Метод относительных интенсивностей спектральных линий

Метод относительных интенсивностей спектральных линий [c.420]

Измерения температуры по методу относительных интенсивностей спектральных линий проводились на выходе струи из патрубка камеры раскрутки в 5 мм от среза сопла пр давлениях от 0.1 до 1 МПа [c.140]

Для практического ознакомления с методом измерения температуры по относительным интенсивностям спектральных линий [c.237]

В основу количественных методов спектрального анализа положена однозначная монотонная связь между относительной интенсивностью спектральной линии анализируемого элемента и его концентрацией в образце. Эта связь была использована Ломакиным еще в 30-х годах в виде линейной зависимости между логарифмом интенсивности спектральной линии и логарифмом концентрации анализируемого элемента [c.597]

Фотографические и фотоэлектрические методы измерения относительных интенсивностей спектральных линий. Здесь мы рассмотрим энергетические измерения, связанные с исследованием спектров излучения, называемых эмиссионными спектрами. [c.484]

Рассмотрим теперь фотографические методы измерения (фотометрирования) относительных интенсивностей спектральных линий. Различают два способа фотографического фотометрирования монохромное и гетерохромное фотометрирования. [c.487]

Для осуществления метода относительных интенсивностей создана специальная аппаратура, которая в сочетании с электронной решающей схемой находит логарифм отношения интенсивностей выбранных спектральных линий и решает уравнение (12.6) непосредственно относительно Т. [c.420]

С помощью спектроскопического метода измерения температуры разряда (но относительным интенсивностям эмиссионных линий железа Fel и цинка 2п1) можно определить точные значения показателя преломления. Для этого измеряют распределение интенсивности вдоль спектральной линии, характеризующее температуру по зонам разряда вдоль секущей облака разряда. [c.183]

Эффективность спектрометрической установки может быть найдена. и по измерению относительных яркостей мультиплетов азота [43] . Пользуясь методом пар линий с общим верхним уровнем, можно получить источник не только с известными относительными, но и абсолютными интенсивностями спектральных линий. [c.246]

Температура плазменной струи оценивалась при помощи спектрального метода относительных интенсивностей. Суть метода состоит в том, что из отнощения интенсивностей двух спектральных линий атомов [c.73]

В большинстве случаев пламена имеют неоднородное распределе-ь ие температуры по сечению факела. Наружные зоны факела вследствие интенсивной теплоотдачи оказываются более холодными. Прк- меняя метод обращения в этих условиях, получаем некоторую среднюю оптическую температуру в данном сечении факела. При наличии градиента температур по сечению пламени в более холодных областях происходит поглощение излучения данной спектральной линии, испускаемой в горячей зоне, и наблюдается явление, названное само-обращением линии. В результате получаем температуры, заниженные относительно измеряемых. [c.416]

Итак, если пользоваться изложенными выше методами и теорией, то возможно определять относительные интенсивности, положения и полуширины компонентов сложного контура спектральной линии с неразрешенными компонентами. [c.133]

Рассмотрим задачу определения относительной интенсивности двух сравниваемых спектральных линий методом фотометрического интерполирования более подробно. [c.359]

Монохромное фотометрирование. Сравнение интенсивностей двух длин волн может быть выполнено визуально или с помощью объективных измерений. Рассмотрим объективные методы измерения относительных интенсивностей, предполагая, что характеристическая кривая фотоэмульсии известна. Измерения можно проводить по одной кривой почернений, построенной для данной области спектра. Тогда, если плотности почернений измеряемых линий находятся на прямолинейном участке характеристической кривой, то можно написать для каждой линии следующие выражения. Для первой спектральной линии из [c.487]

П. Измерение относительной интенсивности. Большая часть исследований Т спектроскопическим методом основана на измерении относительной интенсивности двух или более спектральных линий. Отношение интенсивностей двух линий, измеренных в одной и той же точке столба и соответствующих переходам с двух различных уровней Ш1 и /Пг в состояние п, равно [c.24]

