Импульсные источники питания

Импульсные системы. Наряду с рассмотренными выше квазистационарными системами ведутся работы по созданию импульсных систем, основанных на серии периодически повторяемых взрывов малой мощности с удержанием энергии и продуктов взрыва в специальных камерах. Основные достоинства таких систем в сравнении с квазистационарными—меньшая опасность накопления примесей в плазме, уменьшающих время ее удержания, а также нечувствительность к неустойчивостям плазмы, время развития которых больше периода импульса. Основные проблемы создания таких систем— импульсный характер энерговыделения, а также необходимость разработки мощных импульсных источников питания. [c.258]

Применение в полуавтоматах для сварки легких металлов, легированных сталей и сплавов импульсных источников питания дуги. [c.179]

Описаны способы и схемы зажигания газоразрядных приборов, входящих в состав излучателей лазеров. Рассмотрены различные способы преобразования источников напряжения в источники тока, поскольку внешняя характеристика последних обеспечивает устойчивое питание газового разряда и минимальные потери мощности при зарядке емкостных накопителей энергии, которые используются в импульсных источниках питания. Приведены схемы и основные расчетные соотношения для выбора элементов разрядного контура импульсного излучателя, зарядных устройств емкостных накопителей энергии. [c.4]

Импульсный источник питания ИПИ-2 работает следующим образом. При замыкании выключателя В1 напряжение сети предварительно поступает на блок зажигания МТ-2ПЖ и систему управления СУМ-10. Подача напряжения на силовой трансформатор Тр1 осуществляется через магнитный пускатель Р в момент нажатия [c.67]

Конструктивно АЭ представляет собой цилиндрический герметичный диэлектрический корпус 1 (рис. 8.1) с электродными узлами 2, на которые напаяны лепестки для подключения к высоковольтному импульсному источнику питания, и концевыми стеклянными секциями 3 с оптическими окнами 4 для выхода лазерного излучения. Для устранения паразитной связи выходного излучения с активной средой угол [c.201]

Реализация системы регулирования МЭЗ, работающей в диск-кретном режиме, с использованием импульсных источников питания при обработке на зазорах менее 0,05 мм в соответствии с циклограммой (см. рис. 72) предъявляет более высокие требования к точности работы исполнительного привода, блоку индикации касания электродов, логическим элементам и другим звеньям системы управления. Практика показывает, что современный уровень техники позволяет успешно решать эти задачи. [c.141]

Источники технологического напряжения, выполненные на базе автономных инверторов. Среди различных схем получения импульсного технологического напряжения заслуживают внимания схемы инвертирования тока, которые являются перспективными для построения импульсных источников питания для размерной ЭХО. К преимуществам инверторных схем следует отнести возможность плавного изменения в широком диапазоне [c.167]

Рис. 98. Структурная схема импульсного источника питания

Институтом электросварки имени Е. О. Патона разработаны генераторы импульсов ГИ-1 и импульсные источники питания ИИП-1, ИИП-2., [c.109]

Импульсный источник питания ИИП-1 предназначен для управления плавлением электрода, химическим составом наплавленного металла, формой и размерами сварных швов. Принцип действия его заключается в подаче на дугу кратковременных импульсов тока большой величины. Аппарат ИИП-1 включается в цепь трехфазного переменного тока напряжением 380 В. Амплитуда тока — от 450 до 850 А длительность импульсов — 1,5—2 мс потребляемая мощность 5 кВА. [c.87]

Условием стабильного течения процесса является равенство скорости подачи и общей скорости плавления электрода за один цикл (импульс + пауза). Поэтому при импульсном источнике питания мелкокапельный перенос получается при меньших плотностях тока, чем для обычного процесса. При этом параметры импульсов, частота которых находится в пределах 90—100 Гц, обеспечивают перенос одной капли за импульс. [c.383]

Рис. 18. Электрическая принципиальная схема импульсного источника питания ИИП-2

Импульсные источники питания применяются для повышения устойчивости. сварочной дуги, облегчения зажигания дуги, ускорения переноса электродного металла в зону дуги и уменьшения размеров переносимых капель металла. [c.31]

Технические характеристики импульсных источников питания приведены [c.31]

В чем заключаются преимущества импульсного источника питания сварочной дуги [c.108]

