Источник плазмотрона

Для контроля сложных структур сотовых конструкций, сварных и паяных соединений используют нагрев плазменной струей, которая обеспечивает высокую концентрацию тепловой энергии до 500 кВт/см и позволяет получать достаточно высокие температуры отдельных участков поверхности нагреваемого тела за малые интервалы времени. К достоинствам такого способа нагрева также относятся конвективный характер теплопередачи от плазменной струи к нагреваемому изделию, отсутствие контакта нагревателя с изделием, стабильность работы источника — плазмотрона. [c.123]

При установке оборудования и эксплуатации необходимо учитывать, что для охлаждения плазмотрона и узлов источника питания ИПН 160/600 расходуется 6 - 8 л воды в 1 мин. [c.439]

В спектральном анализе помимо этих основных применяются и другие источники света. К их числу относятся разрядные трубки с полым катодом, плазменные горелки (плазмотроны), представляющие собой генераторы потока плазмы, образующегося при нагревании инертного газа электрической дугой, оптические кван- [c.7]

Зажигание плазменного факела 4 производится от внешнего источника, например от дугового разряда, обеспечивающего начальную ионизацию газа. Температура плазмы зависит главным образом от рабочего газа и для аргона составляет 9500—11500 К-Проводимость ионизированного газа много ниже, чем металлов, поэтому плазмотроны работают при частотах 1—40 МГц. В последнее время в связи с увеличением мощности и размеров плазменных факелов происходит переход на более низкие частоты, 440 кГц и ниже. При использовании ферромагнитного сердечника кольцевой разряд возможен даже при средней частоте (10 кГц). [c.222]

Электрический ток (рис. 171, ) от источника питания / подводится к стержневому катоду 2 и цилиндрическому аноду 5, между которыми горит электрический разряд (дуга) 6. Рабочее вещество 3 в газообразном состоянии подается тангенциально в камеру 4 и, проходя через зону. разряда, стабилизирует электрическую дугу, нагревается до высоких температур и переходит в плазменное состояние. В плазмотроне с комбинированной стабилизацией дуги (рис. 171,6) магнитная катушка 7, установленная на аноде, создает внутри анода небольшое магнитное поле (обычно 8000 — 40 000 А/м), взаимодействие которого с электрическим полем разряда обеспечивает дополнительное вращение и стабилизацию дуги. [c.384]

ПЛАЗМЕННЫЙ ГЕНЕРАТОР — 1) генератор низкотемпературной плазмы, то же, что плазмотрон. 2) П. г. СВЧ-излучения — источник эл.-маги. излучения, возникающего при взаимодействии релятивистского пучка электронов с плазмой. Подробнее см. в ст. Плазменная электроника. [c.612]

Рис. 2. Схемы ВЧ-плазмотронов а — индукционный б — сверхвысокочастотный 1 — источник электропитания 2 — разряд 3 — плазменная струя 4 — индуктор з — разрядная камера в — волновод.

Плазменная резка 311 Плазменная сварка 8, 233 Плазмообразующие сопла 230 Плазмообразующий газ 223, 225 Плазмотрон 223 Пластические деформации 37 Пневматические испытания 358 Поверхностный эффект 264 Повторно-кратковременный режим источника питания дуги 94 Подогреватель газа 161 Покрытия электродов для ручной дуговой сварки 113, 115 Полуавтомат сварочный 141, 164 Полярность сварочной дуги 85 Порошковое копьё 310 Поры 338 [c.393]

В качестве источника ионов применяют специальные плазмотроны или другие устройства, в которых ионизируется какой-либо элемент, например инертный газ — гелий. Удельная мощность в пятне нагрева при действии ионного пучка значительно ниже, чем при электронно-лучевом нагреве. [c.454]

Техника сварки. Питание дуги, как правило, осуществляется переменным или постоянным током прямой полярности (минус на электроде). Возбуждают дугу с помощью осциллятора. Для облегчения возбуждения дуги прямого действия используют дежурную дугу, горящую между электродом и соплом горелки. Для питания плазмообразующей дуги требуются источники сварочного тока с рабочим напряжением до 120 В, а в некоторых случаях и более высоким для питания плазмотрона, используемого для резки, оптимально напряжение холостого хода источника питания до 300 В. [c.146]

Во втором - дуга горит между катодом и соплом, которое подключается к положительному полюсу источника питания (плазменная струя косвенного действия). Струей газа, истекающей из сопла, часть плазмы столба дуги сжимается и выносится за пределы плазмотрона. Тепловая энергия этой плазмы, складывающаяся из кинетической и потенциальной энергий ее частиц, используется для нагрева и плавления обрабатываемых изделий. В большинстве случаев общая и удельная тепловые энергии невелики, поэтому такие плазмотроны используют для сварки тонких изделий в микроплазменных установках для пайки и обработки неметаллов, так как изделие не обязательно должно быть электропроводным. [c.188]

