Полевые лучи

При выборе системы нужно стремиться к минимальным значениям и т. е. к минимальным углам преломления апертурного и полевого лучей, и добиваться максимального значения коэффициента качества С. [c.306]

Полевые лучи 2 — 234 Ползуны кривошипно-кулисных механизмов 1 — 483 [c.455]

Назовем буквой расстояние от оси точки пересечения полевого луча с поверхностями компонентов. [c.303]

Пусть f,, fa> Рз,. . ., Рс — фокусные расстояния линз ,, г, 3,. .., , / — фокусное расстояние окуляра с — расстояние между линзами 3 и Ц — высота пересечения апертурного луча с линзой, порядковый номер которой 8 — высота пересечения полевого луча с той же линзой. [c.316]

Для полевого луча имеем соотношения [c.316]

Определим теперь высоты пересечения полевого луча с линзами окуляров. В дальнейшем придется использовать углы и нх тангенсы. Так как все вычисления производятся в гаусс< вой области, то можно тангенсы заменять углами и наоборот. [c.317]

Высота пересечения полевого луча с первым компонентом окуляра 5 может быть определена из уравнения [c.317]

Чтобы не допустить виньетирования полевых рабочих пучков света от визируемого объекта, угол конуса бленды выбирают равным наибольшему угловому полю прибора (2(о). Для исключения непосредственной засветки линейного поля зрения ОЭП внутренняя поверхность бленды должна отстоять от крайних полевых лучей на небольшое расстояние а. [c.111]

Оптическая схема типичной модели двухлучевого микроинтерферометра МИИ-4 показана на рис. 22, а. От лампы 1 через конденсор 2, апертурную диафрагму 3, полевую диафрагму 4 и объектив 5 пучок лучей падает на пластину 8 с полупрозрачным слоем и разделяется на два пучка когерентных лучей примерно одинаковой интенсивности. [c.91]

Нить лампы накаливания / проектируется коллектором 2 в плоскость апертурной диафрагмы 4. В фокальной плоскости проекционного объектива 6 помещена полевая диафрагма 5, которая изображается объективом в бесконечности. Параллельный пучок лучей попадает на разделительную пластинку 7, которая одну половину лучей отражает, а другую — пропускает. Отраженный от пластинки 7 пучок лучей собирается в фокусе объектива ]0 на поверяемой поверхности детали 8, установлен- [c.349]

Осветительная система М. состоит из лампы 1, коллектора 2, плоского зеркала 4 и конденсора 6. С плоскостью препарата 7 сопряжены полевая диафрагма окуляра 10 и полевая осветит, диафрагма 3, обычно регулируемая. Конус лучей, к-рый может быть воспринят объективом, ограничивает апертурная диафрагма 9, с к-рой сопряжены ирисовая диафрагма 5, наз. апертурной осветит, диафрагмой, и нить лампы накаливания 1. При таком расположении источника [c.142]

Принцип действия и устройство металлографического микроскопа. Для изучения микроструктуры металлов используют металлографические микроскопы (рис. 1.4). Подготовленный соответствующим образом шлиф 1 помещают перпендикулярно оптической оси микроскопа в плоскости, совпадающей с передней главной фокальной плоскостью объектива 2. Шлиф освещается проходящим через объектив почти параллельным оптической оси пучком света, который формируется посредством осветительной системы, состоящей из источника (лампы) 3, коллекторной линзы 4, апертурной 5 и полевой 7 диафрагм, вспомогательных линз 6, 8 и полупрозрачной пластинки 9. Световые лучи, отражающиеся от участков поверхности шлифа, приблизительно нормальных оптической оси микроскопа, попадают в объектив. а те лучи, которые отражаются от неровностей поверхности, не попадают в его поле. На конечном, изображении поверхности [c.22]

