Вакуумное испарение

Рассмотрим прежде всего метод вакуумного испарения (рис. 2.1). Напыляемый материал / нагревается до температуры, при которой происходит интенсивное его испарение. Нагрев осуществляется или джоулевым теплом, выделяющимся в спирали (лодочке) испарителя (рис.2.1, а), или с помощью электронного луча 6, падающего на образец (рис. 2.1, б). Поток испарившихся атомов 2 падает на [c.59]

Рис. 2.1. Схема вакуумного испарения

Адгезия пленок, получаемых методами вакуумного испарения, ионного распыления и химическими методами, в значительной мере определяется шероховатостью поверхности и наличием на ней окис-ных слоев и загрязнений. Загрязнения удаляются с подложки обычно растворителями, для повышения эффективности которых используют нагрев или воздействие ультразвукового поля. При вакуумных методах нанесения пленок применяют предварительный нагрев подложек для испарения с их поверхности адсорбированных молекул и получения атомарно чистых поверхностей. Наконец, при ионном распылении можно провести предварительную очистку подложки, используя ее в качестве мишени. [c.81]

Определение прочности зерен, покрытых никелем (гальванически) и медью (вакуумным испарением из газовой фазы) и алмазов, металлизированных из жидкой фазы Си—Sn—Ti расплавом одинаковым количеством металла (рис. 3) показало, что металлизация алмазов никелем увеличивает прочность частиц примерно на 20%, те же алмазы, металлизированные Си—Sn—Ti прочнее исходных на 50%. Подобный характер упрочнения наблюдается и для при- 4т родных алмазов. Прирост прочности при металлизации из жидкой [c.103]

В — в чистых растворах. И — медные луженые емкости, применяемые при вакуумном испарении. Присутствие хлорида железа опасно. [c.222]

Исследование условий получения структуры и свойств тонких пленок (и. о. проф. М. В. Белоус). За последние годы было проведено изучение электрофизических, адгезионных и технологических свойств, а также кристаллической структуры пленок, полученных вакуумным испарением сплавов на основе меди, хрома, нихрома, кобальта, тантала и других. Изучены закономерности формирования структуры указанных сплавов и установлено, что наиболее перспективными с точки зрения использования в качестве проводящих пленочных элементов являются сплавы на основе меди нихрома и тантала. Часть полученных и исследованных пленок использовалась кафедрой теоретических основ радиотехники КПИ в соответствующих схемах. [c.69]

Карбид титана нашел широкое применение в качестве заменителя графита в электродах либо в качестве добавки к графиту. Электроды на основе карбида титана используют при кислородной резке сталей под водой, электролизе водных растворов, вакуумном испарении [c.198]

Для покрытия пластмасс, стекол и других материалов тонкими металлическими пленками и вакуумной очистки металлов используется метод вакуумного испарения. В качестве материалов нагревательных элементов нашли применение графит, карбиды и бориды тугоплавких металлов. В некоторых случаях нагреватели изготавливаются из карбида титана, который хорошо удовлетворяет требованиям к материалам нагревательных элементов хорошая электропроводность, коррозион-но- и окалиностойкость, механическая прочность и сопротивление термоудару, нерастворимость в расплавленном металле и смачиваемость им. [c.199]

Методы вакуумного испарения углерода будут рассмотрены ниже. Здесь же мы укажем, что уголь является превосходным материалом для пленок-подложек. Угольные пленки аморфны, механически весьма прочны, химически инертны и хорошо переносят электронную бомбардировку, будучи термостойкими. Одним из важных преимуществ угольных пленок перед кварцевыми и пленками из закиси кремния является то, что угольные пленки хорошо [c.24]

Преимущества этого метода исследования очевидны. Однако получение сплавов методом вакуумного испарения имеет и ряд недостатков, к главным из которых следует отнести неточность [c.38]

