток в линзе должен быть немного большим, чем нужно для получения изображения катода в плоскости объекта и соответственно на промежуточном экране) тупая вершина катода или неравномерное распыление катода (появляется двойное изображение, лучше видимое при дефокусировке). [c.38]

В местах соединений расположены генераторы паров активного вещества — металла [223, 224]. Вольфрам-бариевый катод обеспечивает высокую степень локализации и стабильности горения импульсного дугового разряда. В концевых секциях разрядного канала установлены ловушки для защиты выходных окон в основном от паров активного вещества и продуктов распыления катода и анода [225]. Мощный теплоизоляционный слой, расположенный между разрядным каналом и вакуумноплотной оболочкой, обеспечивает при относительно невысоких потребляемых мощностях АЭ (0,5-4,7 кВт) высокие рабочие температуры разрядного канала (1600-1700°С). В качестве буферного газа используется неон высокой чистоты — 99,94%. [c.206]

Разрядный канал 28-33, 36-38, 64-68, 205, 207-209, 212, 213 Распыление катода 66, 209, см. Катод [c.306]

Недостаток конструкции, изображенной на рисунке, заключается в том, что разряд перебрасывается на пространство между катодом и местом впуска газа. Этот недостаток особенно заметен при работе с гелием. В другой конструкции трубки (рис. 1.28) он устранен [131]. Как видно из рисунка, катод (из тантала) диаметром 12 мм, длиной 200 мм присоединен к месту впуска газа. Катод вставляется в алюминиевый держатель и окружается трубкой, которая предохраняет его от ионной бомбардировки. Распыление катода ничтожно, и трубка может работать непрерывно в течение 10 (. Такая конструкция < обеспечивает стабильность разряда, что облегчает применение фотоэлектрических методов регистрации спектра. При больших токах и охлаждении катода водой возбуждаются линии Ne III и [c.39]

В среде аргона медь можно сваривать и переменным током, при этом скорость сварки значительно ниже, а внешний вид шва лучше, чем при сварке постоянным током. При сварке переменным током проволокой Бр.КМц-1 бура для раскисления не требуется, так как расплавленный металл не имеет поверхностной пленки она удаляется вследствие катодного распыления. Катод- [c.198]

Преимущество пушек с полым катодом по сравнению с накаливаемым катодом (обычно в виде вольфрамовой нити) состоит в том, что эти пушки могут работать при относительно высоких давлениях и они просты в изготовлении. Существенным недостатком является распыление стенок полого катода и загрязнение подложки материалом, из которого изготовлены стенки катода. Для уменьшения распыления катода можно заменить аргон гелием, однако гелий требует для поддержания разряда более высокое давление и дает более низкое качество очистки поверхности подложки при ее ионной бомбардировке. Для уменьшения эффекта загрязнения иногда катод изготовляют из того же материала, из которого получают покрытие (например, из нержавеющей стали, титана и т. п.). [c.14]

Обработка слоев с использованием вольфрамового эмиттера [7] могла бы исключить эти явления. Однако при 7 > 2200° К, возможно распыление катода. При более низких температурах электронная эмиссия недостаточна. [c.74]

КАТОДНОЕ РАСПЫЛЕНИЕ - распыление катода при электрическом разряде, используемое для нанесения весьма тонких металлопокрытий па поверхность разнообразных материалов. [c.59]

Полый катод используют для возбуждения спектров как газообразных, так и твердых веществ. В последнем случае для осуществления разряда трубку- заполняют каким-либо инертным газом (Не, Не, Аг и др.)- Вещество, помещаемое в полость катода, поступает в разряд в результате катодного распыления, которое имеет место под действием бомбардировки катода ионами. [c.74]

Основным механизмом возбуждения и ионизации атомов в полом катоде являются неупругие столкновения с электронами. Заметную роль в ионизации, а в ряде случаев и в возбуждении атомов исследуемого вещества, могут также играть соударения с возбужденными атомами инертных газов, находящихся в долгоживущих (метастабильных) состояниях. Гелий обладает наиболее высоким потенциалом возбуждения (19,8 эВ) и потенциалом ионизации (24,6 эВ). Вследствие этого средняя энергия электронов, характеризуемая электронной температурой, в разряде с гелием выше, чем с другими инертными газами. Поэтому в разряде с гелием удается получать спектры трудновозбудимых элементов и их ионов. Наоборот, в случае легковозбудимых элементов лучшие результаты дает использование более тяжелых газов, например аргона, поскольку они вызывают более интенсивное катодное распыление. [c.74]

