Маска, метод

Сильно уменьшенное и размноженное изображение маски методом обычного контактного копирования переносится на чувствительный слой, нанесенный на кремниевый электронный элемент. В случае изготовления таким образом большого числа копий (от десятков до сотен) исходная маска теряет свои свойства. [c.189]

Первый метод цифрового кодирования был положен в основу построения голографических датчиков положения, размеров и формы объектов с корреляционной обработкой измерительной информации, а второй метод — в основу построения датчиков с голограммой кодовой маски. Рассмотрим более подробно принцип построения и функционирования. этих датчиков. [c.89]

Вместе с развитием БОВ стали создавать и совершенствовать методы защиты. Для защиты от хлора и фосгена появились первые фильтрующие противогазы, представляющие простейшие марлевые многослойные влажные повязки, затем влажные маски с очками, пропитанные специальными растворами [78, с. 131—136, 140]. С появлением других, более мощных БОВ влажные маски стали непригодными. [c.432]

При втором методе, получившем название проекционного, обрабатываемое отверстие повторяет форму лазерного луча, которому с помощью оптической системы можно придать любое сечение. Проекционный метод сверления отверстий имеет некоторые преимущества по сравнению с первым. Так, если на пути луча поставить диафрагму (маску), то таким образом можно срезать периферийную его часть и получить относительно равно- [c.144]

В ФРГ на фирме IBM [202] разработан лазерный метод печатания цифр на тонких пластинках кремния и феррита. При этом используется лазер, излучение которого через маску и оптическую систему проектируется на поверхность образца, и производится испарение поверхностного слоя материала без разрушения последнего. [c.154]

Проекционный метод заключается в том, что поверхность пленки совмещается с плоскостью изображения маски. При контурно-лучевом методе рисунок воспроизводится в результате относительного перемещения сфокусированного на поверхность пленки светового пучка. Контурно-проекционный метод представляет собой комбинацию первых двух проекционного для получения изображения отдельного элемента и контурно-лучевого для воспроизведения всего рисунка в целом. [c.158]

Методы ЖФЭ основаны на кристаллизации из раствора в расплаве и различаются в зависимости от способа удаления раствора с поверхности плёнки [простым сливом (рис. 4, а), принудительным удалением (рис. 4, 6) и без удаления]. ЖФЭ можно проводить при относительно невысоких темп-рах (400 — 500 С). ЖФЭ позволяет получить многослойные эпитаксиальные структуры и плёнки определённой конфигурации (с помощью маски из SiO ). [c.621]

Недостатком метода пайки погружением в расплавленный припой и волной является расходование большого количества припоя. Кроме того, при погружении деталей в припой неизбежно облуживание всей поверхности деталей. Для уменьшения расхода припоя на поверхности деталей, не подлежащих пайке, наносят различные покрытия, маски из эпоксидных смол, эмалей и другие минеральные и органические покрытия. [c.536]

Пример аналогии между дифракцией рентгеновских лучей на кристаллах и первой стадией формирования оптического изображения решетчатого объекта показан на рис. 5.7. На рис. 5.7, а изображена часть оптической маски, представляющей собой двухмерную проекцию кристаллической структуры фталоцианина на рис. 5.7,6 показана оптическая дифракционная картина, создаваемая ею [10]. Рис. 5.7,6 согласуется с данными рентгеновских исследований не только в отношении геометрии расположения пятен но и по соответствию экспериментально наблюдаемой рентгеновской интенсивности картине на рисунке. Исторически этот метод вначале применялся для определения неизвестной кристаллической структуры путем изготовления пробных масок на основе химических и других соображений. Он был существенно упрощен при дальнейшем развитии техники (см. конец раздела 2), когда было показано, что основная ячейка и только три периода вполне достаточны в качестве маски, поскольку они определяют структуру, на которой основана двухмерная проекция кристалла. Это иллюстрируется рис. 5.6, где в случае в в качестве маски было использовано большое число повторов (намного больше, чем показано на рисунке) основной ячейки, тогда как в случае д было использовано только четыре ячейки, определяющих структуру кристаллической решетки. Сравнение оптических преобразований показывает, что д вполне достаточно в сравнении сев данной выборке преобразования одной ячейки б на узлах взаимной решетки (преобразование) от основной решетки а. [c.99]