Ясно, что при сложении аберраций, кроме того, что они должны быть записаны на одной поверхности (в одних и тех же зрачковых координатах), необходимо обеспечить и совпадение полевых координат. Последние изменяются при переходе от аберраций волны, падающей на какой-либо оптический элемент, к аберрациям волны, сформированной этим элементом. Аберрации падающей волны на поверхности элемента выражают через координаты предметного источника х, у (разумеется, этот источник может быть только промежуточным изображением для системы в целом) Фл( , т), х, у), где т] — координаты точки на поверхности элемента. Аберрации сформированной элементом волны (в которые аберрации падающей волны входят как составная часть) выражают через координаты гауссова изображения х, у, поэтому необходимо записать Фл( , г, х, у) через них. Это возможно с помощью формул х = х, у — у, где (3 = = у у — линейное увеличение рассматриваемого оптического элемента [его легко найти из выражений (1.15) или (1.24)]. Подчеркнем еще раз, что в принятом определении волновой аберрации не фигурирует реальное изображение, т. е. точка пересечения реального луча с плоскостью изображения, а исключительно гауссово изображение, что и обеспечивает столь простую замену переменных в Фл( , т), х, у). Используя ее, получим [c.51]

Отметим, что соотношение типа (2.16) можно получить для любой другой системы оптически сопряженных плоскостей, не обязательно связанной с выходными зрачками элементов. Однако при оценке аберрационных искажений изображения, формируемого системой, необходимо знать области изменения зрачковых и полевых координат. При этом оказывается, что только в плоскости выходного зрачка системы (и во всех плоскостях входных и выходных зрачков элементов системы) область, через которую проходят лучи, формирующие изображение, — область изменения зрачковых координат — не зависит от положения точки изображения (предмета), т. е. от области изменения полевых координат. Независимость зрачковых и полевых координат в плоскости зрачка заставляет во всех расчетах пересчитывать суммарные аберрации именно в эту плоскость. По этой же причине координаты точки поверхности (плоскости), на которой рассматривают аберрации, были заранее названы зрачковыми. Следует отметить, что независимость координат в плоскости выходного зрачка соблюдается только в первом приближении. На самом деле размеры и форма области в плоскости выходного зрачка, которую занимают лучи, равномерно заполняющие входной зрачок, могут сильно изменяться при удалении полевой точки от оси. Это явление, получившее название аберрационного виньетирования, особенно важно для широкоугольных объективов [39], которые в настоящей книге не рассматриваются. [c.57]

Анализ показывает, что при небольших значениях апертурного и полевого углов дублета (не более 20° каждый) и при любой толщине мениска (вплоть до й = 0) практически приемлемые решения существуют для всех увеличений в диапазоне Oi>p>—1, если 1,5 < Я < 10 (ограниченность К снизу согласуется с рассмотренной выше невозможностью компенсировать дисторсию из-за малой кривизны поля). При Р > 1 одновременно компенсировать кому и астигматизм в дублете с силовой ДЛ при том порядке расположения элементов, которое показано на рис. 5.1, невозможно, поэтому для формирования увеличенного изображения необходимо использовать в обратном ходе лучей систему, рассчитанную для Р < 1. Таким образом, у комбинированного дублета, свободного от первичных комы и астигматизма, с низким уровнем остаточной кривизны поля РЛ всегда находится со стороны увеличенного изображения (предмета). [c.163]

Обычно в качестве функций, определяющих качество изображения, берут поперечные и продольные аберрации, иногда волновые аберрации. Хотя с точки зрения простоты вычислений эти величины имеют преимущество перед другими (они выдаются ЭВМ как непосредственный результат расчета хода лучей), но как математические функции от конструктивных элементов они невыгодны, так как представляются. плохо сходящимися рядами и легко обращаются в бесконечность даже при не очень больших апертурах и полевых углах по этой причине онн далеки от линейности, что служит значительным препятствием к сходимости процесса автоматического или частично автоматического расчета оптической системы. [c.253]

Расчеты тригонометрического хода лучей через мениски с исправленным астигматизмом показали, что в первом случае при переходе от центра поля к краю сферическая аберрация наклонных пучков для бесконечно удаленного предмета не только не растет (как в случае ближнего расположения зрачка), но даже слегка убывает. Для случая ближнего зрачка приводится формула, выражающая прирост сферической аберрации по полю, но в ней участвует некоторый неопределенный коэффициент А, выражающий степень удаления угла отклонения лучей наклонного пучка от минимума при росте полевого угла. [c.260]

