Система плазмотроном

Конвективное охлаждение часто используется в камерах сгорания жидкостных ракетных двигателей (ЖРД), а также в стационарных высокотемпературных промышленных установках (плазмотронах и др.). Здесь применяются системы трубчатого охлаждения, состоящие из разветвленной сети каналов или труб, расположенных под нагреваемой поверхностью и находящихся в тесном контакте с ней. Через трубы непрерывно прокачивается жидкий или газообразный охладитель. Максимальное количество тепла, поглощенное такой системой, зависит от теплопроводности материала стенки, расхода и теплоемкости охладителя. В ЖРД применяется обычно система разомкнутого типа использованное в качестве охладителя топливо поступает затем в камеру сгорания двигателя и там сгорает. [c.14]

Первый вид плазменного слоя представляет собой комбинацию обычного промышленного плазмотрона с псевдоожиженным слоем, в нижнюю часть которого подается восходящая плазменная струя. Плазмотрон в этом случае должен иметь до статочно надеж-ную стабилизацию дуги, учи-> тывая пульсирующее сопротивление слоя, в который входит струя. Прототипом этого вида аппарата с плазменным слоем является рассмотренная выше установка для быстрого охлаждения плазменной струи (см. рис. 3-3). Такая система хорошо подходит для проведения плазмохимических реакций в газовой фазе. Продукты реакции можно быстро охладить без разбавления, возможно иопользован ие тепла, а твердые продукты реакции могут быть агломерированы и уловлены (Л. 467]. Однако, как известно, такая система не приспособлена для проведения реакции между твердыми материалами. Водоохлаждаемая стенка вызывает чрезмерно большие градиенты темпера- [c.182]

Режущие плазмотроны. Они содержат два основных блока электродный и сопловой, электрически изолированные друг от друга, узлы подачи плазмообразующих газов, основного и вспомогательного тока, крепления электрода, а также системы охлаждения электрода и сопла (рис. 10.16). Электродный и сопловой блоки являются составными частями дуговой камеры, в которой возбуждается дуговой разряд при подаче плазмообразующих газов. [c.358]

Соответственно портальные машины для плазменной резки оснащаются системами программно-числового, фотоэлектронного или линейного управления. Выпускаются машины с шириной обработки от 2,5 до 8 м и количеством одновременно работающих плазмотронов от 1 до 4. [c.212]

Система охлаждения плазмотрона Расход плазмообразующего газа (наибольший), м7ч Водяное Воздуш- ное Водяное Водяное Воздуш- ное [c.217]

Рис. 2.15. Плазмотрон, работающий на жидком азоте, с системой

На рис. 2.15 показана система питания плазмотрона жидким азо- [c.59]

В автономной системе магнитные катушки включаются последовательно с дуговыми разрядами, поэтому величина сдвига фаз не зависит от режима работы плазмотрона, что является главным преимуществом такой системы. [c.166]

К стандартным относятся измерения давления и расхода охлаждающей воды, газа на входе в плазмотрон, давления газа в разрядной камере, разности температур охлаждающей воды на входе и выходе системы охлаждения в целом или ее отдельных узлов, измерения электрических параметров (напряжения, тока, мощности). [c.284]

Оборудование (установки, машины) для плазменных процессов сварки, наплавки и резки состоит из плазменной аппаратуры и механизмов, обеспечивающих перемещение плазмотрона относительно обрабатываемого изделия. Оно может функционировать в составе автоматизированных линий (станов). Плазменные установки представляют собой комплекты из плазмотрона (плазменной горелки), источника его питания и системы управления электрическими и газовыми параметрами плазменной дуги. Установки для сварки и наплавки кроме плазменных установок обычно комплектуются механизмами подачи присадочной проволоки или (в случае наплавки) порошковыми дозаторами и механизмами колебания плазмотрона. Основные составляющие плазменной аппаратуры (плазмотрон, источник питания, система управления) при всем их многообразии имеют ряд общих схемных и конструктивных решений. [c.369]

