Фокусное расстояние оптимальное

Фокусное расстояние оптимальное 180 Фокусирующие излучатели, вогнутые 187 [c.684]

Непрост также выбор оптимального фокусного расстояния /2 Как отмечалось выше [см. (6. 94)], освещенность в центре линии обратно пропорциональна т. е. выгодно работать с короткофокусным объективом. Но линейная дисперсия /2(dip/d/ ), указывающая, на какое расстояние разведены в фокальной плоскости объектива L2 две близкие по длине волны линии, пропорциональна /2- Если мала линейная дисперсия, то затруднены исследования спектра, а разрешающую силу прибора нацело определяет зернистость фотопластинки. Следовательно, достижение высокой дисперсии и большой разрешающей силы, как правило, сопровождается потерей светосилы. Поиск оптимального их соотношения, позволяющего проводить требуемые измерения при хорошем соотношении сигнал/шум, обычно является одной из главных задач в эксперименте. [c.327]

Экспозиция выбирается по соответствующим номограммам (рис. 3.2) или опытным путем и зависит от толщины контролируемого изделия, энергии излучения, фокусного расстояния, типа пленки и экрана, тока рентгеновской трубки или активности источника излучения. Экспозицию подбирают так, чтобы оптическая плотность почернения снимка (контролируемого участка шва, околошовной зоны и эталона чувствительности) составляла не менее 1,5 при этом энергия излучения должна находиться в пределах оптимального диапазона. Экспозиция может определяться просвечиванием образца, выполненного в виде клина, в диапазоне необходимых толщин, с учетом оптимального времени просвечивания и последующим фотометрированием. Для определения экспозиции делают несколько снимков образца в необходимом интервале времени просвечивания, используя выбранные источник и преобразователь излучения затем производится фотометрирование (определение плотности почернения изображения ступенек на пленке). После этого на снимке находят участки с одинаковой оптимальной плотностью почернения, определяют толщину металла и строят номограмму для определения времени просвечивания. [c.65]

Для определения оптимальных данных (по фокусному расстоянию, по транспортированию и др.) можно пользоваться специальными графиками зависимости затрат от влияющих на них факторов, что весьма упрощает решение задачи. [c.84]

Оптимальные режимы лазерного упрочнения стеллита на установке СЛС-10-1 напряжение накачки 11 = 980 В, что соответствует энергии импульса Е 8 Дж длительность импульса X — 4 мс количество импульсов в фокальном пятне п — 1-ь8 фокусное расстояние фокусирующей оптики Р = 87 мм смещение поверхности образца относительно фокальной плоскости АТ = 0,05-ь0,1 мм. При этих режимах обработки диаметр зоны проплавления составляет 0,4—0,6 мм. [c.274]

Схема установки с многолучевым интерферометром при фотографической регистрации интерференционной картины показана на рис. 61. Источник I и объектив 2 с фокусным расстоянием /а. образующие коллиматор, освещают интерференционные зеркала 3. Регистрирующая часть состоит из объектива 4 (фокусное расстояние и объектива 6 фотоаппарата (фокусное расстояние f ), между которыми расположена диафрагма 5. Для получения на фотопленке 7 четкого и резкого изображения плоскости исследуемой неоднородности оптические элементы следует располагать таким образом, чтобы между объективами 4 м 6 проходил параллельный пучок света. В этом случае условия наиболее оптимальны [c.103]

Перейдем теперь к нахождению наибольшей величины звукового давления, которое можно получить, имея оптимальную функцию распределения при заданной величине полного потока энергии фронта. Для этого рассмотрим последовательность волновых фронтов с поверхностью 3 с равномерным распределением давления по поверхности, различными углами раскрытия (Х и соответственно различными радиусами кривизны (фокусными расстояниями) Р. Одинаковость поверхностей фронтов при равенстве давлений ро соответствует равенству полных потоков энергии. Введем понятие эквивалентного радиуса фронта Вд, определяемого из соотношения [c.163]

Рис. 24. Выбор оптимального фокусного расстояния сферического излучателя при учете нелинейного поглощения

