Пушка магнитная

Прочность космических аппаратов 573 Пульсация давления в камере 455 Пушка магнитная 550 [c.724]

В установках для электронно-лучевой сварки электроны, испускаемые катодом I электронной пушки, формируются в пучок электродом 2, расположенным непосредственно за катодом, ускоряются под действием разности потенциалов между катодом и анодом 3, составляющей 20. .. 150 кВ и выше, затем фокусируются в виде луча и направляются специальной отклоняющей магнитной системой 5 на обрабатываемое изделие б. На формирующий электрод 2 подается отрицательный или нулевой по отношению к катоду потенциал. Фокусировкой достигается высокая удельная мощность луча (5 10 кВт/м и выше). Ток электронного луча невелик - от нескольких миллиампер до единиц ампер. [c.243]

Плотность тока в луче можно регулировать, меняя диаметр фокусного пятна на изделии без изменения значения общего тока, используя магнитную линзу. Такая линза представляет собой катушку с током, ось которой совпадает с осью луча. Для повышения эффективности работы ее помещают в ферромагнитный экран. В этом случае магнитное поле концентрируется в узком немагнитном зазоре. Фокусное расстояние линзы - расстояние от середины этого зазора до минимального сечения прошедшего сквозь линзу пучка - определяется конструкцией линзы, анодным напряжением пушки и током, протекающим по обмотке линзы. [c.197]

Возможность передвижения луча при неподвижном катоде позволяет создать совершенно новые сварочные устройства, отличающиеся простотой конструкции. Использование электромагнитного управления лучом дает возможность осуществить установки для сварки электронным лучом теплообменников при вварке трубок в трубные доски, путем создания перемещающейся над изделием электронной пушки, в которой электронный луч передвигается по окружности под действием магнитного поля. [c.65]

Рис. 6.10. а — схематическое изображение ЛБВ 1 — электронная пушка 2 — электронный пучок 3 — спираль 4 — коллектор 5, 6 входное и выходное устройство Я — фокусирующее магнитное поле 6 - рисунок, поясняющий в рамках механической модели процессы группирования электронов в бегущей [c.186]

Б электронно-оптической трубке (рис. 183) находится источник электронного луча 1, так называемая электронная пушка, импульсный генератор 2, электромагнитное регулирующее уст- ройство 3, магнитно-фокусирующая линза 4 и электромагнитное отклоняющее устройство 5. [c.329]

Широкое применение в СССР получили двухкамерные печи с многопушечными электроннолучевыми радиальными нагревателями. На рис. 7 показана схема электроннолучевой печи, разработанной институтом электросварки им. Е. О. Патона. Источником электронов в этой печи является электронная пушка, состоящая из термокатода, фокусирующих электродов и магнитной системы фокусирования и отклонения электронов. Нагреватель состоит из 6—10 небольших электронных пушек 12, испускающих вниз пучки электронов. Пучки электронов электромагнитами 11 отклоняются к оси блока, концентрируются в кристаллизаторе 4, где плавят подаваемую сверху механизмом подачи 1 металлическую заготовку 2 и одновременно нагревают ванну жидкого металла в меДном водоохлаждаемом кристаллизаторе 4. При помощи механизма 7 слиток 5 опускается. Плавильная камера 9 и камеры электроннолучевого нагревателя подвергаются раздельному вакуумированию с помощью системы вакуумных насосов 3, 6, 8, 10. [c.42]

Согнем теперь провод в кольцо — мы получим простейшую короткую магнитную линзу. Характер воздействия такого кольцевого провода на проходящие электроны будет аналогичен воздействию прямолинейного провода, поэтому здесь они будут отклоняться от провода и смещаться в зависимости от направления тока в нем- Все электроны пучка, излучаемого электронной пушкой, проходя сквозь кольцо параллельно его оси, будут отклоняться к этой оси при любом направлении тока в кольцевом проводнике. Отклонение будет тем сильнее, чем дальше лежит рассматриваемая траектория от оси. Кроме того, проходя магнитное поле витка, электроны смещаются вдоль провода и закручиваются вокруг оси. Этот принцип используют при конструировании магнитных линз для разнообразных электроннооптических систем. [c.83]