Следует отметить, что применение многих металлов с высокой рассеивающей способностью ограничивается трудностью испарения (иридий, осмий, рений) или сравнительно большими размерами собственных кристаллитов (никель, железо), или, наконец, рекристаллизацией под воздействием электронной бомбардировки (серебро). Поэтому необходимы попытки создания либо новых методов вакуумного испарения, либо способов уменьшения величины кристаллитов оттеняющей пленки, например, сплавляя оттеняющий металл с какими-нибудь добавками. [c.112]

Для расширения ассортимента металлов, которые могут быть использованы для оттенения, а также для облегчения требования в отношении вакуума, можно рекомендовать некоторое видоизменение обычной установки для вакуумного испарения металлов [91] на пути молекулярного пучка устанавливают коническую трубку 2, узким концом своим вплотную прилегающую к объекту 4, а между испарителем 1 и конической трубкой помещают подвижную перегородку 6 (фиг. 55). Объект находится внутри замкнутого экрана 3, перемещаемого на салазках 5 по плите вакуумной установки, что дает возможность из.менять угол оттенения. После достижения в установке необходимого вакуума нить испарителя прогревают для удаления поглощенных газов, затем перегородку опускают и производят испарение. Защитный экран не дает возможности попасть на объект рассеянным частицам, в частности отраженным [c.114]

При измерении больших токов в качестве датчиков повышения температуры, когда требуется очень небольшая мощность генератора электрического тока (порядка 10 —10 вт), можно применять пленочные термоэлектрические генераторы, для изготовления которых используется вакуумное испарение и осаждение пленки на подложку. [c.140]

Наиболее широкое и разностороннее применение в промышленности и экспериментальной технике находят такие методы, как алитирование, напыление расплавленного алюминия и особенно вакуумное испарение. Алюминирование методами погружения в расплавленный металл и электролизом расплавленных солей нашло некоторое применение за рубежом. [c.14]

В судовых Турбо установках, где в качестве охлаждающей воды поверхностных аппаратов для конденсации вторичного пара используется забортная вода, широко применяется вакуумное испарение, которое имеет следующие преимущества возможность использовать пар меньшего давления — отработавший пар вспомогательных механизмов, имеющийся в избытке на судах менее интенсивное отложение накипи, что весьма важно, так как выпаривается морская вода больший температурный напор, благодаря чему интенсифицируется работа [c.349]

Меньше единицы. Так, например, М О занимает по объему только 81, а ВаО — 67% от объема соответствующих металлов. Следует полагать, что пленки из таких окислов, полученные испарением в вакууме и дополнительной окислительной обработкой, будут более компактны, чем пленки, полученные окислением металлического слоя, так как в процессе вакуумного испарения произойдет [c.41]

К покрытиям этого типа можно отнести покрытия, составные части которых образуются в результате гетерогенных химических реакций в газовой среде, окружающей обрабатываемое изделие, и осаждаются на его поверхности, формируя сплощной слой осаждаемого материала. Принимая терминологию, предложенную в монографии [11 ], целесообразно рассмотреть только покрытия, образующиеся при химическом осаждении из газовой фазы (под физическим осаждением при этом понимают процесс вакуумного испарения и конденсации). Методом газофазного осаждения могут быть получены почти все металлы, кислородсодержащие и бескислородные тугоплавкие соединения, интерметаллиды, различные сплавы и керметы. Исходными продуктами служат газообразные галогениды, карбонилы или металлорганические соединения, при разложении или взаимодействии которых с другими газообразными составляющими смесей (водородом, аммиаком, углеводородами, окисью углерода и др.) могут образовываться и осаждаться на обрабатываемой поверхности нужные материалы. В данной главе будут кратко изложены некоторые принципиальные положения технологии газофазного осаждения, приведены отдельные типы покрытий и примеры их практического использования. [c.357]

При горячем распылении используют металлический туман с диаметром капель около 30 мк, при вакуумном испарении — пар осаждаемого вещества. [c.6]

Вакуумное испарение Конденсацией Пар Адсорбция и кристаллизация [c.7]

П1. Покрытия, полученные вакуумным испарением. По назначению пленки, получаемые в вакууме, можно разделить на следующие три группы [c.8]

В технологии вакуумного испарения пленок (см. 5 гл. I) метод обработки подложки тлеющим разрядом является одним из эффективных заключительных методов очистки поверхности. [c.19]