В плоскость препарата 4. При освещении препарата сверху апертурной диафрагмой служит диафрагма 5, а полевой — диафрагма 6. В этом случае для освещения используется светоделительная пластинка 7. На пластинку нанесено интерференционное покрытие, которое почти полностью отражает лучи с длинами волн 360—440 ммк и почти полностью пропускает лучи с длинами волн 440—700 ммк. Таким образом осуществляется предварительное разделение света люминесценции и возбуждающего света. При [c.67]

Полевые лучи 234 Политропа — Построение 50 Политропический процесс 48, 50 Полуапохроматы 243 Полукруг — Момент инерции 458 [c.546]

Если исходить из величины поля зрения полного освещения, действующие отверстия каждой линзы (2 .l I, 2ЦЕ1, 21,0 я т. д.) получаются как удвоенная сумма абсолютных величин высот пересечения к и у с отдельными компонентами двух лучей главного луча пучка на краю поля зрения, т. е. полевого луча, и апертурного луча из точки предмета на оси. Например, для первой лннзы диаметр отверстия 211С[ = О определяется из уравнения Цс[=.- = 1 + Ш = ]у1 + >1,. (У.З) [c.303]

Эта формула правильна и для всех других компоиеитов. Величина Ук вычисляется аналогично величине Л на основании расчета хода полевого луча, который удобнее всего производить по формулам, подобным (V. ) и (У.2). [c.303]

Полевой луч Л/,01 образует угол а), = 3 с осью системы и проходит через центр входного зрачка, совпадающего в данном случае с центром объектива О]. Высота О Н пересечения луча с коллективом равна О7Оа 10 3° = (128 + 5,3) 0,0524 = 7,0 мм. Обе высоты пересечения О Н и О ие меняются после введения системы призм. Предположим, что призмы приняты во внимание н что они заменены в системе некоторым воздушным слоем, высота и толщина которого подлежат определению. Предположим сначала, что поле в 6° должно быть равномерно освещенным, т. е. что в системе не должно быть диафрагмирования. Тогда действую- [c.308]

Соотношение между р и высотами пересечеиня параксиальных апертурного и полевого лучей h ш у легко получить из того же [c.588]

Минимально обнаруживаемый дефект достигает порядка 0,1 мм в диаметре. Применение металлического вращающегося зеркала увеличивает скорость сканирования в 4 раза по сравнению со стеклянным зеркалом. Возможно контролирование поверхности ма 1ериала, двигающегося со скоростью свы1не 15 м/с. Сканирующие лазерные системы бегущего луча могут также использоваться для получения изображения объектов контроля. Схема лазерного сканирующего инфракрасного микроскопа для контроля внутренних дефектов полупроводниковых материалов с механическим сканированием объекта контроля и неподвижным лучом лазера отличается низким быстродействием, но имеет высокую разрешающую способность. Схема с системой сканирующих зеркал отличается большим быстродействием (до 50 кад/с при 200—400 строках разложения телевизионного изображения), однако наличие полевых аберраций оптической системы приводит в этом случае к снижению пространственного разрешения. [c.96]

Даваемые объективами 6 и 10 вторичные изображения полевой диафрагмы проектируются на испытуемую поверхность 7 и зеркало 11. Компенсационная пластина 9 уравнивает длины хода в стекле двух пучков лучей. Отразившись от испытуемой поверхности и зеркала, пучки лучей, вновь пройдя микрообъективы 6 и 10, соединяются полупрозрачной пластиной 8 и объективом 13 вместе с зеркалом 14 направляются в окуляр 12, в фокальной плоскости которого и наблюдается изображение испытуемой поверхности и система интерференционных полос, образованная соединившимися пучками когерентных лучей. При фотографировании интерференционной картины зеркало 14 выводят из хода лучей и с помощью объектива 15 и зеркала 17 лучи направляют на фотопленку, помещенную в кадровом окне 16. Разность хода когерентных световых пучков создается децентрированием объектива 10. Оно вызывает разделение зрачков выхода оптической системы и тем самым создает в поле интерференции переменный наклон пучков, которые разделяет и собирает в фокальной плоскости объектив 13. [c.92]