Для точной установки луча в процессе сварки необходимо перемещать его поперек шва. Это осуществляется при помощи отклоняющей магнитной системы 9. Сварка электронным лучом возможна в том случае, если в сварочной камере и в камере электронной пушки 10 создан вакуум не ниже 66,6 Мн/м . При падении вакуума до 133 Мн/м могут возникать дуговые разряды, исключающие возможность сварки. Этим методом можно выполнять разные соединения (стыковые, угловые, в отбортовку и др.). Можно также сваривать не только тугоплавкие, но и все другие металлы и сплавы. [c.172]

Сварка электронным л5 ом. Сущность сварки заключается в нагреве изделия бомбардировкой его поверхности пучком электронов в вакуумированном до 1 10 — 1 10" мм. рт. ст. пространстве. Электроны имитируются из катода специальной электроннолучевой пушкой и ускоряются высоким напряжением., Электрическая система собирает поток электронов в пучок. Магнитная линза окончательно формирует острый луч, и струя электронов направляется к местам сварки. В результате локализации большой мощности в небольшом объеме металл быстро расплавляется. Этот способ особенно ценен для сварки тугоплавких металлов вольфрама, молибдена, титана и других металлов и сплавов. [c.298]

Электромагнитная пушка. Двухпроводная идеально проводящая линия, расположенная в горизонтальной плоскости, подключена к источнику ЭДС. Вдоль линии может двигаться проводящая перемычка. Вся система находится в однородном магнитном поле. Пайти решение уравнений Лагранжа. [c.322]

Этот результат является хорошим приближением даже для неоднородных магнитных полей [И]. Если мы поместим пушку Пирса, создающую сходящийся пучок, в магнитное поле, силовые линии которого следуют траекториям в непосредственной близости от пушки, пучок будет сохранять форму в этой области п далее траектории будут приблизительно следовать силовым линиям. Если индукция увеличивается, пучок становится ул<е. Следовательно, помещение пушки в магнитное поле, воз- [c.614]

В мощных электронно-лучевых испарителях применяют электронные пушки с аксиальным пучком и с ленточным плоским пучком электронов. Отклонение электронных пучков (лучей) и управление ими осуществляется с помощью магнитных систем. Можно поочередно направлять луч на близко расположенные объекты (тигли, стержни, навески) и напылять послойно пленки из разных материалов. Сконструированы также двухлучевые прожекторы, с помощью которых можно одновременно испарять два различных материала и получать пленки из сплавов и смесей. Если необходимо, используют несколько электронных пушек. Процесс ведут в вакууме 6,7(10 2— Ю- ) Па [5(10 — 10 ) мм рт. ст.] [37]. [c.40]

На рис. 323 представлена принципиальная схема электроннолучевой установки. Последняя представляет собой устройство, с помощью которого получают узкие электронные пучки с большой плотностью энергии. Термоэлектронная эмиссия обеспечивается накалом вольфрамового катода ), заключенного в кольцеобразный формирующий электрод (3). Под ним расположен дисковый анод 4 с центральным отверстием. Электрод 3 предназначен для формирования пучка электронов, регулирования тока электронного луча 2 и его модуляции путем подачи импульсного управляющего напряжения от импульсного генератора. Высокое напряжение между катодом 1 и анодом 4 ускоряет электроны, а магнитное поле регулировочных катушек 5, питаемых постоянным током, направляет луч по оси пушки. Диафрагмой 6 луч формируется, а магнитной линзой 7 фокусируется на поверхности детали 8. С помощью отклоняющих катушек 9 луч можно перемещать по поверхности детали. Электронный луч может фокусироваться на площади диаметром до 0,001 см, чем достигается высокая удельная мощность [до (15—50)-10 Вт/см ]. Обрабатываемую деталь устанавливают на стол 10 и перемещают моторным приводом с равномерной скоростью, [c.628]

