Плазмотроны комбинированной схемы

L4. ПЛАЗМОТРОНЫ КОМБИНИРОВАННОЙ СХЕМЫ [c.25]

Это сходство приводит к тому, что, описывая плазмотроны комбинированной схемы, некоторые авторы относят их то к плазмотронам с магнитной стабилизацией, то к плазмотронам с вихревой стабилизацией разряда. Существенным, однако, является то, что схема комбинированного плазмотрона имеет важнейшие принципиальные преимущества, состоящие в следующем. [c.25]

Конструкция электрода приведена на рис. 2.3. Она является достаточно типичной для плазмотронов комбинированной схемы с вихревой стабилизацией, рассчитанных для работы при больших силах тока в разряде. Электрод выполнен в виде цилиндра. Рабочая стенка [c.45]

Удачным объединением преимуществ плазмотронов с вихревой стабилизацией дугового разряда и плазмотронов с магнитной стабилизацией является плазмотрон так называемой комбинированной схемы (рис. 1.12). [c.25]

Рис. Ш.4.12. Схемы включения плазмотрона при получении плазменной струи косвенного (а), прямого (б) и комбинированного (в) действия

В настоящее время имеется множество различных конструкций плазмотронов или, как их иногда называют, генераторов плазмы, подогревателей плазмы. Существующие плазмотроны можно разделить на группы. Это плазмотроны на постоянном и переменном токе, высокочастотные и сверхвысокочастотные плазмотроны, а также комбинированные. Такое разнообразие схем плазмотронов обусловлено в первую очередь различными требованиями технологических процессов и возможностями создания плазменных потоков с необходимыми параметрами. [c.85]

Наибольшее распространение получили плазмотроны постоянного тока, как более простые по своим конструктивным схемам, обладающие высокой эффективностью преобразования электрической энергии в тепловую и имеющие простую схему электропитания. Плазмотроны переменного тока получили развитие благодаря простоте схем источников питания и электропитания плазмотронов, однако широкое их использование сдерживается из-за значительной эрозии электродов и невысокой стабильности горения электрических дуг. ВЧ-плазмотроны по своей конструкции достаточно просты и позволяют получить большие объемы спектрально чистой плазмы, но эффективность преобразования электрической энергии в тепловую у них не высока, так же как н у СВЧ-плазмотронов. Иногда используются комбинированные плазмотроны — дуговой — ВЧ-плазмотрон, постоянного и переменного тока и другие плазмотроны, позволяющие использовать соответствующие преимущества применяемых схем. [c.85]

Конструкции комбинированных плазмотронов во многом аналогичны конструкциям плазмотронов постоянного тока, а схемы подачи переменного тока в дуговой промен уток такие же, как и у рассмотренных выше плазмотронов. Основная особенность комбинированных плазмотронов заключается в том, что плазмотроны постоянного тока являются, как правило, вспомогательными и служат для создания плазмообразующей среды, обеспечивающей, [c.100]

Рис. 5.3. Схемы комбинированных плазмотронов а — с независимым включением электродов б — с совмещенными электроламп

Из большого многообразия конструктивных схем комбинированных плазмотронов можно выделить две основные 1) когда электроды плазмотрона постоянного тока включены в цепь питания независимо от электродов переменного тока, т. е. в этом случае плазмотроны имеют между собой контакт только через плазменный поток (рис. 53, а) 2) когда плазмотроны переменного и постоянного токов имеют общие электроды (рис. 53, б). На рис. 53 схематично показаны такие плазмотроны, разработанные во Франции Аналогичные схемы плазмотронов разработаны в Бельгии и Англии [c.100]

Данные плазмотроны по сравнению с комбинированными плазмотронами с независимым включением электродов имеют более высокий ресурс работы электродов с такой же высокой устойчивостью повторного возбуждения дуги переменного тока, кроме того, упрощается конструктивная схема плазмотрона. [c.101]

Конструкция плазмотрона комбинированной схемы имеет много общего с конструкцией плазмотрсжа с вихревой стабилизацией разряда (аналогичны электроды, ра дные камеры, системы ввода рабочего тела), а отличие состоит в тс , что электроды снабжены соленоидами. Истечение высокотемпературного рабочего тела может быть двусторонним (через оба электрода) или односторонним (через один [c.53]

Среднемассовая температура у плазмотронов комбинированной схемы, как правило, выше, чем у плазмотронов с магнитной стабилизацией и с вихреюй стабилизацией дугоюго разряда. Но, как у всех плазмотронов с вращением дуг газовым вихрем, в плазмотронах комбинированной схемы при истечении через электрод наблюдается температурная неравномерность по сечению канала и значительная закрутка потока рабочего тела на выходе, что может быть ликвидировано переходом на схему с центральным истечением. [c.55]

Устройство, в котором получают плазменную струю (сжатую дугу), называют плазменной горелкой или плазмотроном. Принципиальные схемы плазменных горелок (плазмотронов) изображены на рисунке 32. Возможны три схемы плазмообразования дугой прямого действия, дугой косвенного действия и комбинированной дугой. [c.91]

Комбинированный плазмотрон не только сохраняет все преимущества. связанные с возможностью регулирования частоты вращения разряда, а следовательно, и возможности работы при высоком давлении. но и обладает дополнительно еще одним важнейшим преимуществом, состоящим в возможности изменения положения опорных пягген дугового разряда в ходе работы. Это дает возможность значительно повысить ресурс непрерывной работы плазмотрона, так как позволяет перемещать зону максимальной эрозионной выработки электрода (соответствует зоне щ)ащения приэлектродных пятен разряда) в процессе работы плазмотрона без его останова. Именно в таком исполнении с магнитным полем, обеспечивающим управление положением дугового разряда, и в вариантах с высоким вольт-амперным отношением эта схема имеет, по нашему мнению, серьезное преимущество перед другими схемами плазмотронов. [c.26]

ПМО без расплавления поверхности заготовки разработана английской инженерной ассоциацией PERA (Пат. Nq 1351140 (Великобритания)]. Схема процесса ПМО цилиндрической поверхности показана на рис. 1. Плазмотрон 5, а также обрабатываемая заготовка 3 через патрон 2 и токоподводящее кольцо 1 включены в цепь источника электрического тока. При замыкании цепи возникает электрическая дуга, ионизирующая газ, подаваемый в плазмотрон. Плазменная дуга 4, выходящая из сопла плазмотрона, направляется на поверхность обрабатываемой заготовки впереди резца 6. Вода, подаваемая в плазмотрон, служит для охлаждения его рабочей части. Плазменная дуга, соприкасаясь с поверхностью обрабатываемого материала, оказывает на него комплексное влияние, нагревает, насыщает поверхность газами, а также воздействует частицами ионизированного газа, обладающими высокой кинетической энергией. Рассмотрим в общем виде каждую из сторон этого комплексного влияния, с тем чтобы оценить особенности процесса ПМО и сопоставить его с другими способами комбинированного резания. [c.4]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...