Изготовление ДОЭ со ступенчатым профилем стало возможным в результате применения методов фотолитографии, разработанных и доведенных до определенной степени совершенства в микроэлектронной промышленности [12]. При этом под фотолитографией понимают технологию создания и копирования бинарных структур, применяемую в производстве интегральных схем. Многократно повторяемый этап их изготовления состоит в следующем. На кремниевую пластину наносят слой светочувствительного материала — фоторезиста, который экспонируют контактным или проекционным образом через заранее изготовленную бинарную амплитудную маску, называемую фотошаблоном, а затем проявляют в травящем растворе. В зависимости от типа (позитивный или негативный) фоторезист растворяется на экспонированных или, наоборот, неэкспонированных участках, в результате чего на пластине образуется защитный слой со сквозными окнами. Через эти окна осуществляют ту или иную технологическую операцию трав/ ение, напыление и т. д., после чего фоторезист удаляют и весь цикл повторяют снова (до 8—10 раз). При этом на последующих стадиях при экспонировании фоторезиста, кроме всего прочего, необходимо совмещать рисунок фотошаблона с имеющейся на пластине структурой. Подчеркнем также, что в результате проведения не- [c.200]

Как пример интересного применения метода оконтуривания изображений можно рассматривать и методику выявления дефектов фотолитографических масок, предложенную в [9.154]. Она основана на том простом факте, что собственный пространственный спектр идеальной маски (благодаря ее периодичности по обеим координатам) представляет собой набор ярких дискретных пиков. В то же время пространственный спектр дефекта из-за нерегулярности последнего слаб по интенсивности и более или менее равномерно размазан по фурье-плоскости. При выполнении соответствующих условий в процессе нелинейной записи фурье-голограммы тестируемой маски имеется возможность эффективного подавления участков голограммы, отвечающих ее периодическим элементам. В результате считывания такой голограммы произойдет как бы относительное усиление нерегулярного изображения дефектов. Укажем, что эксперименты подобного типа в [9.154] были выполнены в кристаллах BSO во внешнем постоянном поле на длине волны аргонового лазера (X = 514 нм). [c.264]

Эти результаты приводят к выводу, что даже в случае очень малых предметов нелегко достичь высокой степени чистоты воспроизведения, так как побочная интенсивность пропорциональна корню квадратному из площади предмета. Однако в случае малых предметов становятся пригодными специальные методы, позволяющие очень эффективно исключать побочные амплитуды. Первый из них заключается в наложении маски на геометрическую тень в голограмме. Во втором методе маскируется фон в процессе восстановления. [c.243]

При окрашивании методом пневматического распыления внутренних поверхностей вагонов, автобусов, цистерн и других изделий необходимо предусматривать в них не менее двух проемов (люков) с противоположных сторон один —для вытяжки, другой— для подсоса свежего воздуха. Скорость подсасываемого воздуха в проеме не должна превышать 7 м/с. Окрашивание поверхности изделия следует начинать со стороны проема (люка) для вытяжки воздуха. При этом рабочему необходимо пользоваться средствами индивидуальной защиты с подачей воздуха под маску (респираторы РМП-62 и ДПА-5). [c.55]

В первом методе используется монохроматор, в плоскость спектра которого попеременно устанавливаются три спектральные маски, представляющие собой диафрагмы определенной формы (рис. 1.4.12). С их помощью спектральная чувствитель- [c.44]

Проблема создания слоя фотополимера равной толщины и проецирования изображения маски в фотополимерный слой при изготовлении ДОЭ с апертурой от 40 до 100 мм была решена с помощью контактного метода. Структура многоуровневого сандвича для формирования микрорельефа ДОЭ представлена на рис. 4.41. [c.275]

Непрерывная сварка по трафарету (с помощью маски). Метод был разработан фирмой Leister Pro ess Te hnologies. Между источником излучения и свариваемыми деталями помещают трафарет. Лазерный луч, направленный через диафрагму или сведенный в плоский пучок, перемещается вдоль соединяемой поверхности деталей и падает на них в местах, которые не затенены трафаретом. Трафарет позволяет проецировать очень мелкие структуры с размерами порядка нескольких микрометров. Поэтому сварка по трафарету позволяет достичь очень высокой разрешающей способности. Этим методом можно изготовить самые разнообразные по форме швы, например, прямолинейные или криволинейные швы различной ширины и все за одну операцию. Основные характеристики сварки по трафарету следующие [c.417]

