Магнитная линза

Для увеличения плотности энергии в луче после выхода электронов из первого анода электроны фокусируются магнитным полем в специальной магнитной линзе 4. Сфокусированные в плотный пучок летящие электроны ударяются с большой скоростью о малую, резко ограниченную площадку (пятно нагрева) на изделии 6, при этом кинетическая энергия электронов, вследствие торможения превращается в теплоту, нагревая металл до очень высоких температур. Для перемещения,луча по свариваемому изделию на пути электронов помещают магнитную отклоняющую систему 5, позволяющую устанавливать луч точно по линии стыка. [c.16]

Создавая при помощи специальной магнитной системы (магнитной линзы) по оси электронного луча магнитное поле определенной формы, можно обеспечить сходимость траекторий электронов в одной точке (фокусировку) и изменять ее в широких пределах. При этом изменяется концентрация энергии на обрабатываемом изделии, что представляет значительный интерес с технологической точки зрения. [c.111]

Магнитная линза 111 Магнитное дутье 82 Макроструктура 447 [c.553]

Рис. 1.29. Электронный микроскоп Сименса, работающий при напряжении 50-100 кВ и дающий разрешение до 10 см. В соединенных друг с другом цилиндрах находятся магнитные линзы. Источник электронов расположен сверху, а увеличенное окончательное изображение объекта можно видеть на флуоресцирующем экране в нижней части прибора. Для получения фотоснимков надо помещать фотопластинки в этой плоскости. Фокусировка производится посредством из.менения силы тока в магнитных линзах.

Система магнитных линз Л , и отклоняющие магнитные поля М], М2 рассчитаны так, чтобы через них проходили частицы [c.374]

Тонкая магнитная линза образована полем, вектор-по-тенциал которого [17] [c.44]

I. Магнитотвердые ферримагнетики 1) с большой коэрцитивной силой — исполнительные двигатели, поляризованные реле, аппаратура сигнализации, магнитные линзы 2) эластичные (резиновые) композиции — магнитные линзы, стопоры, герметизаторы, фиксаторы, подвижные магниты измерительных приборов. [c.179]

С помощью электрического поля электроны ускоряются и системой электростатических или магнитных линз фокусируются на слое люминофора, вызывая его свечение. Изображение на люминесцентном экране на блюдается визуально или регистрируется с помощью обычных средств (фотосъемка и т. д.). [c.101]

В некоторых конструкциях используют сочетание электрических и магнитных линз. [c.599]

ЭМ просвечивающего типа (объект пронизывается электронами) делаются с электростатическими или магнитными линзами. Обычно просвечивают пластический отпечаток объекта. [c.599]

Р—Магнитная линза Ускоренный пучок [c.197]

Рис. 9. а — квадрупольная магнитная линза б—магнитный блок с совмещёнными функциями. [c.252]

Прикатодный электрод 2 и ускоряющий электрод (анод) 3 создают условия для электростатической фокусировки и разгона электронов под действием ускоряющего напряжения U. Расходящийся затем под действием кулоновских сил электронный луч 9 фокусируется магнитной линзой 6, на фокусном расстоянии от которой размещается свариваемое изделие 8. Система отклонения электронного луча 7 состоит из четырех, реже шести, электромагнитов и служит для управления процессом сварки, настройки электронного луча на свариваемый стык, сообщения лучу колебательных движений по заданной программе. [c.252]

С помощью магнитной линзы поток ускорен- ных электронов формируется в узкий пучок и на- [c.454]

J - изделие 2 - электронный луч 3 катод 4 - прикатодный управляющий электрод j - анод б - магнитная линза [c.196]

Плотность тока в луче можно регулировать, меняя диаметр фокусного пятна на изделии без изменения значения общего тока, используя магнитную линзу. Такая линза представляет собой катушку с током, ось которой совпадает с осью луча. Для повышения эффективности работы ее помещают в ферромагнитный экран. В этом случае магнитное поле концентрируется в узком немагнитном зазоре. Фокусное расстояние линзы - расстояние от середины этого зазора до минимального сечения прошедшего сквозь линзу пучка - определяется конструкцией линзы, анодным напряжением пушки и током, протекающим по обмотке линзы. [c.197]