В технике плазменной резки применяются две системы стабилизации и обжатия столба дуги — осевая и вихревая, отличающиеся одна от другой направлением подачи плазмообразующего газа в дуговую камеру плазмотрона, где начинает формироваться дуга. [c.39]

При осевой (или аксиальной) системе газ подается вдоль продольной оси электрода, охлаждает его и выходит через канал сопла, обжимая в нем и за его пределами столб дуги. В плазмотроне с осевой системой стабилизации электрод участвует в формировании дуги и поэтому имеет форму стержня с заострением на конце, чтобы обеспечить точное совпадение оси столба дуги с осью канала сопла, а также равномерность толщины газовой оболочки, обжимающей столб дуги в канале сопла. В связи с этим требования к точности обеспечения соосности электрода и канала сопла очень высокие. Это является недостатком осевой системы стабилизации. [c.39]

Схемы управления автоматически осуществляют возбуждение режущей дуги, плавное нарастание рабочего тока, снятие напряжения с плазмотрона при нарушениях работы его системы охлаждения, выключение установки при выходе из строя вентиляции. [c.151]

По способу стабилизации дуги плазмотроны могут быть с вихревой, осевой и комбинированной системами стабилизации. Осевая стабилизация применяется при использовании катодов в виде заостренного стержня диаметром 2—6 мм, длиной до 150 мм их изготовляют из вольфрама, легированного окислами лантана и иттрия. При вихревой стабилизации осуществляются более интенсивное обжатие дуги и более четкая ее фиксация по оси плазмотрона. [c.154]

В связи с вышеизложенным привлекает внимание использование полых медных электродов, которые дают возможность увеличить мощность режущего плазмотрона и ресурс работы электродной системы, а также использовать переменный ток промышленной частоты [44]. [c.161]

У—ввод порошка 2—траектория движения частиц 3— плазмотрон 4 — магнитная система 5 — направление вращения пятна дуги 6 — ввод плазмообразующего газа [c.28]

В комплект оборудования для плазменного напылепия входят плазмотрон источник питания дуги, пускорегулирующая электросиловая аппаратура, система охлаждения, система подачи присадочного материала, манипулятор перемещения плазмотрона при наплавке. [c.292]

Внутренние превращения характерны для поведения рабочих тел многих энергетических и технологических установок двигателей внутреннего сгорания, плазмотронов, металлургических печей. Для определения параметров равновесного состояния здесь уже недостаточно полученных ранее термодинамических соотношений, устанавливающих связь между температурой, давлением, плотностью, энтропией, внутренней энергией и т. п. Но как будет показано далее, термодинамические методы полностью распространимы и на химически реагирующие системы. [c.158]

Принщ1пиально новым методом изготовления деталей является плазменное напыление с целью получения заданных размеров. В камеру плазмотрона подаются порошкообразный конструкционный материал и одновременно инертный газ под высоким давлением. Под действием дугового разряда конструкционный материал плавится и переходит в состояние плазмы. Струя плазмы сжимается в плазмотроне плазмообразующим газом. Выходя из сопла, струя плазмы направляется на обрабатываемую заготовку. Системы вертикальной и горизонтальной разверток обеспечивают перемещение струи по поверхности обработки. [c.455]

При резке с неактивными плазмообразующими газами применяют вольфрамовые электроды, с активными кислородосодержащими газами, в том числе с воздухом, - медные водоохлаждаемые державки с циркониевыми или гафниевыми вставками (см. рис. 118). На поверхности этих вставок образуются пленки плотных окислов, защищающих металл от дальнейшего окисления и электропроводных при высоких температурах. В результате при силе тока 250...500 А продолжительность работы такого электрода доходит до 4...6 ч. Стационарные установки для плазменной резки практически такие же, как и для кислородной резки, отличаются они режущей оснасткой (плазмотроны вместо кислородных резаков) и упрощенной системой газопитания. При использовании водорода подачу его обязательно производят через сухой затвор (например, ЗСУ-1) для предохранения от обратного удара. Переносные комплекты оборудования и полуавтоматические установки применяют для плазменной резки листов из низкоуглеродистой, коррозионно-стойкой стали и из алюминиевых сплавов толщи-нойдо40мм, а с водородосодержащими смесями до 100...120 мм. Универсальные комплекты оборудования (например, КДП-1, КДП-2) включают в себя резак (плазмотрон с рукояткой) с кабелями и шлангами и сварочный выпрямитель. Полуавтоматы (например, ПРП-1) состоят из переносной тележки, циркульного устройства, машинного резака-плазмотрона и пульта управления. Аппаратура для плазмен- [c.312]

