Фокусирующая система

Не менее распространен астигматизм, связанный с асимметрией фокусирующей системы. Классической демонстрацией, иллюстрирующей аберрацию подобного рода, служит фокусировка пучка цилиндрической линзой — две фокальные линзы оказываются сильно разведенными (в пределе астигматическая разность для цилиндрической линзы равна бесконечности). Нетрудно показать, что даже незначительные отклонения от сферы при изготовлении фокусирующей оптики неизбежно приводят к астигматизму. Таким образом, сведение астигматизма к минимуму является трудной задачей, требующей тщательного кон- [c.329]

Поле фокусирующего преобразователя. Фокусирующие системы применяют для повышения разрешающей способности, чувствительности (особенно на фоне структурных помех), точности определения координат и размеров дефектов. Разработаны фокусирующие преобразователи различных типов (см. подразд. 3.5). Рассмотрим лишь сферический активный концентратор, так как другие фокусирующие системы могут быть сведены к нему, если рассматривать сходящийся волновой фронт вблизи фокусирующей поверхности как поверхность излучателя, [c.89]

Фокусирующие системы применяют для повышения разрешающей способности, чувствительности (особенно на фоне структурных помех), точности определения координат и размеров дефекта. Принципы фокусировки и основные расчетные соотношения приведены в подразд. 1.3. Существуют четыре основных типа фокусирующих систем [46] активные концентраторы, рефракторы, рефлекторы и дефлекторы. [c.171]

Одна из отечественных установок модели Катунь выполнена по линейной схеме [5]. Это многоцелевая установка, предназначенная для резки, сварки, термообработки с целью упрочнения различных материалов. В основе ее лежит СОд-лазер непрерывного излучения мощностью до 800 Вт. С помощью фокусирующей системы излучение фокусируется на пятне диаметром 0,6—0,8 мм. Перемещение луча относительно заготовки осуществляется с помощью системы с программным управлением. [c.43]

Согласно геометрической оптике пятно фокусирующей системы представляет собой точку, в которую сходятся все лучи лазера. Однако волновая оптика показывает, что из-за волновой природы света фокальное пятно занимает некоторый объем, имеющий конечные размеры. Кроме того, вследствие присущих любой оптической системе аберраций также происходит увеличение размера фокального пятна. По этим причинам фокальное пятно получается не только увеличенным в диаметре, но и вытянутым вдоль оси оптической системы и характеризуется глубиной фокуса d (рис. 54). Таким образом, выбирая оптическую систему для фокусирования лазерного луча, необходимо учитывать зависимость между двумя ее параметрами — размером сфокусированного пятна и глубиной [c.87]

Установка для резки профильного стекла. Прибор предназначен для направленного локального ослабления прочности стекла под воздействием сфокусированного излучения СО 2-лазера с целью последующего механического разламывания по заданному прямолинейному контуру. Установка снабжена двумя отпаянными СО 2-лазерами мощностью в непрерывном режиме 25 Вт каждый и двумя подвижными фокусирующими системами, перемещающимися в одной плоскости вдоль направления реза. Это позволяет производить резку по двум противоположным плоскостям профильного стекла в виде прямоугольного короба, швеллера, волнистого сечения, а также листового стекла в процессе непрерывного производства. [c.314]

Рис. 7. Упрощенная схема блока для электроннолучевой сварки 1 — свариваемый узел 2 - вакуумная камера 3, 4 — отклоняющая и фокусирующая системы соответственно 5 — анод 6 — катод 7 — свар-ной шов

Конструкция анализатора с задерживающим потенциалом и полусферическим коллектором представлена на рис. 2.15 [119]. Основные детали анализатора — анод (4) с зондовым отверстием диаметром 1 мм с нанесенным на анод слоем люминофора, фокусирующей системы, цилиндра Фарадея (9), полусферического коллектора (8). Коллектор (8) изготовлен из молибдена в виде полусферы с большой точностью и чистотой обработки поверхности. Это необходимо для увеличения разрешения анализатора. Фокусирующая система состоит из трех диафрагм. Роль первой диафрагмы выполняет анод (4) со входным отверстием диаметром 1 мм. Вторая диафрагма (5) имеет отверстие диаметром 2 мм. Третьей диафрагмой является крышка цилиндра Фарадея (6) с отверстием диаметром 4 мм. Диафрагмы изготовлены из молибдена и закреплены с помощью стеклянных бусинок (7). [c.85]

ЛГ — смещение фокуса фокусирующей системы в глубь материала, [c.24]

Рис. 1. Лампа бегущей волны а — типа О 6 — типа М, плоская конструкции 1 — электронная пушка 2 — замедляющая система 3 — фокусирующая система 4 — коллектор.