Оптическая схема микропрофилометра МИИ-12 представлена на рис. 27, а. Пучок лучей от осветителя 1 проходит через коллектор 2, апертурную диафрагму 3, линзы и 7 и полевую диафрагму 6, отражаясь от пластин 5 и 3, и поступает на отражательную пластину И, на которой нанесен светоделительный слой. Параллельный пучок лучей, отраженный от пластины 11, собирается линзами интер ренционного объектива 10 в точку на исследуемой поверхности 9, затем, отразившись от нее, снова проходит через интерференционный объектив и пластину И. [c.100]

Метод "[-дефектоскопии с применением Ти был опробован в заводских и полевых условиях. Контролю подвергались сварные, паяные и литые детали, а такн е узлы и агрегаты с эксплуатационными дефектами. Промышленные испытания показали, что при просвечивании -лучами Тн " стальных деталей толщиной от 1 до 20 мм, дюралюминиевых от 3 до 60 мм и магниевых свыше 5 мм выявляются дефекты сварки, пайки и литья (поры, шлаковые включения, непровары, непропаи, трещины [c.332]

Оптические линейки (рис. 10.8) производят измерение отклонений измеряемого профиля от исходной прямой, заданной лучом, проходящим через центры зеркальнолинзовых объективов, образующих афокальную автоколлимационную систему. Лучи света от лампочки 6, пройдя через призму 5, линзу 4, призму 17 и левую половину кубика 12, освещают визирную марку 2 и через зеркально-линзовые объективы 1 к 13 создают изображение визирной марки на полевой диафрагме 3. Микрообъек-тиа 11 переносит увеличенное изображение визирной марки 2 в плоскость биссектор-ной сетки 7, которое окуляром 9 проецируется на экран 8. [c.288]

Оптическая схема. микроскопа показана на рис. 1.8, а. Свет от источника 1 (лампы накаливания с йодным цик.том типа КИМ9-75) проходит через коллектор 2 и призмой 3 проецируется в плоскость апертурной диафрагмы 4 далее линзой 5, зеркалом 6, линзой 7 и полупрозрачной пластинкой 8. изображение источника 1 и апертурной диафрагмы проецир) -ется в плоскость опорного торца под объектив. Полевая диафрагма 9 помещается. в фокальной плоскости второй осветительной линзы 7 и проецируется сю в бесконечность, а после объектива — в плоскость предмета. Лучи, пройдя объектив и отразившись от шлифа, вновь проходят через объектив, пластинку 8 и телеобъективом 10 собираются в промежуточной плоскости, являющейся плоскостью предмета для панкратической системы 11. Затем лучи отражаются от зеркал 13 и 14, проходят через линзы оборачивающей системы 12 и призму 15 и поступают в бинокулярную насадку 1в. [c.29]

Следует указать, однако, что опыты проф. Углова имели специальное назначение — в первую очередь обеззараживание Боды. в полевых условиях и там, где встречаются затруднения в получении нацежно осветленной, подобно водопроводной, воды. Естественно, что можно добиться полного обеззараживания и очень загрязненной по бактериальным и физико-химическим показателям воды, но при таких условиях стоимость обеззараживания ее ультрафиолетовыми лучами не может сравниваться со стоимостью хлорирования. Так, расход электрической анергии на обеззараживание 1 воды, исходя из опытных данных проф. Углова, составляет более 3 квт-ч. Такой большой расход электрической энергии должен быть отнесен за счет условий опыта, не отвечающих условиям городских водопрово- [c.32]

Значительно расширяют данные о числовом значении коэффициента поглощения бактерицидного излучегаия водой результаты более поздних исследований, проведенных В, Г. Рядовым Ш1- Эти исследования преследовали цель определения оэфт фициентов поглощения воды, которая может быть использована для водоснабжения в полевых условиях после ее обеззара- живания -бактерицидными лучами. [c.99]

При изучении обеззараживания воды бактерицидными лучами в полевых условиях В. Г. Рядов [36] провел опыты на устойчивость неспоровых и споровых бактериальных культур против воздействия бактерицидной радиации, излучаемой лампой БУВ-ЗО-П. В качестве эталона для сравнения была применена кишечная палочка, как наиболее устойчивая к воздействию бактерицидного излучения по сравнению с остальными вегетативными патогенными микробами кишечной группы. Для характеристики действия бактерицидных лучей на споры в исследованиях [c.128]