Оптимальные конструкции для объективных и проекционных линз были рассмотрены несколькими авторами [84, 303— 305]. Однако следует понимать, что параметры возбуждения и геометрия, при которых достигают минимума фокусные расстояния, сферическая и хроматическая аберрации, совершенно различны. Поэтому оптимальное конструирование подразумевает некоторые дополнения к обычным практическим требованиям. Например, если коэффициенты аберраций нормированы относительно минимально возможного асимптотического фокусного расстояния, они имеют минимальное значение для каждого фиксированного отношения з/О при определенном оптимальном возбуждении. Это минимальное значение уменьшается по мере роста отношения з/О [84]. Поэтому в обш,ем линзы с высокими значениями з/О имеют относительно низкие аберрации. Если, однако, рассмотреть сферическую аберрацию при таких возбуждениях, когда хроматическая аберрация имеет минимум, то увидим [300], что коэффициент сферической аберрации круто возрастает с увеличением отношения з/О. То же самое происходит, если попытаться начать с минимума коэффициента сферической аберрации для минимума сферической аберрации коэффициент хроматической аберрации приблизительно на 30% выше, чем наименьший достижимый. Обе аберрации достигают своих минимумов при различных значениях возбуждения, поэтому оптимальная геометрия всегда должна пониматься в ограниченном смысле. Правильный выбор параметров возбуждения линзы и максимального значения магнитной индукции более важен, чем выбор отношения з/О. [c.502]

До 8 Активность препарата, мг-экв Оптимальное фокусное расстояние, — 100—500 100—1000 — — — [c.342]

Г) Активность препарата, мг-экв Оптимальное фокусное расстояние. — 500 200—1750 200—2000 — — [c.342]

Для определения оптимального фокусного расстояния при рентгенографии Р. Бертольд предложил воспользоваться формулой [c.78]

Если ухудшение выявляемости дефектов при переходе через минимальное фокусное расстояние в сторону уменьшения связано с увеличением геометрической нерезкости, то ухудшение при фокусных расстояниях больше оптимального происходит за счет увеличения рассеянного излучения. [c.88]

Исследование эталонной выявляемости и выявляемости дефектов подтверждает, что определение минимального фокусного расстояния по уравнению (3) дает оптимальные значения и поэтому является более благоприятным, т. е. для расчетов более целесообразно использовать не внутреннюю нерезкость щ, а нерезкость рассеяния . При этом следует иметь в виду, что в противоположность внутренней нерезкости, нерезкость рассеяния зависит от толщины материала. [c.88]

Предварительно возможность выявления непровара в сварных стыках труб изучалась путем геометрических расчетов по схеме, изображенной на фиг. 32. Расчеты велись исходя из предположения, что гамма-лучи идут от точечного источника излучения. Определялась возможность выявления непровара в зависимости от диаметра трубы, ширины шва и фокусного расстояния. Фокусное расстояние 400 и 500 мм было выбрано с учетом наилучшей выявляемости дефектов обеих сторон стыка и оптимального времени экспозиции. Результаты расчетов приведены в табл. И. [c.41]

На качество изображения на фотопленке и на время экспозиции большое влияние оказывает фокусное расстояние от пленки до ампулы. С увеличением этого расстояния время экспозиции и четкость снимка возрастают. Для ампул в 100— 150 мг оптимальным является расстояние 400—500 мм. [c.150]

Как видно из рис. 30, такое решение при малых размерах фокуса источника излучения и достаточно большом расстоянии между фокусом и апертурой матричного детектора позволяет обеспечить оптимальные условия контроля для изделий различных размеров путем изменения расстояния между фокусом и осью вращения контролируемого изделия. Регулируемое фокусное расстояние в сочетании с разработанным локальным алгоритмом реконструкции позволяет решать задачу анализа объемной микроструктуры на отдельных участках макрообъекта. [c.159]