Неустойчивые О. р. с вращением поля образуются де- фокусирующей системой зеркал, расположенных в вер- шинах неплоского многоугольника. Однако наиб, важ- ны О. р., образуемые двумя двугранными уголковыми отражателями (рис. 10), рёбра к-рых развёрнуты друг относительно друга на угол , Еслп одна или неск. гра- ней отражателей являются выпуклыми, то О. р. не- [c.457]

Структура периода фокусирующей системы. . , Бетатронная частота......................... [c.531]

Системы фокусировки и фокусирующие элементы. В реальных установках возможно одноврем. применение разл. методов Ф. Совокупность фокусирующих устройств наз. системой Ф., а сами эти устройства — фокусирующими элементами. В совр. фокусирующих системах ускорителей и накопителей высокой энергии чаще всего применяется Ф. магн. полем со знакопеременным градиентом, а наиб, распространенным фокусирующим элементом является электромагнитная квадрупольная линза, у к-рой индукция магн. поля линейно зависит от поперечных координат. Такие линзы могут быть как с т. н. тёплой обмоткой (рис. I). так и со сверхпроводящей. Ли- [c.333]

До недавнего времени считалось, что когерентность излучения не важна для термической лазерной технологии. В настоящее время эта точка зрения коренным образом меняется. Во-первых, взаимодействие когерентного лазерного излучения с поверхностью может сопровождаться образованием различных поверхностных электромагнитных волн, которые уже сейчас можно использовать для создания периодических поверхностных структур. Во-вторых, в последнее время среди технологических лазеров все более широкое распространение получают так называемые многолучевые или многоканальные лазерные системы, представляющие из себя набор большого ( 10...10 ) числа пространственно разнесенных лазеров, параллельные пучки которых собираются на обрабатываемом изделии в одно пятно с помощью фокусирующей системы. При сложении двух гармонических колебаний, в том числе и электромагнитных, с одинаковой частотой и разными амплитудами i и 2 и фазами ф1 и ф2 образуются гармонические колебания той же частоты с амплитудой [c.59]

Какова роль фокусирующей системы электронно-лучевой пушки [c.254]

Технологические параметры. Параметрами режима ЭЛО являются ток луча 1, ускоряющее напряжение и, ток фокусирующей системы /ф (определяющий диаметр электронного пучка с/), рабочее расстояние (фокусное расстояние от центра фокусирующей системы до поверхности детали), скорость перемещения электронного луча относительно изделия п. [c.615]

Трубка алектроннолучевая с магнитной фокусировкой — ЭЛТ, в которой для фокусировки электронного луча используется магнитное поле преимущество — расположение фокусирующей системы вне трубки и низкое напряжение, необходимое для работы фокусирующей системы [3, 4 ]. [c.162]

Для юстировки оптических элементов системы и определения положения фокальной плоскости фокусирующей системы предусмотрено использование гелийнеонового лазера. В табл. 6 приведены отличительные характеристики одно-, двух- и трехмодульных установок. [c.45]

Непериендикулярность канала к обрабатываемой поверхности может возникать по нескольким причинам, и прежде всего из-за того, что нормаль к поверхности не совпадает с геометрической осью фокусирующей системы, а также из-за наклонного падения лазерного луча на фокусирующий объектив. В этих случаях причины очевидны и легко устраняются настройкой оптической системы и обрабатываемой заготовки. [c.148]

Потенциалы на линзах были рассчитаны на ЭВМ с целью оптимизации траекторий движения в замедляюще-фокусирующей системе анализатора. Расчетные значения потенциалов = 0,11, [c.86]

Вогнутая Д. р. У вогнутых Д. р. штрихи нанесены на вогнутую (обычно сферическую) зеркальную поверхность. Такие решётки выполняют роль как дисиер гирующей, так и фокусирующей системы, т. с. не требуют применения в спектральных приборах входного и выходного коллнматорных объективов или зеркал, в отличие от плоских Д. р. При этом источник света (входная щель 5j) и сиектр оказываются расположенными на окружности, ]1асательной к решётке в её вершине, диаметр окружности равен радиусу кривизны R сферич. поверхности Д. р. (рис.. 5). Этот круг наз. [c.659]

В 40-х гг. был разработан промышленный эл.-магн. способ разделения изотопов урана (см. Изотопов разделение). Для этой цели нужно было иметь сильноточные ионные пучки с достаточно высокими оптич. характеристиками (малым фазовым объёмом). В качестве фокусирующей системы использовалось квазиодно-родное поперечное магн. попе. В таком сепараторе объёмный заряд быстрых ионов практически компенсирован холодными электронами, возникающими при столкновении ионов с атомами остаточного газа. Образующиеся при этом медленные ионы выталкиваются небольшим положит, зарядом пучка на стенки камеры. Т. о., здесь реализуется также н газовая фокусировка, для к-рой требуется некое оптимальное давление в камере. [c.614]

Рис. 3. Схема спектрального прибора с прос 1ранственньш разделением длин волн с помощью угловой дисперсии 1 — коллиматор с входной щелью Щ и объективом О1 с фокусным рас-сюннием 2 — диспергирующий элемент, обладающий угловой дисперсией Аф/ДА. 3 — фокусирующая система (камера) с объективом 0 создающим в фокальной плоскости Ф изобра-и еиия входной щели в ивлучении разных длин волн с линейной дисперсией Лх/АЯ.