Высокочастотное распыление. Разряд на постоянном токе нельзя использовать для распыления диэлектрических материалов, так как электроны должны непрерывно уходить с мишени во внешнюю цепь. Поэтому мишень должна быть проводящей. Это ограничение снимается при проведении разряда на переменном токе достаточно высокой частоты, именно такой, при которой за половину периода высокочастотного напряжения, приложенного к электродам Э1 и Э2 (рис. 2.7) электроны не успевают пройти расстояние между анодом и катодом (обычно это частота 10—50 МГц). В этом случае электроны попеременно движутся то к электроду Э1, то к электроду Э2, производя на своем пути ионизацию газа. Для поддержания стационарного характера разряда необходимо, чтобы за время своей жизни каждый электрон произвел в среднем одну ионизацию. Роль электродов Э1 и Э2 сводится теперь лишь к созданию поля в газоразрядном промежутке, и их можно в принципе вынести за пределы разрядной камеры. В установках высокочастотного распыления эти электроды покрываются мишенями MJ и М2 из распыляемого диэлектрика. [c.68]

Во втором случае нагреваемый источник покрытия получает сильный отрицательный заряд, а изделие, на которое наносится покрытие, заряжается положительно. Отрицательно заряженные молекулы пара притягиваются к положительно заряженным обрабатываемым изделиям, в результате чего происходит разряд и осаждение покрытия. Этот метод называется катодным распылением. Он обеспечивает равномерное покрытие без необходимости вращения изделия в камере. Конденсации металла на стенках камеры не происходит. Внутри камеры можно использовать вспомогательные катоды, что позволит ускорить процесс нанесения покрытия и обеспечить равномерную толщину покрытия по всей поверхности обрабатываемых деталей, включая углубления и неровности. [c.103]

Из всех методов газотермического напыления (газопламенного, электродугового, высокочастотного и др.) для целей получения композиционных материалов наиболее широко используют — метод и аппаратуру плазменного напыления. В аппаратах плазменного типа для плавления и распыления материала покрытия используется струя дуговой плазмы, представляюш,ая собой поток газообразного вещества, состоящего из свободных электронов, положительных ионов и нейтральных атомов. Плазменную струю получают путем вдувания плазмообразующего газа (аргона, гелия, азота, водорода и их смесп) в электрическую дугу, возбуждаемую между двумя электродами. Напыляемый материал подается в плазменную горелку либо в виде проволоки, либо в виде порошка. Принципиальные схемы устройства головок плазменных горелок показаны на рис. 75. В головке, представленной на рис. 75, а, напыляемый порошок вводится в дуговую плазму, образуемую между вольфрамовым электродом (катодом) и соплом (анодом). В головке, представленной на рис. 75, б, сопло остается электрически нейтральным, а дуговой разряд возникает между вольфрамовым электродом горелки и напыляемой проволокой, которая является расходуемым анодом [36]. [c.170]

Схема распыления на постоянном токе — схема катодного распыления диодного типа, в которой катодом служит испаряемый материал, а на заземленном аноде помещается подложка. Между электродами поддерживается высокое напряжение, создающее тлеющий разряд. Предварительно в рабочем объеме создается разрежение до 1,3- 10" —1,3 10" Па, затем в камеру Напускается соответствующий инертный газ до давления 10 —1 Па. Метод применяется в основном для распыления металлов и сплавов. [c.427]

Магнетронная схема — метод ионно-плазменного распыления, при котором область газового разряда находится в поперечном магнитном поле обращенного магнетрона (внешний цилиндр — катод, внутренний цилиндр анод), что позволяет усилить ионизацию за счет движения электронов по спиральным траекториям вокруг анода и сконцентрировать ионы плазмы на распыляемой мишени. [c.428]