Установка УВПР Киев предназначена для резки металла толщиной до 60 мм (по алюминию). Она состоит из блока питания,, шкафа управления и плазмотрона ВПР-9 с вихревой системой стабилизации дуги. Плазмообразующий газ — воздух. Установка используется для комплектовки машин портального и портально-консольного типов. [c.220]

Лазеры на HF могут работать как в импульсном, так и в непрерывном режиме. В импульсных лазерах атомарный фтор создается за счет столкновений между донорами фтора и электронами, образующимися либо за счет электрического разряда, либо с помощью дополнительного генератора электронного пучка. В промышленных приборах в качестве донора фтора применяется молекула SFe и используется электрический разряд. Схема накачки аналогична схеме TEA СОг-лазера (рис. 6.21) при этом для создания более однородного разряда используется также УФ-предыонизация. Однако выходная энергия такого устройства значительно ниже, чем поступающая в лазер энергия электрической накачки. Отсюда следует, что в данном лазере лишь часть выходной энергии берется из энергии химической реакции. Однако заметим, что при использовании молекулярного фтора вместо SFe возникает цепная реакция и выходная энергия лазера может существенно превосходить энергию электрического разряда. В этом случае лазер с большим основанием можно считать химическим. В непрерывных лазерах и при высоких мощностях (как, например, в системах, применяемых в военных целях) используется молекулярный фтор. Фтор подвергается тепловой диссоциации в плазмотронном нагревателе и затем истекает через сверхзвуковые сопла (до чисел Маха около 4). Затем в поток подмешивается молекулярный водород, чтобы вступить в цепную реакцию, описываемую уравнениями [c.400]

Приведенные в книге сведения позволяют выбрать оптимальные для конкретной задачи схему и конструкцию плазмотрона, а также рассчитать параметры системы его электропита 1ия. [c.3]

Поскольку замыкание дуг в "звезду с нулевой точкой в плазме является приниипиальным для этого плазмотрона, то существование такого замыкания было подвергнуто жсперимотгальной пров же. причем двумя способами. Первый способ заключался в фотографировании области замыкания дуг с помощью скоростной киносъемки. Полученные фотографии подтверждают замыкание дуг между собой (рис. 1.24). Отметим, что на этой фотографии яркости дуговых разрядов неодинаковы. Это является отражение о его свойства симмет[ 1чной трехфазной системы, согласно которому мгновенные значения токов в каждой фазе не равны между собой ни в один из моменте времени. [c.37]

Конструкция плазмотрона комбинированной схемы имеет много общего с конструкцией плазмотрсжа с вихревой стабилизацией разряда (аналогичны электроды, ра дные камеры, системы ввода рабочего тела), а отличие состоит в тс , что электроды снабжены соленоидами. Истечение высокотемпературного рабочего тела может быть двусторонним (через оба электрода) или односторонним (через один [c.53]

Зависимости (3.9) или (3.10) аце не являются полными системами критериев, описывающими напряжение на дуге в реальных плазмотронах. Здесь не учтены многие весьма существенные факторы, а именно относительное расположение катуижи и внутреннего электрода, закрутка холодного воздуха на входе в плазмотрон, ooTHouiefme осевой и радиальной составляющих магнитного поля в районе горения дуги и др. Поэтому очевидно, что нельзя ожидать хорошего обобщения экспериментальных данных для различных плазмотронов. Однако основное влияние оказывают именно эти параметра. [c.81]