Источник тепла — плазма, создаваемая в плазмотронах продувкой потока аргона или другого газа через вольтовую дугу. При использовании аргона температура направленного потока составляет 3000—4000° С. Плазмотроны направляют плазменный поток на шихтовые материалы или плавящийся электрод. [c.278]

Электрическая дуга в коаксиальном плазмотроне с магнитной стабилизацией разряда имеет сложную, переменную по времени форму и не горит по кратчайшему расстоянию, но все же зависимость от расстояния I существует. Поэтому при переходе к режимам с повышенными расходами или высокими давлениями при ограниченном располагаемом напряжении источника питания приходится уменьшать расстояние I за счет увеличения диаметра внутреннего электрода. Внутренняя стенка наружного электрода и наружная стенка внутреннего электрода изготовляются обычно из меди или другого материала, имеющего хорошую теплопроводность, и охлаждаются водой. [c.9]

Рассмотрим кратко вопрос о максимальном коэффициенте мощности плазмотрона, равном отношению мощности, выделяемой в дуговых разрядах Р. к кажущейся мощности источника питания 5. Если принять, что напряжение на дуге имеет прямоугольную форму, а ток - сину- [c.154]

Оборудование (установки, машины) для плазменных процессов сварки, наплавки и резки состоит из плазменной аппаратуры и механизмов, обеспечивающих перемещение плазмотрона относительно обрабатываемого изделия. Оно может функционировать в составе автоматизированных линий (станов). Плазменные установки представляют собой комплекты из плазмотрона (плазменной горелки), источника его питания и системы управления электрическими и газовыми параметрами плазменной дуги. Установки для сварки и наплавки кроме плазменных установок обычно комплектуются механизмами подачи присадочной проволоки или (в случае наплавки) порошковыми дозаторами и механизмами колебания плазмотрона. Основные составляющие плазменной аппаратуры (плазмотрон, источник питания, система управления) при всем их многообразии имеют ряд общих схемных и конструктивных решений. [c.369]

Источники электропитания плазмотронов для сварки и наплавки выполнены на базе сварочных выпрямителей с падающими внешними вольт-амперными характеристиками (ВАХ) с повышенным напряжением холостого хода (до 80 В). Источники питания для ручной воздушно-плазменной резки (ВПР) построены по принципу сварочных выпрямителей с падающими ВАХ, но с напряжением холостого хода до 300 В. Кремниевые вентили и трехфазные трансформаторы с повышенным рассеянием (рис. 2.1, а) обусловливают простоту, надежность и невысокую стоимость установок, но сравнительно низкое качество резки. [c.370]

В комплект оборудования для плазменного напылепия входят плазмотрон источник питания дуги, пускорегулирующая электросиловая аппаратура, система охлаждения, система подачи присадочного материала, манипулятор перемещения плазмотрона при наплавке. [c.292]

При ЭМУР осуществляется обжатие боковой поверхности расплава внутри индуктора силами переменного электромагнитного поля, формирующими его в виде жидкометаллического столба. Тепловой баланс поддерживается с помощью того или иного источника нагрева (электронная пушка, плазмотрон, индуктор) либо комбинации нескольких источников. [c.9]

Эффективным способом снижения теплового и силового воздействия плазменной струи на волокна является метод импульсного напыления, разработанный Н. Н. Рыкалииым и др. Плазмотрон был собран по коаксиальной схеме с внутренним электродом диаметром 1—3 мм, непрерывно подаваемым в канал массивного внешнего охлаждаемого электрода. Источник питания состоял из конденсаторной батареи емкостью 2000 мкФ, зарядного выпрямителя и генератора инициирующих импульсов. Разрядный импульс имел амплитуду до 13 кА и длительность 10 - —10 с, распыление производилось в герметичной камере, заполняемой инертным газом. [c.175]

Функциональную основу Г. п., как правило, составляет газовый разряд (дуговой, тлеющий, высокочастотный, СВЧ-разряд, лазерный, пучково-плазменный). Для генерации плазмы пока ещё редко используется ионизация рабочего вещества резонансным излучением, но в будущем, в связи с развитие.м лазеров, такие Г. п. могут получить значит, распространение. Г. п., работающие на газах при давлениях, сравнимых с атмосферным, обычно наз. плазмотрона,ии. Г. п., работающие на газах низких давлений, как правило, входят в состав более крупных устройств, напр, двухступенчатых плазменных ускорителей или ионных источников. Если в плазмотронах одной из основных конструктивных трудностей является защита стенок газоразрядного канала от больших тепловых потоков, то в Г. п. пизкого давления возникает проблема предотвращения гибели за ряж. частиц на стенках. С этим борются, используя экранировку стенок магн. и электрич. полями (см. Ионный источник), а также совмещая ионизацию и ускорение в одном объёме, благодаря чему поток плазмы попадает преим. в выходное отверстие Г. п. (см. Ллаз-.пенные ускорители). В связи с задачами плазменной технологии большое внимание уделяется разработке Г. п., непосредственно генерирующих плазму из твёрдых веществ. Наиб, распространение для этих целей получили вакуумные дуги с холодным катодом. Воз- [c.434]