Неисправности импульсных источников питания определяются конструктивными особенностями исполнения их схем. [c.71]

В импульсных источниках питания (стабилизаторах) транзистор в ключевом режиме работает на цепь с индуктивной реакцией нагрузки и коммутирующим (обратным) диодом VD, обеспечивающим снабжение потребителя после размыкания VT энергией, запасенной в дросселе L (рис. 5.6, а). [c.192]

Приемлемы для работы в импульсных источниках питания конденсаторы алюминиевые оксидно-электролитические К50-33 (С = 470...22 ООО мкФ U = 160...6,3 В полное сопротивление = 0,03...0,1 Ом в диапазоне частот А/= 10...100 кГц) танталовые оксидно-полупроводниковые К53-25 (С = 0,65... 150 мкФ U = 40...6,3 В 2-с= 0,5...8 Ом на частоте 100 кГц) и К53—28 (С = 1...150 мкФ, U = 40...6,3 В, [c.197]

Импульсные источники питания сварочной дуги. Такие источники используются при сварке как плавящимся, так и неплавя-щимся электродом. [c.136]

Магнитные материалы. На рис. 3.19 — 3.21 приведены данные, иллюстрирующие влияние размера кристаллитов на магнитные свойства материалов различных типов. В последние годы благодаря изучению свойств наноматериалов, полученных контролируемой кристаллизацией из аморфного состояния, японскими учеными был открыт новый класс магнитомягких материалов с высоким уровнем статических и динамических магнитных свойств по сравнению с аналогичными по назначению кристаллическими и аморфными сплавами. Это сплавы на основе Ре —81 —В с небольшими добавками N6, Си, 2г и некоторых других переходных металлов (например, Р1пете1 в Германии сплавы этого типа называются Витроперм ). После закалки из расплава эти сплавы аморфны, а оптимальные параметры достигаются после частичной кристаллизации при температуре 530 —550 °С, когда выделяется упорядоченная нанокристаллическая фаза Ре —81 (18 — 20) % с размером частиц около 10 нм. Объемная доля наночастиц в аморфной матрице составляет 60 — 80 %. Сплавы обладают низкой коэрцитивной силой (5— 10 А/м) и высокой начальной магнитной проницаемостью при обычных и высоких частотах при малых потерях (200 кВт/м ) на перемагничивание, что обеспечивает их широкое применение в электротехнике и электронике в качестве трансформаторных сердечников, магнитных усилителей и импульсных источников питания, а также в технике магнитной записи и воспроизведения и т.д., обеспечивая значительную миниатюризацию этих устройств и стабильную работу в широком диапазоне частот и температур. Мировой выпуск сплавов оценивается на уровне 1000 т в год [39]. [c.162]

Схема рис. 1.9 специально предназначена для совместной работы в комплексе с исгочником для непрерывного питания ГРП. Однако двухступенчатое зажигание часто применяется и в импульсных-источниках электропитания, у которых имеется блок питания дежурной дуги. В подобных случаях функции второй ступени выполняет сам импульсный источник питания, а блок дежурной дуги поддерживает непрерывный разряд. Для запуска такой системы сначала заряжают накопитель импульсного источника питания до 1 пит>1 заж,. затем включают блок питания дежурной дуги и одновременно подают на ГРП инициирующий сигнал от схемы зажигания. Инициирующий импульс пробивает ГРП, накопитель разряжается и переводит его в дуговой режим, после чего блок питания дежурной [c.17]

На выходе блока зажигания (см. рис. 3.11) обеспечивается импульс амплитудой 40 кВ и длительностью порядка 2 мкс. Макси-иальная частота повторения импульса зажигания до 10 Гц. Подобные блоки зажигания применеяы в импульсных источниках питания лазерных технологических установок .Квант-9 и Квант40 . [c.55]