В практике рентгенографии для данной толщины контролируемого изделия необходимо знать напряжение V, подаваемое на рентгеновскую трубку, фокусное расстояние f, экспозицию (произведение анодного тока I на время просвечивания i), сорт рентгеновской пленки, тип рентгеновской трубки, т. е. все те факторы, которые обеспечивают наилучшую выявляемость дефектов на снимке. Иначе говоря, необходимо знать оптимальный режим контроля. Для этого на практике применяют графики экспозиций, позволяющие выбрать наилучшие условия контроля. Каждый график составляют для определенного материала, заданного фокусного расстояния, определенного сорта пленки. Тремя переменными факторами являются напряжение на трубке и, толщина материала и экспозиция И. Выбранный по графику экспозиций оптимальный режим контроля для конкретной задачи должен дать оптическую плотность снимка не менее 1,2. Графики экспозиций являются ориентировочными и в процессе работы для каждого конкретного случая под- [c.124]

До 8 Оптимальное фокусное расстояние ъ см. .. 50-60 20 30 [c.126]

Оптимальное фокусное расстояние в см. .. 50-60 20 30 20 [c.126]

Оптимальное фокусное расстояние ь см. .. 50-60 35 30 [c.126]

Оптимальное фокусное расстояние в ей . .. 50-60 35 40 [c.127]

Оптимальное фокусное расстояние ъ см. .. 45 50 50 [c.127]

График для определения значений фопх приведен на рис. 29. Выбор оптимального угла коллимации 2фопг, а следовательно, и размера участка при контроле плоских швов не зависит от фокусного расстояния Риз основном определяется толщиной плоского изделия, что особенно заметно в [c.48]

Не ставя перед собой цели исчерпывающего исследования влияния многочисленных факторов на величину размытия изображения дефекта, мы пытались экспериментально определить доли размытия, вызванные внутренней нерезкостью пленки экранов U , а также рассеянным излучением 7р. Количественное определение этих величин позволит уточнить значения оптимальных фокусных расстояний F при практической 7-дефектоск15пии, так как в этом случае мон но определить увеличение F по сравнению с Fq, которое сведет величину размытия изображения до возможного минимума при приемлемом времени экспозиции. Экспериментальное определение внутренней нероз-кости нленки Uu дает возможность критического подхода при выборе типа пленки, пригодной для 7-дефектоскоппи. [c.342]

При реальных для большинства технологических лазеров значениях 0 рад и Л 10 оптимальное фокусное расстояние фокусирующей системы составит fopt (3...10)Ь . [c.71]

Ранее было показано, что при сложении некогерентных пучков происходит сложение интенсивностей этих пучков. Поэтому суммарная интенсивность фокального пятна многолучевого лазера составит S SiN-r, где Si — интенсивность пятна каждой трубки. Максимальное значение Si достигается при оптимальном фокусном расстоянии линзы, которое в случае многолучевого лазера составит fopt 5D 6. Так как Si PiF X/dr) , где Pi — мошность генерации одной трубки, а Nj x> то S СО 0 б %/сЦ) (D б/ r) т. е. не зависит от сЦ к D<.e. Поэтому увеличение числа трубок в сборке приводит к пропорциональному росту мошности лазера, но не приводит к росту плотности мош,ности в фокальном пятне. Предельная величина S при этом составляет [c.131]

Для проектива фокусное расстояние — величина конечная. Принцип освещения по Кёлеру (дуговой лампой, рис. 1.462 [112]) должен удовлетворять следующим требованиям обеспечивать равномерное и достаточно сильное освещение объекта отсутствие рассеяния света и отражений обеспечивать оптимальное согласование направления падающего излучения освещенной цифровой апертуры с управлением и пучка лучей с объективом и окуляром. [c.174]

Фокусное расстояние окуляров большинства биноклей оказывается величиной достаточно устойчивой — около 15 мм, что вытекает из условия минимально допустимого расстояния от окуляра до глазного зрачка — 10—12 мм. Отсюда следует, что. фокусное расстояние объектива равно 15 у мм. Длина трубы растет пропорционально увеличению и даже несколько быстрее, так как укорочение, вызванное системой оборачивающих призм, относительно больше в трубах малого увеличения. А между тем количество деталей, различаемых биноклем, растет медленнее, чем увеличение, вследствие растуш.ей амплитуды колебаний изображений, вызванных неустойчивым положением бинокля в руках наблюдателя. Чем бинокль тяжелее, тем устойчивость меньше. Практика показывает, что оптимальное увеличение лежит в пределах 6—8х. [c.201]