Возможно применение этого метода для нанесения проводящего рисунка на стекле, например контактных участков пленочной микросхемы, пригодных для пайки и служащих переходом от тонкой пленки, полученной вакуумным испарением, к внешнему соединению. [c.37]

Металлизация горячим распылением применяется при производстве металлобумажных конденсаторов с малой собственной индуктивностью для обеспечения контакта выводов с обкладками. При этом две ленты бумаги, металлизированные вакуумным испарением, сматывают в рулон так, что одна лента относительно другой сдвинута по оси конденсатора. Если теперь на оба торца рулона нанести металлическую пленку методом горячего распыления, [c.37]

ПОЛУЧЕНИЕ ПЛЕНОК ВАКУУМНЫМ ИСПАРЕНИЕМ [c.38]

Пленки вакуумным испарением получают на установках, обеспечивающих разряжение не хуже 10 мм рт. ст. под колпаком (рис. 14 и 55). [c.40]

Исходя из рассмотрения физических процессов, происходящих при вакуумном испарении, пространство под колпаком вакуумной [c.40]

Рис. 15. Зоны под колпаком камеры при вакуумном испарении

Скорости испарения (кг м сек), температуры плавления и испарения в вакууме металлов, применяемых при получении пленок методом вакуумного испарения [c.43]

Основными методами получения пленок на неориентирующих подложках являются вакуумное испарение, ионное распыление и химическое осаждение. [c.59]

По способу нанесения металлического покрытия можно различать гальванические, термодиффузионные, металлиза-ционные, покрытия, нанесенные из горячего расплава, а также путем вакуумного испарения. [c.35]

Существуют и другие направления экономии энергии в конечном энергоиспользовании. В Великобритании с 1954 г. работает Национальное бюро по эффективности использования топлива в промыщленности. Тщательные исследования этого бюро, проведенные еще в 1965 г., во времена дещевой энергии, показали, что 2,5 млн, ф. ст. капитальных затрат на замену и модернизацию оборудования на промышленном предприятии позволят сэкономить 300 тыс. т у. т. ежегодно, срок окупаемости капитальных вложений в рассмотренном случае был всего два года. В рассмотренной ранее работе по изучению централизации указывается на возможность годовой экономии топлива в Великобритании 10 млн. т у. т. за счет замены стандартных электродвигателей переменного тока с постоянной скоростью вращения электроприводом с переменными скоростями вращения 4,5—5 млн. т у. т. — за счет утилизации бытового мусора и промышленных отходов, примерно 12 млн. т у. т. — за счет применения регенерации тепла на дизельных генераторах и паровых турбинах с противодавлением. Финский национальный фонд исследования и развития разработал проект экспериментальной установки для использования вторичного тепла от НПЗ в целях опреснения морской воды путем вакуумного испарения. В этом проекте привлекает также сокращение загрязнения среды при уменьшении температуры сбросных вод НПЗ, используемых для охлаждения. [c.277]

Накннеобразование можно было бы уменьшить при вакуумном испарении. Однако большой удельный объем пара в этом режиме исключает применение вытеснительных компрессоров, а центробежные, или осевые, были бы слишком дорогостоящими. Кроме того, их характеристика такова, что при увеличении напора производительность их быстро падает, так что по мере образования накипи испаритель не сможет сохранить паспортную производительность. При использовании вытеснительных компрессоров она остается постоянной. [c.49]

До конца 50-х годов в этих установках применялись ротационные компрессоры Рута. Сейчас их заменяют более совершенными компрессорами с винтовыми трехлопастными роторами, имеющими более высокие к. п. д. Из других недостатков, связанных с вакуумным испарением в рассматриваемых установках, можно отметить неустойчивость вакуума и повышенную работу сжатия, необходимую для обеспечения требуемого температурного напора. Так, если для р2=1,03 кГ1см температурный напор 10 град обеспечивается при степени сжатия р Р2=, Ъ, то для Р2 = 0,07 кГ1см тот же температурный напор достижим лишь при Pi р2= 1,7. [c.49]