Для увеличения плотности энергии в луче, после выхода электронов из первого анода, электроны фокусируются магнитным полем в специальной магнитной линзе 4. Сфокусированные в плотный пучок летящие электроны ударяются с большой скоростью о малую, резко ограниченную площадку на изделии 6, при этом кинетическая энергия электронов вследствие торможения в веществе превращается в тепло, нагревая металл до очень высоких температур. [c.56]

Вакуумная камера должна быть газонепроницаемой и достаточно прочной, чтобы выдержать наружное атмосферное давление. Обычно вакуумные камеры имеют вакуумные вводы для передачи, вращательных или возвратно-поступательных движений, подачи охлаждающей воды, кроме того, необходимы вакуумные электрические вводы для подачи электрической энергии к магнитным линзам и т. п. [c.66]

Вторичной фокусирующей системой сварочных пушек являются электромагнитные линзы, выполненные в виде катушки из достаточно большого числа витков линза размещается в железном экране особой формы. Наличие электромагнитной фокусирующей линзы дает возможность получить острую фокусировку луча в месте сварки и, кроме того, плотность энергии в луче или диаметр пучка с помощью магнитных линз можно менять в широких пределах путем изменения напряженности магнитного поля линзы. [c.77]

Из выражения (2.8) видно, что п зависит от величины зазора Н. Это позволяет регулировать п, т. е. подстраивать параметры фокусирующей магнитной линзы. [c.37]

В обоих рассмотренных случаях границы поля выполняют роль собирающих магнитных линз. [c.42]

Параметры электронного луча, соответствующие технологическому процессу сварки, определяют основные требования к конструкции электронной пушки (табл. 34). В сварочных установках электронная пушка состоит из следующих основных э.гсементов катод—источник электронов анод — электрод с отверстием в середине для пропускания луча к изделию, подключенный к положительному полюсу силового выпрямителя фокусирующий ири-катодныл. . .летстрод (модулятор), регулирующий силу тока в луче фокусирующая магнитная линза отклоняющая магнитная система. [c.159]

Схема установки для электронно-лучевой обработки (электронная пушка) показана на рис. 7.14. В вакуумной камере 1 установки вольфрамовый катод И, питаемый от исючкика тока, обеспечивает эмиссию свободных электронов. Электроны формируются в пучок специальным электродом и под действием электрического поля, создаваемого высокой разностью потенциалов между катодом И анодом 10, ускоряются в осевом направлении. Луч электронов проходит систему юстировки 9, диафрагму 8, корректор изображения 7 и систему магнитных линз 6, которые окончательно [c.413]

Для фокусирования электронного луча в электронгюй пушке обычно используется система диафрагм и магнитных линз. Магнитная линза 4 представляет собой соленоид с магнитопроводом, создающий специальной формы магнитное поле, которое при взаимодействии с электроном изменяет его траекторию и искривляет ее в направлении к оси системы. При этом можно добиться сходимости электронов на достаточно малой площади поверхности и в фокусе электронный луч может обладать весьма высокой плотностью энергии, достигающей 5-10 Bт/мм . Такая плотность энергии достаточна для осуществления целого ряда технологических процессов, причем в результате измене ния фокусировки она может быть плавно изменена до минимальных значений. [c.108]

Схема опыта приведена на рис. 265. Антипротоны возникали в результате бомбардировки бериллиевой мишени беватрона протонами с энергией 6,2 Гэв. Как и в опыте по обнаружению антипротонов, выделение отрицательных частиц с данным импульсом производилось системой из двух отклоняюш их магнитов и пяти фокусирующих магнитных линз. Отбор антипротонов из пучка отрицательных частиц производился то времени пролета с помощью шести сцинтилляционных счетчиков, включенных в схему [c.627]

