Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...

Статьи Чертежи Таблицы О сайте Реклама

Диаграмма рассеяния

Импульсная диаграмма рассеяния  [c.214]

Импульсная диаграмма рассеяния 216—220, 522  [c.716]

Импульсная диаграмма рассеяния 66 Искровая камера 165, 255 Истинно-нейтральные частицы 235  [c.333]

Рис. 7.56. Диаграмма рассеяния нуклона на нуклоне, в которой учитывается взаимодействие пионов. Рис. 7.56. Диаграмма рассеяния нуклона на нуклоне, в которой учитывается взаимодействие пионов.

Рис. 7.57. Узел, входящий в диаграмму рассеяния нуклона на нуклоне. Рис. 7.57. Узел, входящий в диаграмму рассеяния нуклона на нуклоне.
УЗК волнистой поверхностью также определяется ее параметрами. Па этой основе установлена корреляция между параметрами Граничной поверхности (амплитудой h й периодом А) и характеристиками диаграммы направленности рассеянного поля. На рис. 93 показаны зависимости амплитуды отраженного сигнала от параметров граничной поверхности для биметалла, изготовленного взрывом. С увеличением А увеличивается число рассеянных пучков продольных и поперечных волн и уменьшаются углы между ними. С возрастанием h уменьшаются максимумы амплитуд рассеянных пучков и увеличивается относительная ширина диаграммы рассеянных полей.  [c.287]

Рис. 7.10. Диаграмма рассеяния длительности единичных рабочих ходов при обработке комплекта корпусных деталей на станках с ЧПУ Рис. 7.10. Диаграмма рассеяния длительности единичных <a href="/info/332182">рабочих ходов</a> при <a href="/info/732834">обработке комплекта</a> <a href="/info/121442">корпусных деталей</a> на станках с ЧПУ
Этап I. Оценка характеристик комплекса обрабатываемых деталей ( pj, s) по результатам многократных замеров, поскольку технологическая документация не всегда соответствует значениям технологических параметров на рабочих местах. На рис. 7.10 приведена диаграмма рассеяния длительностей единичных обработок — интервалов времени между началом рабочего хода инструмента и его окончанием для деталей типа головки блока цилиндров и т. п. Измерения производились в течение двух недель по шести многооперационным станкам с ЧПУ всех обработанных изделий при всех переходах во время обработки. Как видно, несмотря на разнообразие изделий, технологических переходов, длин обработки и режимов, длительность единичных обработок сосредотачивается в пределах до 100 с. Среднее время единичной обработки (его математическое ожидание) составляет ,р =52,5 с, что характеризует как конструкцию изделия данного комплекта, так и методы и режимы обработки. Аналогично определяется и величина s.  [c.183]


Этап II. Оценка характеристик рабочего цикла технологического оборудования ( псп. Х1, х> и др.) производится, как и на предыдущем этапе, по результатам многократных замеров длительности выполнения элементов рабочего цикла с последующей математической обработкой результатов (построением диаграммы распределения, расчетом средних значений и т. д.). На рис. 7.11 приведена диаграмма рассеяния длительности единичной замены координат как интервала времени между двумя рабочими ходами  [c.183]

Рис, 7.11. Диаграмма рассеяния длительности единичной замены координаты обработки на многооперационном станке с ЧПУ  [c.184]

Вторым выходным документом обработки результатов измерений является фактическая циклограмма работы оборудования, которая, как правило, отличается от проектной вследствие изменения режимов работы, быстродействия механизмов и т. д. Третий документ — диаграмма рассеяния размеров обрабатываемых деталей.  [c.196]

Зона V подробно проанализирована в [33 ] и обладает тем преимуществом, что имеет ярко выраженный максимум главной радуги, положение которой в случае кругового цилиндра зависит только от показателя преломления. Если поперечное сечение волокна имеет форму эллипса, то положение главной радуги смещается относительно оси симметрии диаграммы рассеяния. По величине смещения можно судить о степени эллиптичности волокна. Таким образом, диаграмма рассеяния в зоне V содержит сведения не только о диаметре волокна, но и о степени его эллиптичности и показателе преломления. Недостатками этой зоны являются меньшая интенсивность, чем в зонах I и II, меньшая чувствительность к изменению диаметра волокна и большая зависимость диаграммы рассеяния от изменения показателя преломления материала волокна.  [c.276]

Визуализацию корреляционного анализа осуществляют с использованием диаграмм рассеяния.  [c.156]

Порядок построения диаграммы рассеяния  [c.156]