И здесь на помощь пришла квантовая электроника. Тонкий и очень слабый лазерный луч падает на поверхность изделия. Его интенсивность достаточна для испарения ничтожной долн вещества, возникает плазма. Точку, на которую упал луч, можно заметить только под микроскопом. Состав образовавшейся плазмы полностью соответствует материалу изделия, влияние третьих элементов исключено. В дальнейшем метод анализа стандартен. Свет плазмы разделяется на отдельные спектральные линии, и по их относительной интенсивности легко определяется состав вещества. [c.79]

Содержание водорода определяют путем изотопного уравновешивания. Анализируемую пробу нагревают в атмосфере дейтерия при 900-1100 °С и вьщерживают в течение 20-30 мин. После достижения равновесия содержание водорода определяют спектральным методом путем измерения сравнительной интенсивности линий водорода и дейтерия в газовой фазе. Относительная погрешность определения 6-15 %, чувствительность анализа 10 -10 %. Недостатком метода является значительное время анализа. [c.719]

Метод относительных интенсивностей спектральных линий. Третий метод определения электронной температуры, который применим в вакуумной области спектра, основан на теоретических расчетах иптенсивпостй спектральных линий [1, 48—58]. Отношение интенсивностей двух линий можно рассчитать, сделав предположения о состоянии плазмы и о процессах возбуждения спектральных линий. [c.354]

При исследовании линейчатых спектров фотографическим методом часто на фотографнп спектра вместе со спектральными линиями присутствует п непрерывный спектр. Если ннтенсивпость непрерывного спектра соизмерима с интенсивностью линий, то точность измерения относительной интенсивности спектральных линий уменьшается. Но поскольку зависимость освещенности линейчатого [c.67]

Из сказанного должно быть ясно, что вопрос об источниках возбуждения в спектроэмиссионном анализе играет исключительно важную роль. В гл. 4 был дан общий обзор источников света, в частности и тех, которые применяются в качестве источников воз-бужденпя в спектральном анализе. Здесь же уместно отметить, что источники, предназначенные для целей спектрального анализа, все время совершенствуются, что в свою очередь ведет к усовершенствованию отдельных методик анализа и расширению области пх применения. Усовершенствование электрических дуг и искр связано прежде всего с их стабильностью работы, обеспечивающей воспроизводимость условий возбуждения спектров. По мере совершенствования условий регистрации спектров и методов фотометрирования интенсивностей спектральных линий, ошибки анализа, обусловленные источником возбуждения, должны также уменьшаться. При визуальных и фотографических методах анализа, где ошибки фотометрирования сравнительно высоки, достигая 3—4%, допустилш ошибки, обусловленные источником, в 2—3%. При фотоэлектрических методах регистрации спектров, где ошибки фотометрии относительных интенсивностей спектральных линий, вообще говоря, могли бы не превышать 0,5%, ошибки, вносимые источником возбуждения спектров, не должны уже превышать 0,3—0,4%. [c.587]

Количественные методы спектрального анализа получили твердые основания с тех пор, когда Герлах в 1926 г. показал возможность использования относительных интенсивностей спектральных линий анализируемой примеси, измеренных по отношению интенсивности спектральных линий основного материала электродов. Правда, попытки разработать методику анализа по абсолютной интенсивности не оставлены и в настоящее время. [c.597]