Схемы зарядки емкостного накопителя энергии от сети переменного напряжения с нулевой фазой вклю-i чения зарядного коммутатора оказались весьма эконо мичными и удобными для построения зарядных устройств импульсных источников питания газоразрядных ламп с повышенной частотой повторения разрядных импульсов [57—59]. В схемах с нулевой фазой включения накопительный конденсатор начинает заряжаться при включении зарядного коммутатора в момент перехода синусоиды сетевого напряжения через нуль. Зарядный ток в этом случае ограничивается скоростью нара-чстания напряжения и имеет форму отрезка косинусоиды. В процессе зарядки используется менее четверти периода синусоиды. По этой причине потребление энергии от сети получается относительно неравномерным. Такие хемы целесообразно применять при небольших емкостях накопителя и небольших запасаемых энергиях до нескольких сотен джоулей). Однако схемы с нулевой )азой включения достаточно просты и могут применять-я, например, в системах питания твердотельных излу- ателей на итрий-алюминиевом гранате, оптимальные астоты повторения импульсов излучения которых 50— [c.79]

Группой специалистов ЗАО Материалы микроэлектроники создан двухканальный транзисторный источник питания для ЛПМ Ку-лон-15 на основе двух АЭ Кулон LT-lO u [218], работающих по схеме ЗГ - УМ. В каждом канале с двумя импульсными трансформаторами и тремя магнитными звеньями сжатия формируются импульсы напряжения с амплитудой 17 кВ и импульсы тока с амплитудой 250 А и длительностью около 100 не при ЧПИ 12-16 кГц. Мощность каждого канала 2,5 кВт. В работе [215] сообщается о создании импульсного источника питания на транзисторных ключах с коммутируемой мощностью до 25 кВт для накачки 280-ваттного гибридного лазера на парах меди ( u-Ne-HBr). [c.79]

Разогрев и возбуждение АЭ, как и в предыдущем случае (п. 5.1), обеспечивал двухканальный синхронизированный импульсный источник питания, содержащий два высоковольтных выпрямителя 3 и два модулятора накачки 4 на базе водоохлаждаемых водородных тиратронов ТГИ1-2000/35. Модулятор ЗГ был выполнен по прямой схеме, УМ — по схеме трансформаторного удвоения напряжения с магнитным звеном сжатия импульсов. Запуск модуляторов осуществлялся от общего генератора задающих импульсов 5, снабженного регулируемой линией задержки 6, которая позволяла сдвигать по времени относительно друг друга импульсы ЗГ и УМ в пределах 50 не. ЧПИ составляла 8 кГц. Исследования были проведены в установившемся оптимальном температурном режиме АЭ, который для ЗГ обеспечивался при мощности питания от выпрямителя 2,5 кВт и напряжении на аноде тиратрона 17 кВ, для УМ — соответственно при 3,5 кВт и 21 кВ. [c.140]

Излучатель ЛПМ Кулон-15 аналогичен по конструкции, оптической схеме и режиму работы излучателю в технологической установке Каравелла-1 (см. гл. 9). В излучателе использованы два АЭ Кулон LT-lO u , работающие по схеме ЗГ-ПФК-УМ средняя мощность излучения каждого АЭ 10 Вт. В ЗГ применен телескопический HP с М — 200, формирующий пучок излучения с расходимостью 0,2 мрад. АЭ установлены в коаксиальные металлические теплосъемники с общим расходом воды около 5 л/мин. Накачка АЭ Кулон LT-lO u производится от двухканального высоковольтного импульсного источника питания с точностью синхронизации каналов в пределах 0,5 не. Такая синхронизация обеспечивает высокую стабильность характеристик выходного излучения (изменение мощности не более 2%). В качестве коммутаторов в источнике используются вакуумные модуляторные лампы ГМИ-32-Б с воздушным охлаждением. [c.276]

Проводимые в Тульском политехническом институте и в ряде других организаций работы по использованию шагового импульсного привода на станках для электрохимической обработки и кодо-во-импульсных систем управления, разработка управляемых импульсных источников питания создают реальную техническую базу для построения адаптивных систем, которые помогут в еще большей мере реализовать высокие потенциальные возможности, заложенные в методе размерной электрохимической обработки. [c.117]

Для импульсного источника питания, разработанного в Тульском политехническом институте, применяется несимметричный коммутатор в цепи переменного тока, который может быть включен на вход любого неуправляемого источника технологического напряжения (ИПП-5000/12, ВУ-12/600, ВСМР-5000/12). В импульсном режиме источник имеет следующие характеристики длительность импульса, изменяемая плавно, 1 6 мс частота следования импульсов, изменяемая ступенчато, 150, 75, 37,5 Гц. [c.166]

