Получение пленок вакуумным испарением

ПОЛУЧЕНИЕ ПЛЕНОК ВАКУУМНЫМ ИСПАРЕНИЕМ [c.38]

Адгезия пленок, получаемых методами вакуумного испарения, ионного распыления и химическими методами, в значительной мере определяется шероховатостью поверхности и наличием на ней окис-ных слоев и загрязнений. Загрязнения удаляются с подложки обычно растворителями, для повышения эффективности которых используют нагрев или воздействие ультразвукового поля. При вакуумных методах нанесения пленок применяют предварительный нагрев подложек для испарения с их поверхности адсорбированных молекул и получения атомарно чистых поверхностей. Наконец, при ионном распылении можно провести предварительную очистку подложки, используя ее в качестве мишени. [c.81]

Исследование условий получения структуры и свойств тонких пленок (и. о. проф. М. В. Белоус). За последние годы было проведено изучение электрофизических, адгезионных и технологических свойств, а также кристаллической структуры пленок, полученных вакуумным испарением сплавов на основе меди, хрома, нихрома, кобальта, тантала и других. Изучены закономерности формирования структуры указанных сплавов и установлено, что наиболее перспективными с точки зрения использования в качестве проводящих пленочных элементов являются сплавы на основе меди нихрома и тантала. Часть полученных и исследованных пленок использовалась кафедрой теоретических основ радиотехники КПИ в соответствующих схемах. [c.69]

Меньше единицы. Так, например, М О занимает по объему только 81, а ВаО — 67% от объема соответствующих металлов. Следует полагать, что пленки из таких окислов, полученные испарением в вакууме и дополнительной окислительной обработкой, будут более компактны, чем пленки, полученные окислением металлического слоя, так как в процессе вакуумного испарения произойдет [c.41]

П1. Покрытия, полученные вакуумным испарением. По назначению пленки, получаемые в вакууме, можно разделить на следующие три группы [c.8]

Возможно применение этого метода для нанесения проводящего рисунка на стекле, например контактных участков пленочной микросхемы, пригодных для пайки и служащих переходом от тонкой пленки, полученной вакуумным испарением, к внешнему соединению. [c.37]

Скорости испарения (кг м сек), температуры плавления и испарения в вакууме металлов, применяемых при получении пленок методом вакуумного испарения [c.43]

Тонкие пленки титаната бария могут быть получены вакуумным испарением порошка титаната бария так называемым флэш-методом. При этом методе нагрев порошка производится с максимальной скоростью, чтобы избежать разложения титаната бария в результате длительного теплового воздействия. В качестве испарителя используется иридиевый тигель (вместо вольфрамового, который загрязняет пленку окислами вольфрама и бариевой солью вольфрамовой кислоты). Для получения сегнетоэлектрических свойств пленки титаната бария спекаются в течение 15—20 ч при 1 200 °С. [c.380]

ОЛ до 20 мкм. В настоящее время ведутся многочисленные ра- боты по нанесению в вакууме тонких пленок цинка, кадмия, хрома, никеля, титана и др. Вакуумное напыление дает возможность получать двухслойные и многослойные покрытия, например цинковое и алюминиевое. Возможности вакуумного напыления далеко еще не изучены, но можно с уверенностью сказать, что этот метод займет определенное место при нанесении антифрикционных износостойких покрытий. Аппаратура для получения покрытий вакуумным напылением довольно сложна. В камере, в которой производится покрытие, должен быть создан и постоянно поддерживаться вакуум не ниже 10 мм рт. ст. Наносимый в качестве покрытия металл помещается в специальный тигель, называемый лодочкой, изготавливаемый обычно из тугоплавкой керамики. Металл, находящийся в лодочке, нагревается до температуры испарения. Существуют несколько методов нагрева металла высокочастотный, электросопротивлением и электронным лучом. Наиболее эффективен с точки зрения достижения стабильности характеристик испаряемого металла электронно-лучевой метод. Обычно источником электронов в пушке служит вольфрамовый катод. Электроны фокусируются в магнитном поле и направляются в тигель. Характерными параметрами испарителей являются количество испаряющегося металла, необходимая для этого мощность нагрева и срок службы. [c.120]

По интенсификации процессы нанесения покрытий можно условно разделить на три группы. К первой относятся все процессы нанесения тонких пленок в микроэлектронике, оптике, декоративной металлизации и других областях, где скорость конденсации имеет порядок тысячных или сотых долей микрометра в секунду. Во второй группе процессов (нанесение защитных покрытий на детали в установках периодического действия) скорость конденсации составляет десятки микрометров в минуту. Интенсивным можно считать процесс нанесения покрытий, при котором давление паров металла значительно больше давления остаточных газов в вакуумной камере, и скорость конденсации имеет порядок десятков и даже сотен микрометров в секунду. Такие режимы применяют при электронно-лучевом испарении металлов в непрерывных высокопроизводительных линиях металлизации полосовой стали и получения фольги. [c.19]

Одним из перспективных методов создания фольгированных диэлектриков является получение сверхтонкой фольги вакуумным методом (см. п. 3, гл. ХП) или прямое нанесение металлического покрытия на полимер путем испарения и конденсации в вакууме. Преимущества вакуумного метода очевидны уменьшается расход цветных металлов, так как толщина покрытий может регулироваться в широких пределах в зависимости от назначения схемы устраняется необходимость создания промежуточного оксидного слоя, который ухудшает диэлектрические свойства материала, и упрощается общая технологическая схема создания печатных плат за счет уменьшения числа операций. Наряду с листовыми материалами металлизировать можно полимерные пленки, такие как полиэтилентерефталат, полиимид и др. [c.325]