РАЗРЯД (искровой имеет вид прерывистых зигзагообразных разветвляющихся нитей, быстро прекращающихся после пробоя разрядного промежутка уменьшения напряжения, вызванного самим разрядом кистевой относится к разновидности коронного разряда, сопровождающегося появлением искр вблизи острия коронный — высоковольтный самостоятельный разряд, возникающий в резко неоднородном электрическом поле вблизи электродов с большой кривизной поверхности (острие, проволока) лавинный электрический разряд в газе, в котором возникающие при ионизации электроны сами производят дальнейшую ионизацию несамостоятельный— газовый разряд, существующий при ионизации газа внешним ионизатором самостоятельный не требует для своего поддержания внешнего ионизатора тлеющий происходит самостоятельно в газе при низкой температуре катода, сравнительно малой плотности тока и пониженном по сравнению с атмосферным давлении газа электрический — прохождение электрического тока через вещество, сопровождающееся изменением состояния вещества под действием электрического поля) РАЗУПРОЧНЕНИЕ — понижение прочности и повышение пластичности предварительно упрочненных материалов, РАКЕТОДИНАМИКА — наука о движении летательных аппаратов, снабженных реактивными двигателями РАСПАД радиоактивный (альфа состоит в испускании тяжелыми ядрами некоторых химических элементов альфа-частиц бета обозначает три типа ядерных превращений электронный и позитронный распады, а также электронный захват гамма является жестким электромагнитным излучением, энергия которого испускается при переходах ядер из возбужденных энергетических состояний в основное или менее возбужденное состояние, а также при ядерных реакциях) РАСПЫЛЕНИЕ катодное — разрушение твердых тел при [c.269]

Этот ток имеет в основном три составляющие. Первая обусловлена попаданием во время работы на сетку лампы некоторого количества электронов из катода. Для устранения этого на сетку подают отрицательное напряжение смещение. Вторая составляющая вызвана ионизацией остатков газа в лампе или распылением катода, а третья—электронной эмиссией самой сетки. Для уменьшения второй составляющей сетка внутри лампы крепится на особых стеклянных держателях, защищающих от попадания на ее поверхность проводящих частиц. Уменьшение термоэлектронной эмиссии достигается снижением температуры внутри лампы, для чего понижают температуру катода, применяя специальные материалы. Электрометрическая лампа закрывается экраном от доступа света с целью устранения фотоэлектрс. шого эффекта от внешних источников. [c.41]

Эрозия. Дуга между контактами может вызвать перекос металла с образованием игл, наростов и кратеров на контактах, может сопровождаться испареинем и разбрызгиванием металла. Эти явления называют эрозией. Эрозия - связана с полярностью контактов и поэтому выражена более явно при постоянном токе, чем при переменном. При слабых токах н низких напряжениях эрозия обусловлена возникновением жидкого мостика или короткой дуги между контактами. Короткая дуга является бесплазменной, так как в этом случае не происходит ионизация газа в искровом промежутке. При этом обычно имеет место тонкий перенос металла с анода на катод и образование на нем игл. Плазменная дуга световая между контактами возникает при, более сильных токах. Наименьшие значения тока и напряжения, при которых образуется такая дуга, -определяются так называемой предельной кривой дугообразованпя для данного материала (рис. 22.2). В точках, лежащих выше и правее предельной кривой, размыкание контактов сопровождается образованием плазменной дуги. Эрозия при этом может иметь двоякий характер. При средних нагрузках происходит распыление катода под влиянием бомбардировки его положи- [c.292]

В ртутных лампах в первый период после зажигания разряда плотность паров в холодной лампе мала и дуговой разряд происходит при сравнительно низком давлении, определяемом парциальным давлением инертного газа в лампе. Вследствие этого для зажигания разряда требуется сравнительно невысокое напряжение. Однако увеличивается возможность распыления катода в стадии разгорания, которая длится до нескольких минут. [c.296]