Особый интерес представляют разнообразные методы маскирования — резкая и нерезкая маски, метод синежелтого тонирования изображения. Последний метод отличается простотой и доступностью, а по эффективности не уступает более сложным методам маскирования. Все эти приемы предоставляют широкие возможности видоизменения изображения и достижения разнообразных [c.6]

Источник 1 через конденсор осве-щаш сетку 3 (например, прозрачный штрих на темном фоне), которая зеркалом 4, линзой 5 и объективом 7 фокусируется на объект 8. Автокол-лнмационное отражение маски в плоскости сетки 9 наблюдается в окуляр /О, в случае неточной фокусиропки раздваивается. Это позволяет в качестве критерия фокусировки использовать кониальное или биссекторное совмещение штрихов. Точность метода по- [c.76]

Трафаретное маскировв нне 12 60 Разрешение метода, точность совмещения маски с пластиной [c.457]

Оптическая схема проекционного метода сбработки поверхности изображена на рис. 95 [202], Лазерный луч освещает металлическую маску, в которой выполнены фигурные отверстия, проектируемые с помощью объектива на обрабатываемую поверхность. Маска выполнена в виде диска из молибдена диаметром 76 мм и толщиной 0,1 мм. В диске по периметру нанесены цифры от О до 9, которые путем поворота диска могут в нужном порядке устанавливаться на оси оптической системы и проектироваться на поверхность кремниевой пластины. Применялись лазеры рубиновый, неодимовый, стеклянный и ИАГ. Первые два имеют одни и те же характеристики, кроме волны излучения, которая составляет 0,6943 мкм для рубинового и 1,06 мкм для неодимового лазера. Их выходная энергия может составлять несколько сотен джоулей. При энергии 20 Дж они могут обеспечивать частоту повторения импульсов 1 Гц, а ИАГ-лазер работает также на длине волны 1,06 мкм, но при энергии около 2 Дж имеет частоту следования импульсов 10 Гц и выше. [c.155]

РЕНТГЕНОВСКАЯ ЛИТОГРАФИЯ — метод микроэлектронной технологии, заключающийся в формировании с субмикроявым разрешением защитной маски заданного црофиля на поверхности подложки осуществляется при помощи ревтг. излучения длиной волны Я 0,4—5 нм один из методов микролитоерафии. [c.344]

Другим распространенным методом является модуляция светового пучка некоторой структурой, имеющей функцию пропускания с четко выраженной периодичностью (например, растр или дифракционная решетка). Дискретность характеристики преобразования этого метода очевидна, причем входная величина (вибропере-мещение) квантуется по уровню. Сопряжением параллельных растров получают ком-очнациониые (муаровые или нониусные) полосы. В этом случае малому перемещению "ОДвижного растра соответствует значительное перемещение комбинационных по- ос. Разновидностью подобных преобразователей являются кодовые маски, позволяющие передавать информацию о линейном или угловом перемещении в параллель-1 ом я-разрядном цифровом коде, что дает возможность непосредственно сопрягать такие преобразователи с каналами цифровой обработки и регистрации. [c.125]

Работу компрессора можно усовершенствовать, используя метод спектральной фильтрации [24], в котором для селектирования спектра импульса рядом с зеркалом М, на рис. 6.2 помещается соответствующая диафрагма. Метод спектральной фильтрации достаточно мощен [63-65], его можно использовать не только для того, чтобы улучшить работу волоконно-решеточных компрессоров, но и для того, чтобы управлять формой импульса, модифицируя спектр внутри компрессора. Это возможно, так как пара решеток пространственно разделяет спектральные компоненты, и их можно модифицировать (как по амплитуде, так и по фазе), используя маски, расположенные у зеркала М, на рис. 6.2. Метод спектральной фильтрации рассмотрен в следующем подразделе. [c.159]

Один из новых и весьма привлекательных методов извлечеиия признаков опознаваемого объекта состоит в вычислении статисти- ческих моментов [228]. В оптической системе, реализующей этот метод рис. 5.12), исходное изображение f(x, у) проецируется на маску с пропусканием g x-, у) и результирующее произведение интегрируется по пространственным координатам. На выходе од-ноэлементного фотоприемника появляется сигнал, пропорциональный величине f x-, y)g x-, y)dxdy. Если пропускание маски имеет вид одночлена g x у) х у", то сигнал фотоприемника представляет собой один из геометрических моментов входного изображения. Использование голографической маски позволяет [c.276]