ОЛ до 20 мкм. В настоящее время ведутся многочисленные ра- боты по нанесению в вакууме тонких пленок цинка, кадмия, хрома, никеля, титана и др. Вакуумное напыление дает возможность получать двухслойные и многослойные покрытия, например цинковое и алюминиевое. Возможности вакуумного напыления далеко еще не изучены, но можно с уверенностью сказать, что этот метод займет определенное место при нанесении антифрикционных износостойких покрытий. Аппаратура для получения покрытий вакуумным напылением довольно сложна. В камере, в которой производится покрытие, должен быть создан и постоянно поддерживаться вакуум не ниже 10 мм рт. ст. Наносимый в качестве покрытия металл помещается в специальный тигель, называемый лодочкой, изготавливаемый обычно из тугоплавкой керамики. Металл, находящийся в лодочке, нагревается до температуры испарения. Существуют несколько методов нагрева металла высокочастотный, электросопротивлением и электронным лучом. Наиболее эффективен с точки зрения достижения стабильности характеристик испаряемого металла электронно-лучевой метод. Обычно источником электронов в пушке служит вольфрамовый катод. Электроны фокусируются в магнитном поле и направляются в тигель. Характерными параметрами испарителей являются количество испаряющегося металла, необходимая для этого мощность нагрева и срок службы. [c.120]

Электронно -л ученая обработка. Сущность электронно-лучевой обработки заключается в преобразовании кинетической энергии электронов в тепловую и использовании возникающей при этом высокой температуры для местного нагрева и испарения микрообъемов металла. Установка для изучения электронов представляет собой электронную пушку, находящуюся в вакуумной камере. При нагреве нити катода в вакууме до 2200° С возникает излучение электронов, поток которых ускоряется в мощном электрическом поле и, проходя через магнитную призму, фокусируется в узкий пучок, направленный на деталь. Скорость движения электронов до 200 ООО км/с, и при ударе потока электронов о поверхность обрабатываемой детали кинетическая энергия переходит в тепловую, при этом достигается плотность концентрации энергии до 100 мВт на 1 см . [c.225]

Схема устройства приведена на фиг. 9. Электроны, летящие в вакууме из электронной пушки, отклоняются магнитным полем и падают на поверхность кварцевого зеркала 4, на которое с противоположной стороны направляются ультразвуковые колебания от излучателя /. Между излучателем и приемной пластиной ( зеркалом ) расположен контролируемый объект, неоднородность строения которого приводит к неоднородности структуры волнового поля, возбуждающего приемную пластину. В результате на последней [c.63]

Существует несколько разновидностей установок для ионного осаждения в зависимости от типа применяемой электронно-лучевой пушки 1) с накаливаемым катодом 2) с полым горячим катодом 3) с полым холодным катодом и 4) с горячим полым катодом и магнитной отклоняющей системой. [c.12]

Параметры электронного луча, соответствующие технологическому процессу сварки, определяют основные требования к конструкции электронной пушки (табл. 34). В сварочных установках электронная пушка состоит из следующих основных э.гсементов катод—источник электронов анод — электрод с отверстием в середине для пропускания луча к изделию, подключенный к положительному полюсу силового выпрямителя фокусирующий ири-катодныл. . .летстрод (модулятор), регулирующий силу тока в луче фокусирующая магнитная линза отклоняющая магнитная система. [c.159]

Схема установки для электронно-лучевой обработки (электронная пушка) показана на рис. 7.14. В вакуумной камере 1 установки вольфрамовый катод И, питаемый от исючкика тока, обеспечивает эмиссию свободных электронов. Электроны формируются в пучок специальным электродом и под действием электрического поля, создаваемого высокой разностью потенциалов между катодом И анодом 10, ускоряются в осевом направлении. Луч электронов проходит систему юстировки 9, диафрагму 8, корректор изображения 7 и систему магнитных линз 6, которые окончательно [c.413]