КРИТЕРИИ КАЧЕСТВА ИЗОБРАЖЕНИЯ НА ОСНОВЕ лучевой ДИАГРАММЫ РАССЕЯНИЯ  [c.91]

Как уже отмечалось, в большинстве случаев расчет оптической системы включает в себя этап численной оптимизации, на котором через различные варианты системы прослеживают ход определенного числа лучей, равномерно заполняющих зрачок, а качество изображения предметной точки оценивают по параметрам диаграммы рассеяния, формируемой этими лучами. Огромная практическая ценность метода расчета хода лучей заключается в том, что он позволяет учитывать полные аберрации системы, а не один-два низших порядка, как методы теории аберраций. Поэтому характеристики системы, полученные расчетом хода лучей, наиболее приближены к реальным. Более того, установленная этим методом работоспособность оптической системы с точки зрения ее аберрационных свойств может быть нарушена при практической реализации объектива только за счет несовершенства его изготовления.  [c.91]

Критерии Qi и Qi равны нормированным среднему радиусу и среднему квадратичному радиусу лучевой диаграммы рассеяния. В выражениях (3.14) в качестве нормирующей константы вместо рэлеевского разрещения 6 можно использовать произвольный размер Го, и тогда критерии Qi— Q4 аналогично кри-  [c.92]

Для остальных лучевых критериев такой экстремальной опорной точки найти не удается, поэтому их также вычисляют относительно центра тяжести лучевой диаграммы. Так как волновая аберрация симметрична относительно меридиональной плоскости, центр тяжести лучевой диаграммы рассеяния, как и дифракционный фокус, должен находиться в этой плоскости. Используя выражения (3.8)—(3.10) для волновой аберрации системы, вычисленной относительно произвольной точки в меридиональной плоскости вблизи от точки гауссова изображения, найдем производную дФ дц согласно соотношению dO Jdi = == (<5Фу<Эр)/со5 6 — (<5Фу(Э0)/(р sin 0) (ось лежит в меридиональной плоскости, от которой отсчитывается угол 0) и подставим ее в (3.17). Интегрируя и приравнивая результат нулю, получим для меридиональной координаты центра тяжести диаграммы рассеяния (по отношению к гауссову изображению)  [c.95]


Из уравнения (3.18) прежде всего следует, что меридиональная координата центра тяжести не зависит от положения плоскости изображения, в которой рассматривается диаграмма рассеяния. Этот результат—прямое следствие того, что при выводе выражения (3.15) не учитывали наклона луча к оси системы (аг 1), и вообще неверен, однако для небольших расстояний от плоскости гауссова изображения формула (3,18) вполне удовлетворительна. Сопоставляя (3.18) с меридиональной  [c.95]

Координатой Ауо дифракционного фокуса (3.12), легко убедиться, что положение центра тяжести лучевой диаграммы правильно отражает смещение изображения точечного источника в гауссовой плоскости при наличии у системы дисторсии Lg, но дает неверное представление о подобном смещении за счет других нечетных аберраций. Расчеты, однако, показывают, что при высоком качестве изображения [ (6) 0,73] независимо от вида аберрационных искажений расстояние между точкой максимальной интенсивности в дифракционном изображении и центром тяжести лучевой диаграммы рассеяния j АУо — Дг/о1 < 0,36, что, как правило, несущественно.  [c.96]

Нормированная на рэлеевское разрешение координата центра тяжести диаграммы рассеяния  [c.97]

ПОГРЕШНОСТИ ВЫЧИСЛЕНИЯ ЦЕНТРА ТЯЖЕСТИ ЛУЧЕВОЙ ДИАГРАММЫ РАССЕЯНИЯ И ЛУЧЕВЫХ КРИТЕРИЕВ  [c.98]

В рассматриваемом случае исследовались критерий концентрации энергии в диске Эйри Е(8), интенсивность Штреля D и лучевые критерии Qs, Q4. Лучевые критерии Qi, Q2 не рассматривались, поскольку уже вычисление различных критериев для отдельных типов аберраций показало, что Qi, Q2 плохо коррелируют с Е 8). Действительно, относительный разброс значений D, Qs, и Qi для отдельных аберраций, входящих в формулу (3.8) при в (8) = 0,73, составил 17, 18 и 20%, тогда как для Qi и Qг — 47 и 66%. Критерии вычислялись в нормированном виде относительно дифракционного фокуса в плоскости изображения [ (6), D] или центра тяжести диаграммы рассеяния (Q3, Qi). Случайным образом формировался набор нормированных обоб- щенных аберрационных коэффициентов — Ls. Коэффициент дисторсии Гд, которая сама по себе не влияет на качество изображения, вычислялся по — 8 с помощью соответствующих выражений (см. пп. 3.1, 3.2) таким образом, чтобы дифракционный фокус или центр тяжести находился в точке гауссова изображения.  [c.99]

