Источники электронный луч

Б электронно-оптической трубке (рис. 183) находится источник электронного луча 1, так называемая электронная пушка, импульсный генератор 2, электромагнитное регулирующее уст- ройство 3, магнитно-фокусирующая линза 4 и электромагнитное отклоняющее устройство 5. [c.329]

Электроннолучевая обработка. Для размерной обработки труднообрабатываемых металлов и сплавов используют свойство электронного луча передавать кинетическую энергию обрабатываемому материалу и превращать ее в тепловую энергию. Источником электронного луча является термоэлектронная эмиссия, т. е. выход электронов из металла при его нагревании. При повышении температуры металла электроны на внешней электронной орбите возбуждаются и некоторые из них могут получать скорости, достаточные для преодоления потенциального барьера. Если эти электроны сфокусировать на малой площади, то получится электронный луч. [c.623]

Источником электронных лучей является так яазы й тронная пушка, состоящая из вольфрамовой спирали, наг высокой температуры, чтобы получить значительную тер скую эмиссию при нагреве спираль испускает электроны ралью, являющейся катодом, и анодом, расположенным н [c.98]

Электронный луч — источник теплоты, разогревающий и расплавляющий металл, создается электронной пушкой, питающейся от силового выпрямителя, блока нагрева катода, а управление энергетическими параметрами луча — от блока управления модулятором (регулируется сила тока в луче), блока фокусировки (регулируется поперечное сечение луча) и блока отклонения луча (определяется местонахождение луча на детали и перемещение луча по пей) (рис. 84). [c.158]

Электронные пушки. Электроннолучевая пушка предназначена для создания электронного луча, который и служит источником сварочной теплоты. [c.159]

Электронный луч. Электронный луч — поток электронов, испускаемых одним источником и движущихся по близким траекториям в определенном направлении. Сущность процесса сварки электронным лучом в вакууме состоит в использовании кинетической энергии электронов. [c.15]

Электронный луч создается в специальном приборе — электронной пушке (рис. 10), с помощью которой получают узкие электронные пучки с большой плотностью энергии. Пушка имеет катод /, который может нагреваться до высоких температур. Катод размещен внутри прикатодного электрода 2. На некотором расстоянии от катода находится ускоряющий электрод (анод) 3 с отверстием. Элект-ройы, выходящие с катода, фокусируются с помощью электрического поля между прикатодным и ускоряющим электродами в пучок с диаметром, равным диаметру отверстия в аноде 5. Положительный потенциал ускоряющего электрода может достигать нескольких десятков тысяч вольт, поэтому электроны, испускаемые катодом, на пути к аноду приобретают значительную скорость и энергию. Питание пушки электрической энергией осуществляется от высоковольтного источника 7 постоянного тока. [c.15]

Основные параметры режима электронно-лучевой сварки — сила тока, напряжение электронного луча, скорость сварки. Ускоряющее напряжение и сила тока луча определяют мощность источника энергии. [c.16]

Концентрация энергии термических источников может оцениваться удельной мощностью в пятне нагрева. Наибольшую интенсивность энергии — до 10 Bт/мм и выше при пятне нагрева до 10" мм — могут иметь лазерный и электронный лучи (табл. 1.5). [c.27]

В некоторых областях технологического применения с лазером конкурируют электронный луч и полихроматические источники света, что связано прежде всего с более простым в изготовлении и эксплуатации оборудованием для осуществления процессов, в которых используются эти источники. [c.115]

С охватом достаточно большой площади пятна нагрева сосредоточенность источника теплоты может оказаться низкой. Характер распределения теплоты от электронного луча можно изменять в широких пределах, устанавливая различную траекторию движения луча по поверхности и фокусировку. [c.156]

В качестве источника теплоты при сварке с вакуумной защитой используется кинетическая энергия испускаемых раскаленным катодом свободных электронов, которые ускоряются электрическим полем специального устройства (электронная пушка). Физические и энергетические характеристики электронного луча подробно рассмотрены в разд. I. [c.401]

Благодаря весьма высокой интенсивности и сосредоточенности такого источника нагрева, как электронный луч, достигается исключительно узкое и глубокое проплавление металла в вакууме с весьма незначительной по протяженности околошовной зоной, что обеспечивает существенное снижение деформаций и сварочных напряжений. Кратковременность пребывания сварочной ванны в расплавленном состоянии, малый ее объем и незначительные размеры зоны сплавления способствуют также уменьшению влияния диффузионных процессов на пористость металла шва. [c.401]

Система светоклапанная — устройства для приема телевизионных изображений, в которых записывающий электронный луч управляет коэффициентом отражения или прозрачностью каждого элемента мишени изображение можно видеть, освещая или просвечивая мишень внешним светом мощный источник света позволяет проектировать изображение на большой экран [9]. [c.153]