При вакуумном осаждении из газовой фазы (метод молекулярного пучка) поток испаренных атомов металла (молекулы вещества), не встречая в условиях высокого вакуума препятствий, прямолинейно движется к холодной поверхности подложки и там конденсируется. Плотность потока в этом методе столь велика, что получение бездефектных металлических пленок затруднено. Инертная атмосфера используется в методе катодного осаждения, когда не требуются высокие температуры для испарения вещества. Под действием электрического поля с разностью потенциалов в несколько тысяч вольт материал анода испаряется и осаждается на проводящую подложку (катод). Метод катодного осаждения применяется для создания в основном эпитаксиальных слоев, а также поликристаллических и аморфных металлических слоев. [c.315]

Основными методами получения пленок на неориентирующих подложках являются вакуумное испарение, ионное распыление и химическое осаждение. [c.59]

Условия получения и некоторые свойства тонких (до 0,1 мкм) слоев карбидизированного хрома изучены в работе [154]. Осажденный вакуумным испарением хром карбидизировали в смеси пропана и водорода (2 1) или в чистом пропане, тщательно осушенных пропусканием над едким кали и фосфорным ангидридом. Нагрев при температуре 700° С с выдержкой 1 ч и более обеспечивал полную карбидизацию тонкой хромовой пленки, что контролировалось измерением удельного электросопротивления, светопропускания, отражения и коррозионными испытаниями в растворах соляной, серной и азотной кислот и едкого кали. Свойства карбидизированных слоев не изменяются при длительном воздействии температур до 200° С. [c.148]

Получение тонких пленок испарением металлических и неметаллических материалов в высоком вакууме является перспективным методом, особенно важным для современной технологии йнтегральных пленочных микросхем. Метод вакуумного испарения позволяет наносить любые пленки — проводящие, резистивные, диэлектрические, полупроводниковые, магнитные, защитные — почти на любые подложки при однотипном, единообразном технологическом цикле. Последнее обстоятельство создает главную предпосылку для автоматизации процесса, без чего повторяемость требуемых результатов и рентабельность производства мало реальны. [c.38]

Б-5. Получение тонких пленок шоопированием. Нанесение тонких пленок титаната бария с помощью керамической технологии или вакуумного испарения — дорогой и малопроизводительный процесс. Значительно экономичнее и производительнее нанесение пленки шоопированием. При шоопировании не требуются вакуумная камера и дорогие подогреватели. Пленка толщиной 30 мкм с е > 6 ООО может быть получена на стальной ленте шириной 30 мм и толщиной 0,1 мм с большой скоростью. Шоопирование можно осуществить распылением стержня или порошка титаната бария. В первом случае получаются пленки более высокого качества, но повышенной толщины с 8 400. Во втором случае образуются более тонкие пленки (е > 800) с высокой производительностью, причем обеспечивается возможность автоматизации процесса. Чтобы увеличить е до 6 ООО и выше, применяется дополнительная термическая обработка во время или после шоопирования. [c.381]

Качество наносимого покрытия зависит не только от типа применяемой аппаратуры и технологического процесса, но и от подготовки покрываемого изделия. Например, при нанесении алюминиевого покрытия для получения блестящего на вид и хорошего по адгезии покрытия необходихмо с поверхности предварительно очищенного листа удалить газы и нагреть лист до температуры 200—250° С. Удаление газов производится при нагреве в вакуумной камере. Метод вакуумного испарения имеет ряд преимуществ высокая производительность, возможность нанесения покрытия регулируемой толщины и практически из любых металлов, возможность получения многослойных покрытий и др. Вместе с тем данным методом можно наносить пленки только чистых металлов, и совершенно исключается нанесение 1многокомпонентных пленок. Учитывая особенности и возможности метода вакуумного испарения, можно указать четыре основных направления использования его для нанесения антифрикционных износостойких покрытий. [c.120]

В ранних физических исследованиях электрического разряда в газа> при низком давлении экспериментатор часто отмечал металлический осадок на стекле вблизи катода. Позднее был разработан метод для получения покрытия на поверхности, расположенной вблизи катода разрядной трубки, процесс известен под названием вакуумного напыления. Напряжение постоянного тока в 2000 в является достаточной э. д. с. Частицы, вылетающие из катода, содержат главным образом нейтральные атомы, движущиеся со скоростью, соизмеримой со скоростью теплового движения атомов в точке плавления материала катода. Толанский предполагает, что имеется действительно испарение локальных точек на катоде . Вакуум для процесса напыления требуется неточный, достаточно 0,1 мм рт. ст. Аналогичные процессы, известные как термонапыление, требуют давления <10" мм рт. ст., даже 10 или выше 10 . Этим путем получают пленку алюминия на больших телескопических зеркалах. Источником испаряющегося металла может быть Шарик на горячей проволоке или диск на горячей пластинке, а высокий вакуум необходим для того, чтобы обеспечить средний свободный пробег частиц, превышающий расстояние между расплавленным металлом и поверхностью, подлежащей покрытию. Испускаемые частицы имеют размеры атомов. Подробности обоих процессов, которые уже получили промышленное использование в получении исходных осадков на восковых матрицах, для оптических зеркал и ювелирных покрытий, на пластиках и оптических деталях, рассматриваются в статье [8]. Электрическое сопротивление покрытий, превышающее сопротивление основного металла, обсуждено в статье [9]. Если любой из этих процессов использовать для получения слоев, предназначенных для защиты от коррозии, то требует серьезного рассмотрения вопрос [c.550]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...