В дальнейшем лучевые критерии будем анализировать в форме (3.16), приближенной по отношению к форме (3.14), традиционно принятой для их вычисления. Однако при лучевом расчете совершенно не обязательно получать Qj — Q4 в соответствии с (3.14), т. е. находить точки пересечения лучей с плоскостью изображения и суммировать расстояния от этих точек до гауссова изображения или другой опорной точки. С неменьшим успехом можно суммировать и угловые аберрации в выходном зрачке, т. е. получать Qi — Q4 в полном соответствии с (3.16) интегрирование в этом случае заменяют на конечное суммирование по лучам, но такую замену производят при любом численном интегрировании, и в этом смысле вычисление лучевых критериев ничем не отличается от вычисления интенсивности Штреля или относительной энергии. С другой стороны, ниже будет показано, что при умеренных апертурных и полевых углах (полевым называют угол между осью системы и лучом, соединяющим осевую точку выходного зрачка с крайней точкой изображения, т. е. главным нулевым лучом) критерии, полученные в соответствии с (3.14) и (3.16), вообще отличаются несущественно. [c.94]

Методика исследования заключалась в следующем. Значения критериев Qi и координаты центра тяжести диаграммы рассеяния ДУо вычисляли сначала в нормированном виде с использованием различного числа точек, равномерно распределенных по площади зрачка. После этого все нормированные величины переводили в естественные единицы (апертурный и полевой углы ортической системы, в выборе которых был определенный произвол, принимались равными 20° каждый), а все критерии и центр тяжести вычисляли снова по параметрам реальной лучевой диаграммы с помощью формул (3.14) при тех же числах лучей, что и в нормированном виде. Значения искомых величин, полученные при 500 точках в зрачке или лучах, принимали за истинные для данного способа вычисления. [c.97]

Исправлению в центре поля следует, как правило, придать больше внимания, чем исправлению на его краях, во-первых, потому, что наиболее интересный объект можно расположить в середине светочувствительной пластинки или пленки во-вторйх, полевые аберрации, действие которых добавляется к действию осевых, ухудшают качество изображения на краях поля зрения и можно допустить большие отклонения хода лучей, так как они сравнительно мало скажутся на значении критериев качества. Если требуется высокое качество исправления изображения на оси, нужно ставить не одно, а несколько тр ебоваиий к значениям продольной (поперечной) сферической аберрации, например эти значения для двух или трех зон должны быть минимальными, но во избежание противоречий этим требованиям должен быть придан меньший вес, чем в случае единственной зоны. Если существует подозрение, что определенное требование трудно осуществлять, следует придать ему малый вес. [c.256]

М. Г. Шпякин [141 предлагает способ нахождения системы с минимальными габаритами и наибольшими коррекционными возможностями, заключающийся в расчете хода двух параксиальных лучей, другими словами, в определении высот пересечения апертурного и полевого (главного) параксиальных лучей hay с поверхностями и оптических сил ф. На основании изучения наилучшим образом зарекомендовавших себя объективов ( Ан-женье , Варотал ) в [14] рассматривается вопрос о достижении минимально возможной длниц системы при заданных ее параметрах и требуемом качестве изображения. Для этой цели вводится некоторый эмпирический критерий качества объектива С вида [c.306]

Оптическая схема (фиг. 27) при наблюдении препаратов в ультрафиолетовых лучах состоит из двух частей системы освещения и проектирования и системы, преобразующей ультрафиолетовое изображение в видимое. Источник света 1 проектируется в плоскость апертурной диафрагмы 2, полевая диафрагма 3 проектируется конденсором 4 в плоскость препарата 5. Для выделения длины волны света, необходимой для исследования, в осветительное системе устанавливаются различные светофильтры. Объектив 6 и дополнительная система 7 проектируют изображение препарата на люминесцирующий экран 8, который превращает невидимое изображение в видимое. Это видимое изображение рассматривается с помощью вспомогательного микроскопа, состоящего из объектива [c.62]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...