Нетрудно заметить, однако, что проведенный Аббе эксперимент был гораздо шире первоначальной теории и сводился не столько к проверке разрешающей способности микроскопа, сколько к проверке возможности синтеза произвольного изображения посредством управления параметрами волнового поля. Впервые этот вывод из теории Аббе был отчетливо сформулирован немецким физиком X. Боршем, который предложил полностью отказаться от использования каких-либо объективов и формировать изображения заданных объектов, воссоздавая в некоторой плоскости соответствующее им распределение волнового поля [7]. Модулируя поле плоской волны маской, в которой была просверлена заранее рассчитанная система отверстий, я вводя фазовые сдвиги в излучение с помощью тонких слюдяных пластинок, X. Борш осуществил синтез изображений решеток некоторых кристаллов. В дальнейшем эта методика была усовершенствована в Англии У. Брэггом, который предложил получать такие маски фотографическим путем [8]. Однако методы X. Борша и У. Брэгга можно было использовать только для синтеза изображений простейших объектов обычно это были кристаллы с определенной симметрией. Усложнение объекта вело к необходимости расчета и воссоздания чрезвычайно сложной картины распределения амплитуд и фаз, что было невозможно осуществить имеющимися в то время методами. Основной результат этих работ заключался в том, что они явились основой, на которой был разработан голограммный метод Габора. [c.46]

Важную роль как предшественники голографии сыграли работы Брэгга [4—6] в рентгеновской микроскопии и еш,е раньше работы Вольфке [36]. Исследования Брэгга были связаны также с получением полной записи рассеянного волнового поля от объекта, а именно от кристалла, облученного рентгеновскими лучами. Как и голография, метод Брэгга представлял собой двухступенчатый дифракционный процесс. Зафиксированное на фотопленке рентгеновское излучение, рассеянное кристаллом, использовалось затем для восстановления аналогичной волновой картины в видимом свете. Брэгг, как и Вольфке, рассматривал кристалл в виде трехмерной периодической структуры следовательно, если кристалл освещается плоской волной, то в соответствии с правилами брэгговской дифракции в каждый момент времени создается только одна составляющая (пространственная частота) дифрагированной волны. С точки зрения теории это различие непринципиально. В любом случае необходимо записать фазу и амплитуду, однако детекторы позволяют регистрировать лишь амплитуду. В методе Брэгга кристалл выбирался такой симметрии, что дифракционная картина (фурье-образ) в дальнем иоле, создаваемая точками объекта, становилась вещественной, т. е. лишенной какой-либо фазовой модуляции. Кроме того, исследуемые кристаллы имели в центре ячейки тяжелый атом, что обеспечивало смещенный фон, в результате чего фурье-образ представлял собой не только вещественную, но и положительную величину. Таким образом, достаточно было измерить только амплитуды плоских волн, соответствующих фурье-компонентам. Брэггу оставалось лишь, после того как он записал амплитуду волны, сконструировать маску с отверстиями, расположение и размер которых соответствовали бы значениям фурье-компонент. При освещении маски когерентным светом формировалась бы дифракционная картина дальнего поля, представляющая собой изображение атомной структуры кристалла. Эти исследования были продолжены Бюргером [7] и Бёршем [3], выполнившими аналогичные эксперименты в ФРГ. [c.13]

На рис. 1 приведена типичная схема записи голограмм этим методом. Маска, перемещаемая в трех направлениях по осям х, у п z, содержащая линзу, освещается коллимированным пучком света, оптическая разность хода которого согласуется с опорным пучком для обеспечения достаточной когерентности. Линза формирует изображение точки, которое для записываемой голограммы является точечным объектом. Положение этого точечного объекта в пространстве X, у, Z точно отслеживается положением маски, пока линза не выходит за пределы апертуры освещающего пучка. Иногда к маске приходится прикреплять держатель небольшого рассеивателя, расположенного в фокусе линзы. Это приводит просто к увеличёнию [c.225]