Для фокусирования электронного луча в электронгюй пушке обычно используется система диафрагм и магнитных линз. Магнитная линза 4 представляет собой соленоид с магнитопроводом, создающий специальной формы магнитное поле, которое при взаимодействии с электроном изменяет его траекторию и искривляет ее в направлении к оси системы. При этом можно добиться сходимости электронов на достаточно малой площади поверхности и в фокусе электронный луч может обладать весьма высокой плотностью энергии, достигающей 5-10 Bт/мм . Такая плотность энергии достаточна для осуществления целого ряда технологических процессов, причем в результате измене ния фокусировки она может быть плавно изменена до минимальных значений. [c.108]

В конструкцию электронной пушки обычно входит также отклоняющая система 5, служащая для перемещения электронного луча по обрабатываемой поверхности. Перемещение луча осуществляется вследствие его взаимодействия с лоперечным магнитным полем, создаваемым отклоняющей системой. Обычно для этой цели электронная пушка имеет две пары отклоняющих катушек, обеспечивающих перемещение луча по двум взаимно перпендикулярным направлениям. При питании отклоняющих катушек током определенной частоты и амплитуды можно получить практически любую траекторию перемещения электронного луча по обрабатываемой поверхности, что широко используется в электронно-лучевой технологии. [c.108]

В телевизионном приемнике— телевизоре — имеется электровакуумная трубка, называемая ки нескопом. В кинескопе электронная пушка создает электронный луч. Электроны под действием электрического поля движутся внутри трубки к экрану, покрытому кристаллами, способными светиться под ударами быстро-движущихся электроЕюв. На пути к экралу электроны пролетают через магнитные поля двух пар катушек, расположенных снаружи трубки. [c.257]

Наиболее распространенным ускорителем электронов является бетатрон. В нем ускорение электронов происходит по круговой орбите при возрастающем с течением времени магнитном поле. Бетатрон (рис. 6.14, б) имеет тороидальную вакуумную камеру 2, расположенную между полюсами электромагнитов I. Сама камера находится в корпусе кольцевых электромагнитов 3. Электронная пушка 4 испускает электроны, ускоряемые вихревым электрическим полем 6. Приращение энергии электронов на каждом витке диаметром примерно в1м — 15...20эВ.В зависимости от числа витков можно получить различную энергию электронов на выходе. Электроны попадают на шшень 5. создавая тормозное рентгеновское излучение. Установки, выпускаемые промышленностью следуюище МИБ-3, МИБ-4, МИБ-6, ПМБ-6, [c.160]

Генерирование электронов и формирование пучка происходит в электронном излучателе, или электронной пушке (рис. 5). Излучатель состоит из электростатической системы, включающей катод /, фокусирующий электрод 2 и анод 3, и магнитной системы, которая содержит фокусирующую катушку 4 и отклоняющие катушки 5, осуществляющие перемещение пучка в двух взаимно перпендикулярных направлениях — в поперечном (центровка пучка на образце) и продольном (развертка пучка вдоль образца 6). Для достижения равномерной температуры по рабочей длине образца развертка осуществляется по специальной программе, предусматривающей задержку пучка на крнцах образца с целью компенсации тепловых потерь через захваты. На рис. 6 показана форма тока в отклоняющих катушках в функции времени, обеспечивающая равномерное температурное поле на образце. Изменение временной за- [c.288]

Диапазон требований к электронным пушкам, в зависимости от назначения, достаточно широк — от растровых электронных микроскопов [311—313], требующих хорошо сфокусированных пучков, до аппаратуры электронно-лучевой обработки [314, 315], для которых необходимы большие токи. В последнем случае используются автокатоды большой площади (более 1 см ) из пучков углеродных волокон [314] или высокопрочного графита типа МПГ-6 [315] с расположенной вблизи плоскости катода управляющей сетки с большой прозрачностью. Такая конструкция электронной пушки позволяет получить электронный пучок любой конфигурации, которая определяется формой и размером рабочей поверхности автокатода. Однако для большинства приложений электронных пушек требуется фокусировка электронного пучка. Неплохие результаты дает использование внешних электромагнитных катушек, но из-за большой скорости автоэлектронов они получаются очень громоздкими. Поэтому была предложена внутренняя однополосная система магнитной фокусировки [316], в которой магнитный полюс находится в непосредственной близости от автокатода, что позволяет наиболее эффективно изменять траекторию автокатодов. [c.244]