При интерференционных измерениях мер длины обычно применяют гейслеровские трубки, заполненные гелием или криптоном. При малых разностях хода — до 10—15 мм — в линиях гелия можно наблюдать интерференционную картину. Для разностей хода свыше 20 мм пользуются линиями криптона. Формы этих трубок чрезвычайно разнообразны. На рис. 30 изображены наиболее распространенные формы криптоновых и гелиевых трубок. Вследствие распыления электродов стенки лампы вблизи катода покрываются непрозрачным слоем металла катода, и поэтому форму трубок выбирают такой, чтобы катод не находился на пути излучения. Для катодов используют алюминий, никель, вакуумное железо. Но хотя и в меньшей степени, чем другие, эти металлы в атмосфере нейтральных газов все же распыляются. Срок службы трубок достигает 50—100 ч и зависит от тренировки трубок и степени распыления катода. Распыление катода увеличивает поглощение светящегося в трубке газа, из-за чего снижается срок ее службы. Можно уменьшить это отрицательное явление, если применить карбиды. [c.56]

Отличительным признаком диодной схемы распыления является то, что при распылении катод является источником и распыляемого материала, и электронов, поддерживающих разряд, а анод также принимает участие в возбуждении разряда, одновременно являясь подложкодержателем. [c.115]

В реальных условиях взрывного прессования имеют место процессы, препятствующие качественному компактированию порошков. К ним можно отнести упругое последействие, вызывающее трещинообразование прессовок после снятия ударной нагрузки [128], инерционность масс уплотняемого порошка, приводящую к градиенту плотности с уменьшением по направлению воздействия импульсной нагрузки [61], сопротивление защемленного в порах воздуха [61], взаимодействие с прессуемым материалом воздуха и адсорбированных на поверхности частиц газов и влаги, подвергающихся в порах адиабатическому сжатию и вытесняемых с большой скоростью из пористой заготовки, что приводит к значительному разогреву как самой газовой смеси, так и масс порошка, что в свою очередь способствует активному газонасыщению материала. Расширяющийся при снятии нагрузки сжатый до огромных давлений и сильно разогрегьш 1аз способен разрушить образовавшиеся контакты между частицами, охрупченные при газонасыщении [70, 69]. Защемленные в порах и частично растворенные в металле газы при последующей термической обработке образуют газовые пузыри, препятствующие достижению теоретической плотности материалов [8]. В дальнейшем при эксплуатации газовые примеси отрицательно влияют на процесс распыления катодов и качество наносимых покрытий. [c.134]

Конструкции более мощных разрядных труйок даны в работах [34—39]. В качестве примера дадим описание разрядной трубки мощностью 5 кет [34]. Как видно из рис. 1.2, трубки для направления водяного потока обеспечивают эффективное охлаждение разрядного капилляра электроды также охлаждаются водой. Кварцевые стаканчики, приваренные к кварцевой трубке, отделяют резиновые уплотнения от зоны разряда. Сильное распыление катода при больших токах приводит к не- [c.12]

Скорость распыления катодов зависит от энергии, угла паденид и природы ионов-бомбардировщиков, природы распыляемого металла, геометрических факторов. Энергия бомбардирующих ионов возрастает с увеличением массы ионов и анодного напряжения. При прочих равных условиях наиболее легко расплываются золото, серебро, платина медленно — магний, алюминий, кремний, вольфрам [38]. [c.41]

Вторая составляющая вызвана ионизацией остатков газа в лампе или распылением катода, а третья — электронной миссией самой сетки. Для увеличения сопротивления изоляции сетки вывод от нее располагается в верхней части баллона (рис. 1-8) внутри лампы сетка крепится на особых стеклянных держателях, защищенных от попадания на ее поверхность проводящих частиц (образующихся от геттера и др.). Уменьшение термоэлектронной эмиссии достигается снижением температуры внутри лампы, для чего понижают температуру катода, применяя специальные материалы. Электрометрическая лампа закрывается от доступа света с целью устранения фотоэлектронного эффекта от нешних источников. [c.28]

Значительное сокращение (в 2—3 раза) общего времени процесса достигается при азотировании в тлеющем разряде (ионное азотирование), которое проводят в разреженной азотсодержащей атмосфере (NH., или Na), при подключении обрабатываемых деталей к отрицательному элекгроду — катоду Анодом является контейнер установки. Между катодом (деталью) и анодом возбуждается тлеющий разряд, и положительные ионы газа, бомбардируя lumep х пость катода, нагревают ее до температуры насыщения. Процесс ионного азотирования реализуется в две стадии первая—(.чнсгка поверхности катодным распылением вторая — собственно насыщение. [c.243]