В связи с этим разрабатываются и находят промышленное применение (помимо электродуговой) другие методы плавки, в которых сохраняется принцип гарнисажной плавки в вакууме, но вместо электрической дуги - источника тепловой энергии используют энергию электронного луча или плазмы. Ведутся исследования по применению индукционного способа плавки титановых сплавов в так называемых холодных тиглях. [c.312]

Покрытия были получены с применением электронно-лучевой технологии. Материал покрытия испаряли в вакууме сфокусированным электронным лучом и осаждали на нагретую до 900— 1000" С поверхность образцов. Равномерность толщины покрытия обеспечивали вращением образцов над источником паров. Скорость осаждения составляла 2 мкм/мин. Толщина покрытий 30—80 мкм. [c.215]

С освоением низкотемпературной плазмы, электронного луча в вакууме и луча квантового оптического генератора появилась возможность концентрировать энергию источника в малых объемах, а значит, точно ее дозировать, с большим совершенством управлять технологическими процессами. Это открыло дорогу их применению в качестве энергетических источников для получения композиционных материа-. лов. Пользуясь плазменным и электронно-лучевым напылением, можно металлизировать высокопрочные высокомодульные волокна бора, карбида кремния и> бериллия в доли миллиметра, не разрушая их. [c.140]

Внедренные в 1950—1965 гг. в производство новые типы контактных машин, особенно многоточечных, разработанных ВНИИЭСО, заводом Электрик и другими заводами, обеспечивают высокую производительность, стабильность качества соединений, возможность сварки элементов из сталей и цветных металлов больших и малых толщин. В настоящее время в СССР рядом научных организаций и заводов созданы различные машины для контактной сварки, автоматы и полуавтоматы для дуговой сварки, источники питания с полупроводниками, а также машины, автоматы и поточные линии с использованием новых процессов сварки (электронным лучом в вакууме, сварка трением, диффузионная сварка и др.). [c.137]

С помощью метода Монте-Карло рассчитано пространственное распределение энергетических потерь электрона в полубесконечном образце, которое используется для определения зависимости распределения тепловых источников в образце от диаметра электронного луча. [c.353]

По источникам нагрева существующие способы пайки разделяют на пайку паяльником, газопламенную, дуговую, электросопротивлением, экзотермическую (использующую теплоту, образующуюся при экзотермических реакциях специальных смесей), электронным лучом (чаще сканирующим), лазерную, световым излучением (с помощью кварцевых ламп и ксеноновых ламп высокого давления), печную, погружением в расплавленные соли или припои, волной припоя, нагретыми штампами, матами, блоками. [c.249]

Размерная обработка производится на установке (рис. 215) с электронной пушкой, обеспечивающей формирование мощного электронного луча и состоящей из импульсного генератора 8, импульсного трансформатора 9, задающего напряжения 10 (напряжение возбуждения и накала) генератора высокого напрян е-ния 11 и катода 7 (обычно вольфрамовогр). В рабочей вакуумной камере 6 расположены вольфрамовый катод 7(источник электронного луча) и контро.тьная система для регулирования отклоняюпщх устройств и линз, которые управляют размером и траекторией электронного луча (магнитная юстировка 5, диафрагмы 12, корректор изображения 4, магнитные линзы 3, которые имеют самостоятельные источники питания, контрольный контур 2 и т. д.). Подвижный стол I имеет устройство для точной установки и перемещения обрабатываемой детали 13 (анода). Установка имеет также вакуумную насосную систему для создан Ш в рабочей камере заданного вакуума систему приборов для контроля и наблюдений. за ходом процесса высоковольтный источник энергии. [c.425]

В промыншенпости все более широкое применение находят тугоплавкие и химически активные металлы и сплавы. Поэтому для их сварки необходил[о применять источники с высокой концент рацией теплоты, а для защиты расплавленного и нагретого ме талла использовать среды, содержащие минимальное количество водорода, кислорода и азота. Этим условиям отвечает сваркя электронным лучом. [c.67]

Параметры электронного луча, соответствующие технологическому процессу сварки, определяют основные требования к конструкции электронной пушки (табл. 34). В сварочных установках электронная пушка состоит из следующих основных э.гсементов катод—источник электронов анод — электрод с отверстием в середине для пропускания луча к изделию, подключенный к положительному полюсу силового выпрямителя фокусирующий ири-катодныл. . .летстрод (модулятор), регулирующий силу тока в луче фокусирующая магнитная линза отклоняющая магнитная система. [c.159]

В современных установках для сварки, сверления, резки пли фрезерования электронный луч фокусируется на площади диаметром менее 0,001 см, что позволяет получить большую удельную мощность. При использовании обычных сварочных источников теплоты (дуги, газового пламени) металл нагревают и плавят за счет распространения теплоты от поверхности в глубину, при этом форма зоны расплавления в сечении приблил<ается к полукругу Fn- При сварке электронным лучом теплота выделяется непосредственно в самом металле причем наиболее интенсивно на некоторой глубине под его поверхностью. Отношение глубины проплавления к ширине может достигать 20 1 такое проплавление называется кинжальным (рис. 5.16). [c.203]