П. у. с собственным магнитным по.чем. Импульсные электродные П. у, (пушки). Первым П. у. был рельсотрон , питаемый конденсаторной батареей. Плазменный сгусток создаётся либо за счёт эрозии диэлектрич, вставки под действием скользящего разряда, либо при пропускании большого тока через тонкую проволоку, натянутую между массивными [c.610]

Любая Э. п. не только формирует пучок необходимой формы, но и ускоряет электроны пучка до необходимой энергии электрич. полем между анодом и катодом. Магн. поле, не изменяющее энергию электронов пучка, используется для дополнит, формирования (фокусировки) пучка. Поскольку сформированный пушкой электронный пучок на выходе из анодного отверстия за счёт кулоновского расталкивания неограниченно расширяется, получение протяжённого пучка ограниченного сечения возможно лишь при компенсации расталкивающего действия пространств. заряда внеш. электрич. или магн. полями. Ограничить расширение пучка можно с помощью продольного магн. поля (однородного или уменьшающегося в направлении катода) или последовательностью электронных линз (электростатических или магнитных), расположенных вдоль пучка. В Э. п., формирующих пучки с параллельными траекториями, используется продольное однородное магн. поле, силовые линии к-рого совпадают с траекториями, а вблизи катода и с электрич. силовыми линиями, что обеспечивает существование протяжённого устойчивого пучка. В Э. п. с компрессией ограничивающее магн. поле уменьшается в прикатодной области, что обеспечивает примерное совпадение электрич. и магн. силовых линий. Такие пушки с частично экранированным катодом позволяют формировать высокопервеансные пучки. [c.552]

В сварочных установках электронная пушка состоит из следующих основных элементов катод - источник электронов анод - электрод с отверстием в середине для пропускания луча к изделию, подключенный к положительному полюсу силового выпрямителя фокусирующий прика-тодный электрод (модулятор), регулирующий силу тока в луче фокусирующая магнитная линза отклоняющая магнитная система. [c.195]

Для юстировки электронной пушки, кон-денсорных и изображающих линз, т. е. выведения их на единую оптическую ось микроскопа, в современных электронных микроскопах предусмотрены электромагнитные отклоняющие системы эти системы позволяют быстро юстировать пучок и получать резкие светло-и темнопольные изображения. Особенно это важно при исследовании ферромагнитных материалов, поскольку собственное магнитное поле образца — фольги — влияет на магнитное поле объективной линзы, и ее юстировку приходится проводить при каждом изменении положения данного образца в процессе наблюдения в микроскопе. [c.48]

Перемещение электронного луча по изделию может быть осуществлено различными способами путем механического перемещения изделия под электронным лучом, перемещением пушки или изменением угла наклона ее, воздействием магнитных или электрических полей на электронный луч. В последних конструкциях элрктпонных nvnien получили большое применение электромаг- [c.77]

При нагреве катода с его поверхности излучаются электроны, формирующиеся в пучок электродом, расположенным иепосредственио за катодом, и под воздействием электрического поля, создаваемого высокой разностью потенциалов между катодом и анодом, ускоряются в определенном (в данном случае вертикальном) направлении. Магнитное поле юстировочных катушек 5, питаемых постоянным регулируемым током, направляет луч по оси пушки.. Диафрагма 4 отсекает энергетически малоэффективные краевые зоны луча, а магнитная линза 5 фокусируется его в круглое пятно на поверхности заготовки. Б современных установках для сварки и термической обработки электронный луч фокусируется на площади диаметром менее 0,001 см. [c.371]