Плёнки получают электролнтнч. осаждением металлов и сплавов, вакуумныл испарением н коцденсацией вещества иа подложке, катодным распылением мишепи, выращиванием из раствора-расплава, методами газотранспортных реакций и др. методами. [c.658]

С его быстрым растрескиванием, но введение диборида титана до 50 % позволяет в значительной степени устранить этот недостаток. Для вакуумного испарения таких легкоплавких металлов, как олово, серебро и медь, карбид титана используется в качестве материала электродов и тиглей без добавок других материалов. Однако смачиваемость оловом и медью карбида титана недостато о высокая. [c.200]

Грим [25] описывает изготовление голографических дифракционных решеток на фоторезисте Шипли AZ-1350. После проявления и сушки на этих решетках методом вакуумного испарения можно получить алюминиевое покрытие с высоким отражением. С другой стороны, проявленный фоторезист можно применять без покрытия как высококачественную тонкую фазовую решетку. Бартолини [3] [c.305]

При определенных условиях вакуумной конденсащш леталлнческо-го пара на холодной подложке возникают островковые пленки. Научные основы и технология вакуумного испарения различных веществ описаны в работе [9], а в обзорах [10, 11] рассмотрены общие вопросы конденсации пара и особенности образования островковых пленок. [c.5]

Вакуумное испарение. Метод не обязательно связан с использованием ионов, но исторически явился первым методом формирования покрытий в вакууме, и уместно упомянуть о нем хотя бы в сравнительном плане. Суть метода сводится к осаждению паров материала. Создание высокоэффективных электронных пушек, обеспечивающих высокие скорости испарения, значительно расширило возможности метода. Помимо электронных пушек используются нагреватели из тугоплавких металлов. Введение в вакуммную камеру небольших добавок химически активных газов позволяет формировать покрытия оксидов, нитридов, карбидов и т. д. Энергия осаждаемых частиц соответствует характерным значениям энергии тепловых колебаний атомов, а скорость осаждения покрытий достигает десятков и сотен микрометров в час. [c.74]

Условия получения и некоторые свойства тонких (до 0,1 мкм) слоев карбидизированного хрома изучены в работе [154]. Осажденный вакуумным испарением хром карбидизировали в смеси пропана и водорода (2 1) или в чистом пропане, тщательно осушенных пропусканием над едким кали и фосфорным ангидридом. Нагрев при температуре 700° С с выдержкой 1 ч и более обеспечивал полную карбидизацию тонкой хромовой пленки, что контролировалось измерением удельного электросопротивления, светопропускания, отражения и коррозионными испытаниями в растворах соляной, серной и азотной кислот и едкого кали. Свойства карбидизированных слоев не изменяются при длительном воздействии температур до 200° С. [c.148]

При этом процессы ФОП обычно включают вакуумное испарение тугоплавкого металла — образователя соединения покрытия, его частичную или полную ионизацию (при частичной ионизации образуется пароплазменная фаза), подачу реакционного газа, химические и плазмохимические реакции, конденсацию покрытия на рабочих поверхностях режущего инструмента. [c.13]

Указание на сублимацию теллурида мышьяка содержится в работе Андриевского и др. [200]. Авторам удавалось получать пленки АзаТез вакуумным испарением стехиометрического соединения. При этом, однако, было замечено, что при понижении скорости испарения разделение компонентов усиливается — сначала испаряется мышьяк, а затем теллур. Это указывает на то, что в условиях, близких к равновесию, должна наблюдаться диссоциация АззТед. [c.40]

Получение тонких пленок испарением металлических и неметаллических материалов в высоком вакууме является перспективным методом, особенно важным для современной технологии йнтегральных пленочных микросхем. Метод вакуумного испарения позволяет наносить любые пленки — проводящие, резистивные, диэлектрические, полупроводниковые, магнитные, защитные — почти на любые подложки при однотипном, единообразном технологическом цикле. Последнее обстоятельство создает главную предпосылку для автоматизации процесса, без чего повторяемость требуемых результатов и рентабельность производства мало реальны. [c.38]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...