Основные тенденции в развитии оборудования для размерной ЭХО. Точность и производительность размерной ЭХО определяются следующими основными параметрами величиной межэлектродного зазора, величиной и формой напряжения на электродах, температурой, pH, электропроводностью, кинематической вязкостью электролита, степенью его загазованности и зашламленности, а также гидродинамическим режимом течения электролита в рабочем зазоре. Электрохимическое оборудование для размерной ЭХО на малых зазорах в импульсном режиме характеризуется применением специальных импульсных источников питания и специальных приводов подач катода. При электрохимическом формообразовании торцовых поверхностей деталей типа тел вращения целесообразно применять источники питания программного типа. [c.186]

Однако проволока ЭП-317 не позволяет производить сварку в потолочном положении. Поэтому вместо нее разработана аналогичная по производительности проволока ЭП-439. Сварка этой проволокой выполняется во всех пространственных положениях. Для сварки в вертикальном и потолочном положениях рекомендуется применять импульсную приставку ИИП-1 к выпрямителю, обеспечивающую наложение кратковременных импульсов на дугу постоянного тока. Применение импульсного источника питания типа ИИП-1 позволяет управлять образованием каждой капли металла, а следовательно, размером и формой сварного шва во всех пространственных положениях. Повышая устойчивость горения дуги, этот метод позволяет упростить технику выполнения пото- [c.134]

Примечание 1. Схемы, помеченные, реализуются только при использовании импульсных источников питания типа ШГИ, ГКИ и т. п. Остальные схемы могут быть реализованы как с ГИ, так и с источниками постоянного тока ЭИ из материалов по табл. 18. 2. Рабочая жидкость — масло индустриальное И32А по ГОСТ 20799—75 и керосин. 3. На табличных рисунках обозначено непрерывное движение <—> возвратно-поступательное ---прерывистое 4. —скорость продольной подачи поперечной подачи —вертикальной подачи Уд —скорость врезання заготовки. [c.145]

В электронике больших мощностей в последнее время все чаще находят применение импульсные источники питания, работающие на частотах вплоть до 100 кГц. Сочетание высокого электрического сопротивления аморфных материалов микронных сечений с малыми гистерезисными потерями и высокой максимальной магйитной проницаемостью позволяет в значительной степени сократить время накопления энергии для нового импульса и создает весьма удачный комплекс свойств для использования в этой области частот. Например, для независимого контроля каждого из выходов такого источника можно применить дроссели с тороидальными сердечниками, позволяющими осуществить подобный контроль с использованием чисто магнитных эффектов. При этом, помимо низких потерь на перемагничивание, необходима также прямоугольная форма петли гистерезиса. В этом случае для достижения высокой эффективности (снижение потерь, увеличение КПД) целесообразно использовать материал с чрезвычайно низким значением коэрцитивной силы. Именно у аморфных материалов возможно достичь сочетания всех этих свойств. [c.609]

Импульсные источники питания. Применяются для повышения устойчивости сварочной дуги, облегчения зажигания дуги, ускорения переноса электродного металла в зону дуги и уме -ньшеиия размеров переносимых капель металла, В качестве источников питания импульсной дуги применяются генераторы импульсов (табл. 28). [c.28]

Полуавтоматы этой серии состоят из подающего механизма, источника пнтания постоянного тока или импульсного источника питания, [c.129]

Импульсные источники питания на основе трансформаторных ктивных накопителей с нелинейными элементами / М. Н. Быстров, Б. А. Ла ов, В. П. Силин и др. Доклад № 2 на семинаре СССР — США Индуктивш гопители энергии и коммутационная аппаратура для термоядерных ус вок . Л. НИИЭФА, 1974. [c.54]

В ИЭС им.Е.0Л1атона разработан и проверен в прошшленных условиях импульсный источник питания И-169, параметры которого плавно регулируются за счвт управляемой принудительной ком тации тиристоров его силовой час (рис.1). В нем осуществляется програ> мирова-ние формы импульса тока, представленной на рис.2, иэ которого видно, что импульс тока можно разделить иа две части. Пе жая (от1 Дo t ) [c.40]

По сравнению с существующими импульсный источник питания И-169 обладает новыми возхюжноотями [c.43]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...