Лучевые источники энергии используют при сварке электрон шм лучом, лазерной сварке и световой сварке. При сварке электронным лучом носителем энергии являются электроны, при лазерной и све-, ТОБОЙ — фотойы. [c.14]

Сравнение критериев е и для однопроходной сварки стали показывает, что е с уменьшением интенсивности источника возрастает примерно от 3...5 Дж/мм для лазерной сварки до 200... 400 Дж/мм для газового пламени. В то же время общие затраты энергии Eэлектронного луча (площадь изделия 500 мм ) и к. п. д. лазера ( 0,1%), в сотни и тысячи раз выше для этих источников, чем для свободной дуги в аргоне или для газового пламени (рис. 1.9). [c.28]

В настоящее время в сварочном производстве используются более 130 рапичных способов сварки При этом в ряде отраслей вполне отчетливо намслились тенденции по применению современной сварочной течно. юг ИИ для изготовления ответственных сварных конструкций. Среди способов сварки плавлением все более щирокое применение находят концентрированные источники нагрева, позволяющие осуществлять интенсивное проплавление металла при повышенных скоростях сварки сжатая (плазменная) дуга, электронный луч, луч лазера, Нап )имер, при электронно-л чевой сварке минимальная плотность энергии достигает [c.22]

При первом методе, называемом поразрядным, используется энергия лазерного (или электронного) луча, с()юкусированного в виде маленького пятна или точки на записывающей среде для записи бита информации. Этим методом одновременно записывается лишь 1 бит информации. Основными компонентами такой системы записи (рис. 17) являются источник излучения — лазер Л и модулятор М, управляющий интенсивностью его луча, дефлектор О для адресации луча, формирующая и фокусирующая оптика — объектив О и линза для считывания, запоминающая среда ЗС. Реакция запоминающей среды на световой луч лазера должна обеспечивать процесс записи и [c.35]

Модификация структуры основывается на влиянии изменений параметров микроструктуры (размер зерна, кристаллографическая текстура, плотность дислокаций) на механические свойства и износостойкость материалов. Примерами структурной модификации приповерхностного слоя являются дробеструйная обработка, накатывание роликом, вибрационное накатывание, ультразвуковая упрочняющая обработка, алмазное выглаживание, электромеханическое упрочнение 13]. Известно, ч го поверхностная закалка после нагрева приводит к уменьшению размера зерен вблизи поверхности и увеличению локального напряжения течения. Поэтому поверхностный нагрев с применением направленных источников энергии, таких, как лазер и электронный луч, может использоваться для оплавления и последующего быстрого затвердевания (кристаллизации) поверхностного слоя. Названные мегоды обработки вызывают yny4nJ HHe размеров зерна, формирование мелкой, субзеренной структуры, увеличивают концентрацию выделений и упрочнение, приводят к появлению новых полезных фаз. растворению или удалению инородных включений [19]. Перечисленные эффекты структурной модификации делают ее весьма перспективной, а развитие метода входит в число актуальных задач гриботехнологии. [c.39]

Металлические пленки наносили на полированные поверхности сапфира, кварца и графита испарением металла с помощью электронно-лучевого нагрева в вакууме 1 10 мм рт. ст. Источником испарения служила капля расплава, возникающая на конце вертикально расположенного стержня напыляемого металла диаметра 2—3 мм, на который фркусировался электронный луч, скорость напыления была 1—10 Kj eK. Температура подложки во время напыления составляла 100—200° С. [c.16]

Реакция возникает в результате быстрого сжатия посторонним источником энергии фиксированного количества плазмы, находящейся в рабочей камере реактора. Происходящее в процессе сжатия повышение плотности плазмы и ее температуры при достижении критических параметров, определяемых критерием Лоусона, приводит к термоядерному взрыву малой мощности, в результате которого выделяется энергия, используемая в энергетической установке. После удаления из камеры продуктов реакции и заполнения ее новым зарядом плазмы цикл повторяется. Для сжатия плазмы могут использоваться магнитные поля, оптические генераторы (лазеры), релятивистские пучки электронных лучей, движущихся с околосветовыми скоростями. [c.258]

При исследовании и обработке металлов электронным лучом в результате вавимодайствия быстрьос электронов пучка о атомами и электронами вещества формируется объемный источник тепла, действием которого в дальнейшем обусловлен разогрев материала. [c.19]

Следовательно, представление электронно-лучевого источника тепла распределением Гаусса с параметрами одномерных распределений оправдано при диаметрах электронного луча > I. При малых же диамет-рах электронного луча р I, когда расхождения значительны, следует учитывать пространственность распределения энергетических потерь электронов. [c.22]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...