На рис. 5.5 показана схема, позволяющая получить переходное излучение. Электроны, вылетающие из пушки, попадают на алюминиевую мишень, их фокусирует магнитная линза, фокальное пятно имеет диаметр несколько миллиметров, ток пушки 25 ма. Излучение, (возникшее вблизи мишени, отражается от вогнутого зериала (5) и после прохождения монохроматора 4, 3, 6) регистрируется с помощью ФЭУ. Воспроизводи- [c.251]

Закон прямолинейного течения пространственного заряда дается уравнением (12.25). На его основе построена пушка Пирса. Подробно рассмотрена фокусировка однородными магнитными полями и периодическими системами. И наконец, краткое обсуждение эффекта Боэрша заключает книгу. [c.619]

Покрытия со специальными электрическими и магнитными свойствами. Соединения, сочетающие высокую температуру плавления с низкой работой выхода электронов (см. табл. 20), могут быть использованы для получения термоэмиссионных покрытий, способных интенсивно испускать электроны. Такие соединения как 2гС и Н С, нанесенные в виде пасты на электроды из тугоплавкого металла, обеспечивают высокую плотность эмиссионных токов (до 20 А/см ) при достаточно длительных сроках службы. В форме покрытий или компактных изделий их используют в качестве катодов-термоэмитторов в электронных пушках мощных генераторных устройств, поскольку они превышают по своим качествам катоды из гексаборида лантана ЬаВе [236]. [c.152]

При нагреве катода с его поЕерхности излучаются электроны, формируются в пучок электродом, расположенным непосредственно за катодом, и под воздействием электрического поля, создаваемого высокой разностью потенциалов между катодом и анодом, ускоряются в определенном, в данном случае вертикальном, направлении. Магнитное поле юстировочных катушек 3, питаемых постоянным регулируемым током, направляет луч по оси пушки. Диафрагма [c.324]

На рис. 170 приведена схема установки для электронно-лучевой обработки. В камере 1 располагается катод 2 (электронная пушка), создающий облако свободных электронов, образование которых происходит за счет термоэлектронной эмиссии. Катоды изготовляют из вольфрама и тантала. С помощью электронномагнитных систем (магнитная линза 4 и отклоняющая система 5) [c.241]

Внимание исследователей, работающих в области высоких температур, привлекают такие новые средства высокотемпературного обогрева, как электронные пушки , плазменные горелки, устройства типа квантовых генераторов (лазеров), дуговые отражательные печи и др. Среди них достойное место могут занять солнечные высокотемпературные печи, которые имеют специфические особенности и обладают рядом преимуществ по сравнению с другими устройствами. Эти преимущества заключаются в возможности достижения относительно простыми средствами плотностей лучистой энергии до 30-10 квт/м- и соответствующих температур до 3000— 4000° С, в бесконтактном способе чисто поверхностного подводо. энергии к образцу, в чистоте ( стерильности ) условий обогрева, в возможности применения любых газовых илп паровых атмосфер и вакуума, в полном отсутствии электрических и магнитных полей, в возможности обогрева любых оптически непрозрачных материалов независимо от их электрических и магнитных свойств. [c.456]

Размерная обработка производится на установке (рис. 215) с электронной пушкой, обеспечивающей формирование мощного электронного луча и состоящей из импульсного генератора 8, импульсного трансформатора 9, задающего напряжения 10 (напряжение возбуждения и накала) генератора высокого напрян е-ния 11 и катода 7 (обычно вольфрамовогр). В рабочей вакуумной камере 6 расположены вольфрамовый катод 7(источник электронного луча) и контро.тьная система для регулирования отклоняюпщх устройств и линз, которые управляют размером и траекторией электронного луча (магнитная юстировка 5, диафрагмы 12, корректор изображения 4, магнитные линзы 3, которые имеют самостоятельные источники питания, контрольный контур 2 и т. д.). Подвижный стол I имеет устройство для точной установки и перемещения обрабатываемой детали 13 (анода). Установка имеет также вакуумную насосную систему для создан Ш в рабочей камере заданного вакуума систему приборов для контроля и наблюдений. за ходом процесса высоковольтный источник энергии. [c.425]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...