Схема опыта приведена на рис. 137. Антипротоны возникали в результате бомбардировки бериллиевой мишени бэватрона протонами с энергией 6,2 Гэв. Как и в опыте по обнаружению антипротонов, отрицательные частицы с данным импульсом выделялись системой из отклоняющих магнитов (два) и фокусирующих магнитных линз (пять). Отбор антипротонов из пучка отрицательных частиц производился по времени пролета с помощью шести СЦИНТИЛЛЯ1ЦИ0ННЫХ счетчиков, включенных в схему совпадений. Система позволяла выделять 5—10 антипротонов в минуту. [c.222]

Наибольшими возможностями для исследования е—N)-рассеяния в настоящее время обладает группа физиков, работающая на станфордском двухмильном линейном ускорителе электронов с максим альной энергией = 21 Гэв. Ускоритель представляет собой вакуумную трубу длиной в две мил (отсюда название ускорителя) с 245 клистронами и многочисленными фокусирующими магнитными линзами (через каждые 100 м). На выходе имеется система из фокусирующих и откло-няющих магнитов и коллиматоров. Мишени — жидководородная и жидкодейтериевая. [c.275]

Интенсивность синхрофазотронов удалось заметно повысить путем использования открытого в 1950 г. (Н. Кристофилос) метода сильной фокусировки пучков. Идея метода состоит в том, что в ускорительном кольце чередуются фокусирующие и дефокусирующие магнитные линзы. При соответствующем подборе параметров линз такая система создает сильный фокусирующий эффект за счет того, что пучок проходит через рассеивающую линзу ближе к главной оси, чем через предшествующую ей собирающую. [c.476]

Металлопластические и эластичные композиции — магнитные линзы, стопоры, герметизаторы, фиксаторы, подвижные магниты измерительных приборов. [c.211]

Характеристики сверхпроводя-. щих материалов тесно связаны с технологией и конструкцией изготовляемых проводов и подвержены заметным изменениям при переходных режимах в условиях эксплуатации. Сверхпроводящие материалы широко используются прежде всего для сооружения соленоидов, обеспечивающих создание очень сильных магнитных полей порядка 10 ajm. Рассматривается возможность применения сверхироводниковых магнитов для фокусировки потока частиц высоких энергий, при исследованиях термоядерных. процессов, для магнитных линз электронных микроскопов, для двигательных установок космических кораблей и т. п. Сочетание молекулярной и сверхнроводннковой электроники открывает перспективу создания вычислительных машин с колоссальным объемом информации. [c.280]

Соединения на основе марганца Мп — В1 (бисманоль), Мп —А1, Мп — 0(3 Тверды и хрупки. Хорошие магнитные свойства за счет высокой коэрцитивной силы. Удельная энергия до 20 кДж/м (Мп — 0(3 можно обрабатывать резанием) Широкого применения не имеют могут применяться в магнитных сепараторах, муфтах и фиксаторах, магнитных линзах, поляризованных реле [c.24]

Ферриты Бариевые ВаО (РегОз) Коб альтовые СоО-РбгОз Стронциевые 5гО (РегОз)в Тверды. Очень хрупки. Хорошие магнитные свойства за счет высокой коэрцитивной силы. Удельная энергия до 12 кДж/м . Относятся к классу полупроводников Электрические машины, электронные приборы, магнитные системы ламп бегущей волны, магнетронов и другой радиоэлектронной аппаратуры, магнитные линзы исполнительные двигатели, микрогенераторы, поляризованные реле, аппаратура сигнализации магнитные сепараторы, муфты и редукторы [c.24]

Магнитопласты. Наполнитель — альнико, (феррит, РЗМ, связующее — бакелит, эпоксидные смолы, пластики Технология и.зготовления и механические свойства как у пластмасс и резины. Удельная энергия до 2,8 кДж/м для альнико и ферритов и до 40 кДж/м для РЗМ Подвижные магниты измерительных приборов, эластичные герметизаторы для разъемных соединений, магнитные линзы, стопоры, фиксаторы, магниты электрических машин [c.24]

Рис. 2. Схема приёмных ЭЛТ с электростатической (а) и магнитной (б) фокусиров-ко9 и отклоненлем луча К — катод М — модулятор УЭ— ускоряюишй электрод ОС—отклоняющие системы МЛ — магнитная линза ПП—проводящее покрытие Э—экран.