Об удовлетворительном выявлении структуры путем катодного распыления сообщено в работе [31]. Шлифованный образец устанавливают в качестве катода в электронной лампе (разрежение от 0,05 до 0,005 мм рт. ст.), анод лампы сделан из алюминия. При продолжительности эксперимента от 15 с до 10 мин в лампе создается напряжение от 2000 до 7500 В постоянного или переменного тока. В результате различной способности к распылению структурных составляющих выявляется структура образца. Структура медносеребряных сплавов хорошо проявляется после 15 с обработки, при этом первичный твердый раствор (особенно в литых образцах) и твердый раствор, богатый медью, в эвтектике окрашиваются в темно-коричневый цвет. Для успешного травления необходимо, чтобы образец содержал более одной, минимум две фазы, которые обладают различной склонностью к распылению. Так, медноцинковые сплавы с 28% Си хорошо протравли- [c.22]

Бомбардируя мишень, ионы выбивают из нее атомы, часть из которых попадает на подложку П и, конденсируясь, образует пленку. Таким образом, давление газа в камере влияет на распыление мишени сложным образом. С увеличением давления увеличивается число столкновений электронов с атомами газа на пути от катода до анода. Поэтому должно возрастать и количество образующихся положительных ионов при том же токе катода. Однако вовсе не каждое соударение электрона с атомом приводит к ионизации, даже если энергия электрона достаточью велика. Если же электрон еще не набрал энергии выше энергии ионизации ил й возбуждения атома, то при соударении происходит лишь обмен кинетической энергией между электронами и атомами газа. Хотя массы сталкивающихся частиц в этом случае очень сильно отличаются друг от друга и потери энергии электроном при каждом соударении невелики, тем не менее с ростом давления газа в камере средняя энергия электронов в том же самом электрическом поле уменьшается. Это значит, что уменьшается и относительное число соударений электронов, приводящих к ионизации атомов. Расчет показывает, что среднее количество ионов, создаваемых в газе каждым выходящим из катода электроном, с ростом давления сначала повышается, а затем падает. Эффект этот был открыт А. Г. Столетовым в конце XIX века, исследовавшим влияние газового наполнения на ток в приборе с фотоэлектронным катодом, и получил название эффекта газового усиления. Наибольшее газовое усиление происходит при некоторой величине отношения напряженности электрического поля к давлению, характерной для каждого газа. Для аргона, например, она равна 175 В/м-Па. Это означает, что при напряженьюстях поля 500— 1000 В/м оптимальное давление Аг составляет 3—6 Па (0,02— [c.65]

Плазменное напыление схоже с процессом электродугового напыления тем, что для плавления и распыления подаваемого металла используется электрическая дуга постоянного тока. В данном случае дуга представляет собой ионизированную газовую плазму, образующуюся между электродами металла, охлаждаемыми водой. Электроды в этом процессе не расходуются. В плазменном металлизаторе точечный вольфрамовый катод, охлаждаемый водой, установлен концентрически у основания соплообразного охлаждаемого водой медного анода. Подаваемый газ под углом поступает сзади в кольцевой между-электродный зазор, ионизируется и образует дугу. Поток газа выталкивает дугу в отверстие сопла, где спиральный поток создает концентрацию тепла в центре плазменной дуги. Благодаря очень высокому температурному градиенту, образуемому при этом расположении дуги, температура в центре достигает 20000° С. Температура стенки сопла составляет 250° С. Металл для покрытия в виде порошка подается во втором потоке газа и радиально впрыскивается в сопло металлизатора. Частицы металла, проходя через плазменную дугу, плавятся, распыляются и выводятся из сопла под действием потока газа. [c.80]

При газовом азотировании образование на поверхности е-фазы происходит в результате диффузии и постепенного увеличения концентрации азота в твердом растворе. При ионном азотировании в образовании диффузионного слоя помимо обычного процесса диффузии участвует процесс обратного катодного распыления, в результате которого атомы материала катода, выбитые с поверхности, соединяются в плазме тлеющего разряда с азотом и оседают на поверхности образца, покрывая ее равномерным слоем е -фазы. Если материалом служит легированная сталь, явление катодного распыления усложняется. В начале процесса один из металлов удаляется быстрее другого, в результате чего на поверхности сплава образуется тонкий спой нового однородного соединения. Это позволяет предположить, что приобретение поверхностью образцов из стали 38Х2МЮА защитных свойств связано, кроме нитридного слоя какого-либо из легирующих элементов. [c.173]