Эти два условия необходимы, чтобы избежать явления симме-трнзацни, для чего поверхности ториов должны быть перпендикулярны главным лучам. Их можно соблюдать лишь приближенно, так как небольшое нарушение этих условий особенного вреда не принесет. Однако они могут противоречить вышеуказанному требованию исправления кривизны всей системы. Кроме того, на поверхности САВ должно образоваться резкое изображение плоскости предметов, так как иерезкость на торце волоконного элемента никаким образом в дальнейшем ие может быть исправлена. Поскольку число перечисленных условий превышает число свободных параметров, остается только одни выход — иайти оптимальный компромисс между ними. В частности, следует объектив Li исправить таким образом, чтобы изображение, создаваемое им было резким (из аберраций допустимы только кривизна и дисторсия). Желательно подобрать фокусные расстояния отдельных узлов системы таким образом, чтобы устранить перечисленные противоречия. Возможно также присоединение обычной линзы к волоконной, что позволяет произвольно выбрать значение кривизны первой (или второй) поверхности волоконной линзы. [c.576]

Рассматривая совокупное влияние погрешностей формы и юстировки на разрешение системы, следует учитывать, что некоторые погрешности приводят только к небольшому изменению геометрических параметров системы и могут быть скомпенсированы (например, подбором оптимального фокусного расстояния). Другие погрешности при определенных условиях могут компенсировать друг друга. Например, в системе из двух зеркал взаимно компенсируются наклон и децентрировка осей зеркал (если децентрировка ортогональна оси наклона), сфазированная по длине эллиптическая деформация (если главные оси эллипсов ортогональны), несфазированная эллиптическая деформация с поворотом главной оси на 90° (если ориентация главной оси на входах обоих зеркал одинакова). Практически невозможно скомпенсировать ошибки в аксиальном профиле поверхности типа волнистости (диаметр фокального пятна при этом увеличивается с уменьшением периода как 1//). [c.219]

Независимость основных параметров ионнооптической схемы. В отличие от законов для приборов с однородным полем в рассматриваемом поле фокусное расстояние ионнооптической системы не зависит от радиуса отклонения ионных пучков в магнитном поле. В масс-анализаторе с неоднородным магнитным полем, меняющимся обратно пропорционально радиусу отклонения ионов, угол поворота ионов в поле, радиус траектории, фокусное расстояние, форма поперечного сечения ионного пучка и, наконец, угол расходимости ионного пучка можно выбрать, исходя из конкретных требований, предъявляемых к прибору. При конструировании можно независимо друг от друга варьировать величины этих параметров. Таким образом, особенности неоднородного поля облегчают выбор наиболее оптимального варианта геометрии отклоняющей системы масс-спектрометра. [c.52]

W =po ovlnF(i — os а ) = lonRl, полученные условия можно переписать в таком виде, который позволяет прямой [выбор оптимальных значений угла раскрытия фокусного расстояния и длины волны [c.178]

Под режимами лазерной обработки понимают энергию излучения IV и длительность импульса т, плотность энергии излучения, фокусное расстояние фокусирующей системы /, смещение поверхности детали относительно фокальной плотности А/, количество импульсов п излучения. Для выбора оптимальных режимов лазерной обработки микроотверстий применяют номограммы. Лазерная обработка сопровождается структурными изменениями металла в поверхностных слоях. Величина зоны с изменяемой структурой зависит от многих факторов она растет с увеличением ИЛ Для углеродистых сталей, содержащих от 0,2 до 1,2 С, она равна 0,06...0,07 мм (при Ж=2,1 Дж г =1,5 мс, /=43 мм). Шероховатость обработанной поверхности также зависит от режимов лазерной обработки = При обработке титановых пластин [c.227]