Система управления состоит из пульта и, при необходимости, шкафа управления, в которых размещены устройство поджига дуги, регуляторы расхода газа, электроблокировки, отсекатели и другие элементы водяных и газовых коммуникаций, коллектор кaбeль-ШL Iaнгo-вого пакета плазмотрона, разъем электрокабеля для подключения к источнику питания. На пульте расположены приборы контроля и регулирования параметров плазменного процесса. В установках для ручных плазменных процессов пульт управления чаще всего встроен в корпусе источника питания, а в установках для механизированных процессов — вмонтирован в панель управления установок. [c.370]

Плазменно-дуговая резка. Для плазменнодуговой резки в пресной и морской воде металла толщиной 8...40 мм на глубине до 20 м разработана специализированная установка типа "Скат". В качестве плазмообразующего газа используется воздух. Сила тока плазмотрона с цирконовым катодом 200...600 А при напряжении на дуге 120...250 В. Скорость резки в зависимости от глубины и толщины разрезаемого металла составляет 5...24 м/ч. В состав установки входит источник питания, пульт управления, компрессор, системы осушения воздуха и охлаждения плазмотрона, гирлянда кабелей и коммуникаций, а также плазмотрон. [c.392]

Установки для плазменного напыления включают следующие основные элементы (рис. 1.4) инструмент для плазменного напыления (плазмотрон) источник энергоснабжения систему газоснабжения систему водяного охлаждения, систему регулирования параметров рабочего режима систему подачи напыляемого материала (порощка или проволоки). Кроме того, они могут вютючать рабочую камеру с системой вентиляции и пылеулавлива- [c.425]

Разомкнутая система охлаждения защитного кожуха и сопла обеспечивает дополнительную стабилизацию дуги. Наличие водовоздущной смеси повышает интенсивность охлаждения плазмотрона, дополнительно стабилизирует дугу и за счет образования воздушной пылевой завесы в два раза снижает уровень выделяющихся аэрозолей [63]. [c.148]

Машина ППлЦЗ,5-6У4 — портального типа. Состоит из портала, рельсового пути, суппорта, плазмотрона, пульта управления и установки для воздушно-плазменной резки. Система управления движением плазмотрона по контуру — программная и с цифровым вводом информации на стандартной 8-дорожечной перфоленте. [c.166]

Машина ППлФ2,5-6У4 — также портального типа, но с фотоэлектронной масштабной системой управления движением плазмотрона по контуру. Состоит из портала, рельсового пути, суппорта, плазмотрона, пульта управления, задающего агрегата и установки для воздушно-плазменной резки. [c.166]

Машина ПкПЛ2-6Ф-2 — портально-консольного типа с фотоэлектронной системой управления движением плазмотрона по контуру. Она сос- [c.166]

Машина ППлЛ2,5— 10-10У4 предназначена для линейной воздушноплазменной резки листов без скоса кромок. Машина — портального типа с линейной системой управления движением плазмотрона по контуру, с ручным регулированием скорости и с ручной установкой плазмотронов на заданный размер. Состоит из портала, перемещающегося по специальному рельсовому пути, который расположен над разрезаемым листом суппортов двух плазмотронов пульта управления и двух установок для воздушно-плазменной резки. [c.167]

Учитывая, что полученная статическая характеристика является прямой, параллельной оси токов, желательно использовать модель Касси в диапазоне токов 120—500 а. Поведение дуги описывается системой (3), так как в качестве источника питания плазмотрона принята цепь R—Е с последовательным включением элементов при питании ее от источника постоянного напряжения. [c.42]

Установки для нанесения покрытий состоят из следующих основных узлов плазменной головки, блока электропитания, блока газопитания, системы водоохлаждения, оборудования для подачи и дозирования наносимых порошковых материалов, пульта контроля и управления. Наша промышленность выпускает серийно плазменную установку УМП 5-68. В качестве источника тока применяют сварочные мотор-генераторы постоянного тока ПСО-500 или полупроводниковые выпрямители ВДГ-501, ВКС-500, ИПН-160/600, которые обеспечивают необходимое рабочее напряжение 90—100 В при силе тока до 350 А. Потребляемая мощность составляет 40 кВт. Широко известна также плазменная установка УПУ-3 с плазмотроном ГН-5р. [c.71]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...