Эффективность диодных систем катодного распыления снижается при давлениях ниже Ю ЧЛа в связи с уменьшением концентрации ионов рабочего газа, в то же время для получения газоненаполненных пленок целесообразно уменьшить давление в рабочей камере. С этой целью разработаны системы с искусственным поддержанием разряда за счет использования либо термоэмиссионного катода, либо высокочастотного поля, а также многоэлектродные системы. Для поддержания высокочастотного разряда и стабилизации тлеющего разряда используется магнитное поле, предотвращающее попадание вторичных электронов на подложку. Эта группа схем получила название ионно-плазменного распыления. [c.428]

Основная трудность в создании стабильных автоэлектронных катодов состоит в том, что автоэлектронная эмиссия чрезвычайно чувствительна к изменению геометрии катода и состоянию его поверхности. Работа автоэлектронного катода в электронном приборе сопровождается различными процессами, происходящими на его поверхности основные из них ионная бомбардировка пондеромо-торные нагрузки адсорбция и десорбция молекул остаточных газов поверхностная миграция и т. д. В зависимости от конкретной конструкции и режима эксплуатации автокатода, перечисленные процессы, порознь или в некоторой совокупности, приводят к ряду эффектов, изменяющих режим их работы катодное распыление материала, изменение формы эмиттирующей поверхности, изменение количества и расположения микровыступов, изменение работы выхода электронов, разогрев катода, механические напряжения. [c.5]

Продукты распыления, осаждаемые на охлажденных стенках разрядной камеры, а также на поверхность катода, который имеет меньшую температуру, чем анод, содержат частицы графита, фул-лерены, нанотрубки. Эти нанотрубки отличаются разными углами ориентации графитовой плоскости относительно оси трубки, т. е. разной хиральностью. [c.36]

При катодном распылении атомы углерода поступают из катода в результате бомбардировки ионами высокой энергии. Затем эти атомы движутся по направлению к высокому положительному потенциалу в системе (рис. 1.22). При катодном распылении используют систему с низким давлением (обычно давление аргона лежит в диапазоне 10 — 10 мм рт. ст.). Напряжение между анодом и катодом порядка 5 кВ. Нагрев катода увеличивает эмиссию свободных электронов, которые, сталкиваясь с атомами газа, обусловлива- [c.39]

ПОД действием электронной бомбардировки происходит распыление аморфной составляющей материала анода и высвобождение на его поверхности пластинок графита. Материал, напыляемый из этих пластинок на катод, на фотографии наблюдается в виде светлых пятен. При увеличении дозы электронной бомбардировки (рис. 4.19в) происходит увеличение количества переносимого на катод материала и более равномерное распределение его по рабочей поверхности. Соответственно увеличивается шероховатость поверхности анода. В конечном итоге (при дозе электронной бомбардировки >20мА ч) происходит образование одинаковых по виду (рис. 4.19г) структур на рабочих поверхностях катода и анода, характеризующихся большим количеством микровыступов. При этом на поверхности анода наблюдаются отдельные шарообразные образования со средним радиусом закругления около 2 мкм, связанные с сублимацией графита при выделении во время электронной бомбардировки большой локальной мощности. Структуры поверхностей анода и катода свидетельствуют о существовании при определенных режимах токоотбора состояния динамического равновесия для процесса переноса материала с анода на катод и наоборот. В результате анод по структуре своей рабочей поверхности становится похожим на катод и при перемене полярности питающего напряжения работает как автокатод. Следовательно, конструкция автоэлектронного прибора с электродами из одинакового материала неприменима для выпрямительных диодов, но вполне может быть пригодной для других типов приборов, например электронно-лучевых. Основное направление для устранения вышеуказанных явлений — это улучшение теплоотвода, охлаждение электродов (особенно анода), отделение электродов друг от друга, например, сеткой и т. д. [c.196]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...