Существо эффекта заключается в появлении дополнительного пика в индикатрисе рассеяния, если угол скольжения падающего пучка превышает критический угол ПВО 0о > 0е. Иллюстрацией может служить рис. 2.6, а, б, на котором приведены экспериментальные угловые диаграммы рассеяния (зеркальная компонента не вычиталась) рентгеновского излучения X = 0,154 нм) от ряда образцов. Дополнительные пики на диаграммах рассеяния соот-  [c.67]

Наличие шероховатостей будет приводить к уменьшению суммарной интенсивности пучка на выходе поворотного зеркала по двум причинам. Во-первых, из-за того, что при каждом отражении часть рассеянного излучения проходит внутрь вещества зеркала и поглощается. Во-вторых, из-за конечной угловой диаграммы рассеяния пучок по мере распространения вдоль вогнутой поверхности постепенно расширяется, т. е. часть его за счет рассеяния на шероховатостях перебрасывается в область больших углов скольжения, где коэффициент отражения мал, и в конечном счете также поглощается веществом зеркала.  [c.143]

Зная решение (5.10), (5.12а), можно найти, например, диаграмму рассеянного поля, т. е. зависяш ий только от ф множитель / (ф) при ехр (—i r)/в асимптотическом равенстве  [c.46]

В качестве примера на рис. 7.6 представлена поэтапная диаграмма рассеяния размеров желоба подшипниковых колец 209/02 после токарной 1 и термической 2 обработки, чернового 3 и чистового 4 шлифования. Были скомплектованы три партии колец с рассеянием размеров после токарной обработки D = 80 130 и 180 мкм при допуске Stok = 150 мкм. После термической обработки рассеяние размеров во всех партиях значительно возросло и выравнялось если после токарной обработки рассеяние размеров различалось в 2,25 раза, то после термообработки — только в 1,4 раза. После чернового шлифования различие в погрешностях стало несущественны.м, а после чистового— незначительным. Точность колец всех трех партий удовлетворяет требованиям к точности готовых колец брот-  [c.177]

На рис. 3 представлена в качестве примера диаграмма рассеяния размера ы желоба подшипниковых колец 209/02 после токарной обработки ), термообработки (2), чернового (обдирочного) (5) и чистового (4) шлифования. Были скомплектованы три партии колец с рассеянием размеров w после токарной обработки, равным 80, 130 и 180 мкм при допуске бтог, — = 150 мкм и допуске на готовое изделие бгот = 16 мкм.  [c.49]

С. Б. Тарасовым и В. А. Шеметилло были построены диаграммы рассеяния параметров вибраций, действующих на приборы в вертикальном направлении и в горизонтальной плоскости, в координатах частоты и амплитуды перемещения. Сопоставление этих диаграмм вибрационных помех показало, что вибрационное воздействие на приборы в вертикальном и горизонтальном направлениях практически одинаково. Амплитуды действующих вне станков вибраций не превышают 30 мкм при их уменьшении с увеличением частоты. При этом существенные амплитуды Sia = А вибропереме-щения (0,5 мкм и более) наблюдаются при частотах до 60 Гц. Наибольшая амплитуда действующего виброускорения составляла 0,4 м/с . Довольно узкий  [c.113]

Регистрация заряж. леи Рис. о. Диаграммы рассеяния тонов и измерение т. н. не- нейтрино на кварках н электро-достающсй энергии, уно-  [c.263]

В случае множеств, объектов или регулярных непрерывно распределённых возмущений среды особое значение имеют коллективные эфс кты, обусловленные суперпозицией полей рассеяния и взаимным перераспределением (многократным рассеянием). Так формируются диаграммы рассеяния от периодич. решёток, многослойных структур (см. Дифракционная решётка, Брэгговское отражение). В нелинейных средах такие (как правило, периодические), структуры образуются как отклики среды ва интенсивные поля ыакачки или на разл. суперпозиции поля в многоволновых комбинациях. Эти случаи относятся к явлениям вынужденного Р. в. (см., папр., Мандельштама — Бриллюэна рассеяние).  [c.266]


На рис. 25—34 представлены диаграммы рассеяния расчетных значен11й термодинамических функций, полученные с помощью системы эквивалентных уравнений.  [c.81]