Для получения таких картин, которые можно интерпретировать как изображения кристаллических структур, следует соблюсти некоторые условия [1001. Падающий пучок должен быть направлен вдоль главной оси кристалла с точностью до долей градуса, что достигается использованием прецизионной гониометрической приставки для образцов. Толщина кристалла не должна превышать 100—200 А (некоторые исключения приведены ниже). Микроскоп должен быть недофокусирован на величину, приблизительно равную оптимальной дефокусировке для слабофазового объекта (в данном случае 900 А). Отклонения фокусного расстояния на величину свыше [c.302]

Тремя основными геометрическими параметрами этой линзы являются RilRi, I и S. Суммируя основные результаты для линзы с низким потенциалом, можно сказать следующее. При данном отношении напряжений фокусное расстояние сначала уменьшается с увеличением длины среднего электрода, как и в случае трехцилиндровой линзы (рис. 106). Однако для электродов большей длины тенденция обратная после прохождения минимума фокусное расстояние увеличивается с ростом I. Расстояние между главными плоскостями растет как с ростом I, так и с ростом s. Коэффициент сферической аберрации для бесконечного увеличения также достигает минимума при некотором оптимальном значении I, которое увеличивается с ростом отношения напряжений. При этом оптимальном значении сферическая аберрация почти не зависит от размеров зазора. Если потенциал среднего электрода нулевой, наилучшее значение сферического коэффициента добротности приблизительно равно 5. Минимум сферического коэффициента добротности достигается при том же самом отношении напряжений, при котором сила линзы максимальна. Коэффициент хроматической аберрации принимает минимальные значения при длинных централь- [c.443]

Пример 7.16. На рис. 7.30 7.33 показаны результаты исследования дJш мод ГЭ с номерами (1,0), (1,1), (1,2) и (7,0), соответственно. На рис. 7,30о, 7.33в показаны амгиштудные бинарные фотошаблоны ДОЭ, ограниченные круглыми апертурами с диаметром 1,2 мм. Фотошаблоны рассчитывались в соответствии с формулой (7.182). Однако, апертура была круглой и немного бо.льше оптимального размера, что ухудшило результаты (в основном эффективность), которые могли быть получены в оптимальном случае (см. таблищ-" 7.6). На рис. 7.306—7.336 показаны рассчитанные по формуле (7.190) картины дифракции Фраунгофера на соответствуюп1 их фазовых бинарных ДОЭ. На рис. 7.30е-7.33е показаны экспериментальные картины дифракции Фраунгофера (дальняя зона), которые были зарегистрированы в задней фокальной плоскости линзы с фокусным расстоянием 500 мм, дополнительно введенной в оптическую схему (рис. 7.29, позиция 7). На рис. 7.30г-7.33г показаны трехмерные [c.532]

ВЫБОР ОПТИМАЛЬНОГО ФОКУСНОГО РАССТОЯНИЯ ПРИ ГАММА-ГРАФИРОВАНИИ [c.78]

Для выбора оптимального фокусного расстояния были проведены исследования с проволочными эталонами. Так, для 1г были выбраны сЬокусные расстояния, равные соответственно 50. 70, 100, 140 и 175 см, для и Соб —50, 70, 100 и 150 см. [c.88]

С увеличением фокусного расстояния четкость изображения на пленке повышается, а следовательно, повышается и качество снимка. Однако вместе с увеличением фокусного расстояния возрастает время экспозиции, потому что интенсивность рентгеновых и гамма-лучей уьюньшается обратно пропорционально квадрату расстояния от источника лучей до поверхности рентгеновской пленки. С уменьшением фокусного расстояния четкость изображения понижается. Последнее ясно из схемы фиг. 70, откуда видно, что крайние лучи а проникают через меньшую толпщну при -фокусном расстоянии I по сравнению с крайними лучами б при фокусном расстоянии К. Вследствие этого интенсивность лучей, попадающих на пленку, будет разная в центре почернение снимка будет больше, нежели по краям, а следовательно, и чувствительность к выявлению пороков по мере удаления от центра пленки понижается. Практически для повышения качества снимков рекомендуется применять большие фокусные расстояния. Наиболее оптимальными фокусными расстояниялш являются I = 500—600 мм. [c.114]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...