В АЭСА применяются в осн. спектральные приборы с фоторегнстрацней (спектрографы) и фотоэлектрич. регистрацией (квантометры). Излучение исследуемого образца направляется на входную щель прибора с помощью системы линз, попадает на диспергирующее устройство (призма или дифракц. решётка) и после моно-хроматизации фокусируется системой линз в фокальной плоскости, где располагается фотопластинка или система выходных щелей (квантометр), за к-рнми установлены фотоэлементы или фотоумножители. При фоторегистрации интенсивности линий определяют по плотности почернения 8, измеряемой микрофотометром [c.617]

Течения квазинейтральных плазменных потоков а плазмооптических системах, таких как эл.-магн, сепараторы, магн. отклоняющие и фокусирующие системы, плазменные линзы, магнитоэлектрич. плазмоводы и сепарирующие системы, зет-пинчевые фокусирующие системы, [c.112]

При Ф. 3, осуществляется усиление звукового давления р, колебат. скорости частиц v и интенсивности звука I. Соответствующие коэф. усиления Кр, К , Ki показывают, во сколько раз возросли величины р, и или I в фокусе по сравнению с их значениями на поверхности волнового фронта фокусирующей системы. Для сферич. фронта K p = (fjX)sm w l2), для цилиндрич, фронта K ji = JfjX2v3 . В обоих случаях Ki = KpK nK],. [c.332]

Ф-ция p(j) периодична (с периодом фокусирующей системы). Изменение на длине орбиты, делённое на 2п. определяет число бетатронных колебаний на оборот. Траектория x(s) на каждом периоде колебаний пересекается с косинусоидной траекторией, у к-рой фаза меняется на ц при прохождении элемента периодичности системы (рис. 2). Отсюда видно, что в устойчивой периодич. фоку- [c.334]

В ЭО и ИО кроме осесимметричных используются линзы с Др. видами симметрии. Цилиндрич. линзы и электронные зеркала формируют линейные изображения точечных предметов, т. к. в ряде аналитич. приборов фокусировка нужна только в одной плоскости. В этих случаях применяют также трансаксиальные фокусирующие системы. Линзы с неск. плоскостями симметрии—квадрупольн. и ок-тупольные — применяются в ускорителях для фокусировки частиц больших энергий. Они же используются для коррекции приосевого астигматизма осесимметричных линз, в к-рых в недостаточной степени выдержана осевая симметрия. Секступольные линзы в сочетании с квадруполь- [c.548]

Наиб, распространение получили ЭОП с электростатич. фокусировкой, у к-рых изображение переносится неоднородным осесимметричным электростатич. полем — по.г(ем электронной лииэы. В этих ЭОП поле иммерсионной (катодной) линзы формируется между фотокатодом и анодом, выполняемым обычно в виде усечённого конуса, обращённого меньшим основанием к катоду потенциал анода равен потенциалу экрана, расположенного непосредственно за анодом. Линза собирает электроны, испускаемые каждой точкой фотокатода, в узкие пучки, к-рые на экране создают светящееся изображение, геометрически подобное изображению, проецируемому на катод. ЭОП с фокусирующими системами создают достаточно хорошие изображения с разрешением в неск. десятков пар линий/мм. Линза переносит изображение с уменьшением в неск. раз, что увеличивает яркость свечения экрана в >10 раз наличие анодного электрода с небольшим отверстием со стороны катода заметно уменьшает оптич. обратную связь, экранируя катод от засвечивания излучением экрана. [c.563]

При реальных для большинства технологических лазеров значениях 0 рад и Л 10 оптимальное фокусное расстояние фокусирующей системы составит fopt (3...10)Ь . [c.71]

Весьма важным для технологического применения является обеспечиваемая фокусирующей системой глубина резкости пучка, т. е. размер перетяжки пучка в направлении его распространения. Как видно из приведенных на рис. 2.6 типичных экспериментальных данных, профиль лазерного пучка вблизи фокальной плоскости линзы существенно зависит от наличия аберрационных эффектов. При F Fofi, когда аберрацией можно пренебречь, перетяжка симметрична (кривая 1) и под ее длиной можно подразумевать длину бл , в пределе которой размер геометрически сходящегося пучка остается меньше его реального размера в фокальной плоскости, т.е. [c.72]

Анод выполняют в виде диаграммы с отверстием, причем анод заземлен, а катод изолирован. Между катодом и анодом прилагается основное разгоняющее напряжение до 30 кВ. Ниже анода располагается трубка лучепровода, вокруг которой расположена фокусирующая система, собирающая пучок электронов в узкий луч и фокусирующая его на нагревательном объекте. Далее следует отклоняющая система, направляющая луч в любое место заготовки или разворачивающая луч по определенной траектории, например по кругу, спирали Архимеда и т. п. Отклоняющая и фокусирующая системы представляют собой электромагнитные катушки, создающие управляемое магнитное поле. Взаимодействие магнитного поля с электронным пучком оказывает нужное воздействие на пучок. Для нагрева и проплавления шихты равномерно распределяют энергию пучка по нагреваемому концу заготовки или по шихте, загруженной в тигель. [c.203]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...