В более сложных голографических устройствах того же результата можно добиться и с одной голограммой. Если две экспозиции осуществить опорными пучками с углами падения, отличающимися на величину, не настолько большую, чтобы после восстановления происходило перекрытие со вторичным изображением, то изображениями, восстановленными двумя восстанавливающими пучками, можно манипулировать относительно друг друга, изменяя геометрию восстановления 1421. Такой вид интерферометрии, в котором применяются полосы разных несущих пространственных частот, является лишь одним из нескольких видов голографического пространственного мультиплицирования, которыми можно пользоваться. Для записи двух голограмм можно также применять пространственно дополняющие друг друга маски, а при восстановлении для освещения нужных участков голограммы раздельными пучками можно использовать цветные или поляризационные маски. Однако среди методов, обеспечивающих раздельную запись и восстановление двух изображений, сандвич-голография является наиболее простой как на стадии изготовления голограмм, так и при последующей манипуляции изображениями. [c.547]

Рис. 18. Принцип метода тета-модуляции [4]. а — полутоновый объект б — этот же объект после тета-модуляции в — дифракционная картина тета-модулиро-ванного объекта с — применение тета-модуляции к объекту, который затем демодулируется двумя различными масками.

На рис. 1 приведена схема, иллюстрирующая основную идею некогерентных методов мультиплицирования изображений. При точечном освещающем источнике в выходной плоскости формируется изображение периодической маски (ПМ). Если освещающим источником является входное изображение, то на выходе наблюдается множество копий входного изображения — по одному изображению для каждой точки периодической маски. Читатель понимает, что слово некогерентный в действительности вводит в заблуждение, поскольку метод требует пространственной когерентности света на периодической маске. Этот метод подробно обсуждается Томпсоном [6]. [c.662]

Этим двум методам присущи два основных недостатка. Во-первых, в выходном изображении имеет место конкуренция между яркостью и разрешением. Чтобы получить хорошее разрешение, маска должна иметь очень маленькие отверстия, а чтобы иметь хорошее пропускание, отверстия должны быть большие. Во-вторых, очень трудно получить N изображений с одинаковой яркостью. Эти проблемы голографического мультиплицирования изображений требуют своего решения. [c.663]

Во втором методе когерентный фон, т. е. первичная волна, подавляется после того, как она пройдет голограмму. Это может быть сделано следующим образом. С помощью восстанавливающей линзы создается действительное изображение точечного источника (рис. 1), которое экранируется расположенной в этой точке маленькой черной маской, предпочтительно гауссовой маской. Эта схема подобна той, которая используется в хорошо известном шлирен-методе. В результате, если пренеб- [c.243]

В данном случае можно применить для процесса обработки метод масок маску устанавливают под конденсаторной линзой на подвижном столике — теневое изображение маски в уменьшенном масштабе проектируется формирующей линзой на обрабатываемую деталь. С помо- [c.86]

В настоящее время для формирования дифракщюнного микрорельефа апробировано и отлажено множество технологий с использованием самых разнообразных (физически, химически, механически) активных сред фокусируемых электронных и ионных пучков, газов, кислот, резистов, полимерных композиций, алмазных резцов. При этом различные технологии требуют создания различных шаблонов наборов бинарных масок для фотолитографии, полутоновых фотошаблонов для ЖФПК и отбеливания желатины, тонко-мембранной пленки для рентгеновской литографии или маски-трафарета для использования ионно-лучевой литографии. При использовании полутоновых шаблонов и соответствующих технологий формирование кусочжо-непрерывного Ешкрорельефа происходит в один этап (методы формирования кусочно-непрерывного рельефа рассмотрены в п. 4.4). При использовании набора бинарных шаблонов и соответствующих бинарно-активных сред для получения многоуровневого рельефа, процесс, показанный на рис. 4.3, приходится повторять несколько раз, перебирая по очереди все шаблоны из набора. Для ряда современных технологий (электронная литография, станки с ЧПУ) изготовления физически существующего шаблона (или набора шаблонов) не происходит в этих случаях формирование микрорельефа происходит на основе рассчитанного виртуального шаблона. [c.241]

Рис. 4.64, Экран программного обеспечения Iter-DOE с поясняющими комментариями (на примере расчета фазового ДОЭ, фокусирующего в кольцо) 1 — радиальное сечение падающего света 2 — окно параметров (тип падающего света, длина волны, радиусы коль-ца, тип начальной фазы, тип итеративного метода и т.д.) 3- - окно протокола (входные параметры, отклонение и эффективность на каждой итерации и т.д.) 4 — рассчитанная фаза (20-маска и радиальное сечение) 5 — распределение интенсивности в плоскости фокусировки (2В-картина и радиальное сечение)

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...