Д. р. применяется также в разд. конструкциях ге-ператоров плазмы (иапр., в плазмотронах), в нелс-рых плазмохим. реакторах, в электросварке, в разл. электронных и осветит, приборах (коммутаторы, ртутные вьшрямители, газотроны, газоразрядные источники света и т. д.). [c.24]

Разнообразное использование Н. п. определяется простотой её создания. Газоразрядная плазма применяется в газовых лазерах и источниках связи, в плаа-мохим. процессах и процессах очистки газов, для обработки поверхностей, в разл. технол. и металлургич. процессах. Н. и. как рабочее тело используется при преобразовании тепловой энергии в электрическую, в магнитогидродинамических генераторах и термоамие-сионном преобразователе. В плазмотроне Н, и. выполняет роль теплоносителя. Вводимая в плазму электрич. энергия передаётся электронам, а от них — атомам или (и) молекулам газа и нагревает его. Уд. энергия, вводимая в такой газ, заметно выше энергии в пламени газовой горелки. [c.354]

Применение П. Плазмотроны широко используются в плаэмохимии и плазменной металлургии. В нагретых до высоких темн-р ионизов. газах могут интенсивно протекать хим. реакции, не происходящие или очень медленно протекающие в др. условиях. Это уше практически используется для целого ряда производств. С помощью П. осуществляются спец, технол. процессы, такие как плазменное нанесение покрытий, плазменная резка, сварка и др. (см. Плазменная технология). П. является генератором плазмы для век-рых научных исследований и модельных тепловых испытаний МГД-генераторов, исследований теплообмена и испытаний средств теплозащиты для условий входа космич. аппаратов в атмосферу и пр. П. служит для создания плазменных источников света, в т. ч. эталонных источников высокотемпературного излучения. С помощью П. исследуются свойства низкотемпературной плазмы, создаётся неравновесная плазма низкого давления для элект-рофиз. приборов и устройств в частности, П. является источником заряж. частиц для ускорителей. [c.618]

В совр. технике применяются п волноводные источники стационарной гааоразрядцой плазмы (СВЧ-плазмотроны). Разряд возбуждается и поддерживается СВЧ-излучением мощностью в неск, кВт в пересекающей волновод диэлектрич. трубке с прокачиваемым через её объём газом. СВЧ-плазмотрон обладает высоким кпд — до 90% разрядные условия близки к равновесным с темп-рой разрядной среды Т X 9000 — 10000 К. [c.423]

В АЭСА исследуемое вещество должно находиться в состоянии атомного газа, Обычно атомизация и возбуждение атомов осуществляются одновременно — в источниках света. Для анализа металлов, сплавов и др. нроводников чаще всего используют дуговой разряд или искровой разряд, где в качестве электродов служат сами анализируемые пробы. Дуговой разряд применяется и для анализа непроводящих веществ. В этом случае порошкообразную пробу помещают в углубление в графитовом электроде (метод испарения) или с помощью разл. устройств вводят порошок в плазму дугового разряда между горизонтально расноложевными графитовыми Электродами. Применяется также введение порошкообразных проб в дуговые плазмотроны. [c.617]

Т. п., создаваемые генераторами плазменных потоков сильноточными ионными источниками, импульсными и ст ационарными п.газмешыми ускорителями, плазмотронами. [c.112]

Разновидностью дуги переменного тока является трехфазная дуга. В плазмотроне для трехфазной сжатой дуги (рис. 115) устанавливаются два неплавящихся электрода. Дежурной дугой служит дуга между этими электродами, а сопло остается электрически нейтральным. Дежурная дуга питается от фаз основного источника питания. Когда дуги между электродами и деталью еще не возбуждены, сила тока межэлектродной дуги невелика, но достаточна для зажигания основных дуг. Для ограничения силы тока дежурной дуги не требуется никаких спещ1альных устройств. [c.226]

Для плазменной наплавки применяют установки УД-417 (разработка ИЭС им. Е.О. Патона), УПН-303 (завод Электрик ), УН-602 и др. Можно применять установки плазменной сварки УПС-301, УПС-403, УПС-804, а также установки для плазменного напыления УМП-5, УМП-6, УПУ З, УПУ-5 после изменения электрической схемы и замены плазмотрона. Для плазменно-порошковой наплавки валов диаметром до 50 мм ВНИИТУВИД Ремдеталь и ИЭС им. Е.О. Патона совместно разработали установку УД-609.09 с источником питания ВДУ-506. Производственный интерес представляет комплект КПН-01.23-215 Ремдеталь из поста 01.23-21 и установки плазменно-порошковой наплавки 01.05.185 с вращателем деталей. [c.308]