Анализ диаграмм рассеяния позволил перейти от двадцатимериого пространства вибрации к пятимерному, характеризующемуся следующими полосами частот 20— 100, 100—200, 800-900, 1100—1200, 1600—1700 Гц.  [c.438]

Если необходим более тщательный учет дисторсии оптической системы, то можно использовать несколько искусственный прием, вычисляя центр тяжести неполной диаграммы рассеяния. В этом случае рассматривают только лучи, проходящие через центральную круговую зону зрачка, площадь которой составляет 2/3 от полной площади зрачка. Для того чтобй найти центр тяжести диаграммы, образованной центральными лучами, необходимо повторить вывод (3.18[j HO при этом в (3.17) интегрировать не до рш, а до р т — л/ Pm/V - В итоге получим меридиональную координату центра тяжести неполной диаграммы рассеяния  [c.96]

Методика исследования заключалась в следующем. Значения критериев Qi и координаты центра тяжести диаграммы рассеяния ДУо вычисляли сначала в нормированном виде с использованием различного числа точек, равномерно распределенных по площади зрачка. После этого все нормированные величины переводили в естественные единицы (апертурный и полевой углы ортической системы, в выборе которых был определенный произвол, принимались равными 20° каждый), а все критерии и центр тяжести вычисляли снова по параметрам реальной лучевой диаграммы с помощью формул (3.14) при тех же числах лучей, что и в нормированном виде. Значения искомых величин, полученные при 500 точках в зрачке или лучах, принимали за истинные для данного способа вычисления.  [c.97]

Рис, 2,6. Экспериментальные угловые диаграммы рассеяния рентгеновского излучения (X = 0,154 нм) 1Ю] а — от пленки олова толщиной 0,4 мкм, напыленной на подложку из стекла К8 (/ — 0о = 0,5° 2 — 0,6° 5 = 0,7°) <Г — от трех различных пленокя  [c.67]

Этот же метод используют для исследования характеристик рассеяния волн различными предметами. Модулируемой характеристикой здесь является диаграмма рассеяния объектов, которые могут быть облучены с различных направлений. Весьма важная характеристика таких объектов - эффективная площадь рассеяния (площадь цели). Она входит в расчет дальности действия радиолокатора и позволяет определить многие тактико-технические параметры локатора- энергию импульса, его длительность, зону обзора и др.  [c.127]

Метод ПОЛНОСТЬЮ применйм и для определения характеристики рассеяния плоской волны. Вместо точек г и гг надо при этом ввести направление, из которого приходит возбуждающая волна, и направление, в котором ищется рассеянное поле. Функции 0 г, х) и 0(г2у х) заменятся своими асимптотическими формами (т. е. полем плоских волн), которые, например, для двумерной задачи даются первым слагаемым в (11.11) с заменой 00 на 01 и 02, соответственно. Функционал (15.17) дает стационарное выражение для диаграммы рассеяния волны, приходящей из направления 01, в направлении 02.  [c.153]


Смотреть страницы где упоминается термин Диаграмма рассеяния : [c.442]    [c.95]    [c.97]    [c.98]    [c.98]    [c.154]    [c.15]    [c.252]    [c.73]    [c.74]    [c.67]   
Смотреть главы в:

Рассеяние света малыми частицами  -> Диаграмма рассеяния

Рассеяние света малыми частицами  -> Диаграмма рассеяния



ПОИСК



Гомологические диаграммы рассеяния

Диаграмма полярная рассеяния на металле 603GCG

Диаграмма рассеяния для поляризованного света

Диаграмма рассеяния и фазовая функция

Диаграмма рассеяния согласно геометрической оптике

Диаграмма рассеяния, даваемая формулами Ми Вопросы, связанные с интерполяцией

Диаграммы кольцевые для комптоновского рассеяни

Импульсная диаграмма рассеяни

Импульсная диаграмма рассеяния

Импульсная диаграмма рассеяния (релятивистская)

Критерии качества изображения на основе лучевой диаграммы рассеяния

Обратное рассеяние импульса, излучаемого передатчиком с широкой диаграммой направленности

Рассеяние действительных размеров деталей в партиях при серийном и массовом производствах. Диаграммы распределения. Частота Частость. Плотность частости. Характер распределения

Рассеяние характеристик сопротивления усталости и построение полных вероятностных диаграмм усталости

Фазовый анализ (я—А)-рассеяния. Диаграмма Аргана Формулы Брейта—Вигнера для резонанса



© 2025 Mash-xxl.info Реклама на сайте