Рнс. 7. Принципиальная схема просвечивающего растрового электронного микроскопа (ПРЭМ) 1—автоэмиссионный катод 2—промежуточный анод 3 — анод 4 — диафрагма осветителя 5—магнитная линза 6—двухъярусная отклоняющая система для развёртки электронного зонда 7 — маг-нитвый объектив 8 — апертурная диафрагма объектива Ч — объект О—отклоняющая система 11 — кольцевой детектор рассеянных электронов 12 — детектор верассеянных электронов (удаляется при работе магнитного спектрометра) [c.577]

В сварочных установках электронная пушка состоит из следующих основных элементов катод - источник электронов анод - электрод с отверстием в середине для пропускания луча к изделию, подключенный к положительному полюсу силового выпрямителя фокусирующий прика-тодный электрод (модулятор), регулирующий силу тока в луче фокусирующая магнитная линза отклоняющая магнитная система. [c.195]

Прозрачность поля по направлению. В поле с коэффициентом неоднородности, равным единице, с помощью электростатических или магнитных линз независимо от угла поворота ионов можно фокусировать ионные пучки в заданной точке, что способствует оптимизации параметров ионнооптических систем. В частности, параллельные пучки с большой площадью поперечного сечения удается сфокусировать с помощью круговых границ магнитного поля, при этом значительно увеличивается светосила прибора. [c.52]

Одна из наиболее важных практических трудностей в дифракционной микроскопии и в любом методе улучшения разрешающей способности электронных микроскопов связана с требованием высокого постоянства расположения фокуса. Можна напомнить, что электронная микроскопия оперирует с фокусными расстояниями того же порядка, как и оптическая микроскопия, т. е. несколько миллиметров, к то время как ею достигнуты разрешения, примерно в 100—200 раз лучшие. Кроме того, электронные линзы не так стабильны, как стеклянные, они испытывают флуктуации и, наконец, не ахроматичны. Так, электронная микроскопия на магнитных линзах становится возможной только при стабилизации токов в линзах с точностью порядка 1/20 000. В столь высокой стабильности нет необходимости в электростатических микроскопах с постоянным потенциалом, где фокусное расстояние остается фиксированным. Но даже здесь менее жесткие требования к стабильности связаны с очень большой глубиной резкости электронных объективов, обусловленной малостью апертурных углов. Однако любой дальнейший прогресс сопряжен с повышением требований к стабиль- [c.291]

Практические следствия критерия (17) будут обсуждаться Хейном в отдельной публикацин, причем в ней будет сделан особый упор на электронный микроскоп с магнитными линзами. Но можно отметить, что даже при абсолютной стабильности линз или в случае электростатических систем с постоянным потенциалом предел будет достигаться при разрешении примерно от 1 до 2 А, за которым разброс энергии электронов будет мешать дальнейшему прогрессу, если не используются ахроматические линзы. Возможности ахроматических электронных линз уже обсуждались автором в 1951 г. в отдельной статье [6]. [c.292]

В качестве примера положим g=l см (микроскоп с магнитными линзами), Я = 0,05 А (соответствует 60 кэв) и йл — Ьк. Тогда 2о>0,75 мкм, т. е. много меньше, чем дает установленный выше критерий. Ноприс л = 1 А новый критерий дает 2о>19ж/сж, что намного больше. Видно, что условие (21) становится строгим только при высоких разрешениях. По-видимому, желательно всегда брать большее из двух значений. [c.297]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...