Оборудование для плазменно-дуговой резки. В состав оборудования для плазменно-дуговой резки входят режущий плазмотрон, пульт газовый с газорегулирующей и измерительной аппаратурой, блок электрооборудования, источник питания, устройство передвижения плазмотрона. Для плазменно-дуговой резки применяются те же типы машин, что и для кислородной резки. [c.238]

I — пульт управления, 2 — источник питания, 3 — тележка, 4 — машинный плазмотрои, 5 — ручной пульт, 6 — ручной плазмотрон [c.216]

Предприятия Минэлектротехпром выпускают установки типов УПР-601 и ОПР-6-2М для плазменной резки металла толщиной до 160 мм (по алюминию). Мощность источника питания 180 кВт. Б состав установки входит также шкаф управления и плазмотрон, работающий на аргоне или азотно-водородной смеси. Плазмотроны устанавливают на самоходной тележке или портальной машине. [c.220]

Источниками постоянного тока являются, как правило, различные выпрямительные устройства. Если рассматривать плазмотроны мульти-мегаваттного уровня, то такие устройства превращаются в очень сложные, громоздкие и дорогостоящие сооружения. Плазмотроны переменного тока не требуют для питания никаких специальных устройств, их питание производится непосредственно от промышленной трехфазной сети. Коммутационная аппаратура этих сетей относительно проста и надежна, а мощность практически. неограничена. Диапазон стандартных напряжений трехфазных сетей весьма широк, что облегчает выбор схемных решений плазмотронов применительно к различным задачам. [c.31]

Электрическая дуга переменного тока промьплленной частоты широко используется в различных технических, технологических и экспериментально-исследовательских устройствах в качестве высокоинтен-сивноро источника тепла. Сюда относятся электродуговые сталеплавильные и руднотермические печи, различные электросварочные установки и аппараты, дуговые лампы, плазмотроны переменного тока и т.д. С другой стороны, дуга переменного тока неизбежно возникает в коммутационных аппаратах при отключении нафузки, где она является нежелательным явлением. [c.187]

Система управления состоит из пульта и, при необходимости, шкафа управления, в которых размещены устройство поджига дуги, регуляторы расхода газа, электроблокировки, отсекатели и другие элементы водяных и газовых коммуникаций, коллектор кaбeль-ШL Iaнгo-вого пакета плазмотрона, разъем электрокабеля для подключения к источнику питания. На пульте расположены приборы контроля и регулирования параметров плазменного процесса. В установках для ручных плазменных процессов пульт управления чаще всего встроен в корпусе источника питания, а в установках для механизированных процессов — вмонтирован в панель управления установок. [c.370]

В установках для ручной резки металлов малых толщин, рассчитанных на силу рабочего тока 20...80 А, плазмотроны конструктивно выполнены с воздущным охлаждением теплонагруженных элементов и подвижным сопловым узлом, обеспечивающим контактный поджиг дуги источники питания их выполняются по схеме, показанной на рис. 2.1, а. Установка подобного типа "Киев-1" (рис. 2.4) рассчитана на резку металлов толщиной до 5 мм. [c.373]

Основным оборудованием для микроплаз-менной сварки являются аппараты и установки с источниками питания и плазмотронами. В зависимости от степени механизации и условий эксглуатации в комплект оборудования могут входить механизм подачи присадочной проволоки, вращатель, механизм продольного перемещения плазмотрона либо изделия,, тех- [c.375]

Плазменно-дуговая резка. Для плазменнодуговой резки в пресной и морской воде металла толщиной 8...40 мм на глубине до 20 м разработана специализированная установка типа "Скат". В качестве плазмообразующего газа используется воздух. Сила тока плазмотрона с цирконовым катодом 200...600 А при напряжении на дуге 120...250 В. Скорость резки в зависимости от глубины и толщины разрезаемого металла составляет 5...24 м/ч. В состав установки входит источник питания, пульт управления, компрессор, системы осушения воздуха и охлаждения плазмотрона, гирлянда кабелей и коммуникаций, а также плазмотрон. [c.392]

Установки для плазменного напыления включают следующие основные элементы (рис. 1.4) инструмент для плазменного напыления (плазмотрон) источник энергоснабжения систему газоснабжения систему водяного охлаждения, систему регулирования параметров рабочего режима систему подачи напыляемого материала (порощка или проволоки). Кроме того, они могут вютючать рабочую камеру с системой вентиляции и пылеулавлива- [c.425]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...