Неизменность экспериментальных условий из-за большого числа влияющих на интенсивность линий факторов обеспечить очень трудно. Поэтому в основе современных методов эмиссионного анализа помимо использования эталонов лежит прием, сводящий к мннийуму действие неизбежных вариаций условий возбуждения и связанных с ними вариаций интенсивностей спектральных линий. Этот прием заключается в измерении не абсолютных интенсивностей линий данного элемента или пропорциональных им величин, а относительных интенсивностей линий анализируемого элемента и элемента сравнения как функции концентрации. Так как при малых концентрациях примесей количество атомов основного элемента в разряде остается практически неизменным, элементом сравнения или внутренним стандартом обычно служит основной элемент пробы. Иногда элементом сравнения служит вводимый в анализируемые образцы и эталоны в одних и тех же количествах дополнительный элемент. Интенсивность линии внутреннего стандарта является, таким образом, той мерой интенсивности, сравнением с которой устанавливается интенсивность линии определяемого элемента. [c.42]

Как уже отмечалось выше, возможно и другое применение хЛ1етода относительных. интенсивностей. Независимым путем определяется Те, например, методом исследования контура линии томсоновского рассеяния лазерного излучеиия и, зная Тс, можно найти сечения различных процессов. Для этого следует определить относительные или абсолютные яркости линий, сечения возбуждения которых определяются. Этот метод применялся для определения сечений возбуждения линий ионов неона 62], линий изоэлектронного ряда лития (О VI, N V, Ne VIII) 63, 64, линий О VII [65] н линий N V [66]. Возбуждение линий N V происходит из основного состояния иона электронным ударом. Для плазмы достаточно низкой плотности распад возбужденных состояний ионов происходит только путем излучения и можно не учитывать вторичные процессы. Следовательно, общее число возбуждений равно общему числу испущенных фотонов. Это означает, что для определения сечения надо измерить абсолютную интенсивность спектральной линии, иайти Тс и N . [c.360]

В основе количественного анализа лежит зависимость интенсивности спектральных линий элементов от их концентрации в образце. Для установки количественного содержания элемента в сплаве пользуются оценкой относительной интесивности анализируемой спектральной линии и линии сравнения. В качестве линий сравнения служат специально подобранные линии основы, т. е. того элемента, который является основой исследуемого образца. Метод количественного анализа с помощью стилоскопа использует свойства глаза — его высокую чувствительность к установлению равенства (неравенства) интесивностей соприкасающихся световых полей. [c.394]

Визуальныйметодколичествен-ного спектрального анализа (метод Шайбе и Лиммера) заключается в том, что из числа линий спектра исследуемого сплава выбирают две одну, принадлежащую элементу главного компонента сплава, другую — элементу примеси. Длины волн выбранных линий не должны сильно отличаться друг от друга. Кроме того, линия примеси должна обладать достаточной интенсивностью и относительной чувствительностью. Интенсивности обеих линий по возможности не должны сильно зависеть от условий разряда и должны быть одинаковыми по щирине. [c.120]

В отличие от метода абсолютной интенсивности, применимого а условиях достаточной для насыщения линии концентрации излучающих атомов, метод относительных иктсксизностен может быть использован только в условиях малых концентраций. Причина такого ограничения заключается в том, что абсолютные интенсивности разных спектральных линий различны, и, следовательно, степень приближения их к состоянию насыщения будет разной. Поэтому отншпение интенсивностей г, определяемое формулой (12.5), не является однозначной мерой только температуры пламени, а определяется также степенью, в какой одна и другая спектральные линии далеки от состояния насыщения, т. е. от той области, в которой нарушается прямая пропорциональность интенсивности линии и концентрации излучающего элемента. Логарифмируя (12.5), получаем [c.420]

Приняв, />2, за постоянные величины, мо кно на основании приведенного соотношения рассчитать относительные интенсивности всех других линий. Для того чтобы получить абсолютные значения энергетических яркостей или силы света этих спектральных линий, необходимо знать это значенне хотя бы для одной какой-то линии, что можно получить, например, с помощью калиброванного термостолбика на том же спектральном приборе. Чтобы учесть потери на отражение и поглощение в приборе, это измерение проводится также по методу спектров срав-пения с эталонным источником. [c.441]

Метод фотометрического интерполирования для определения относительной интенсивности двух спектральных линий был подробно рассмотрен также в гл. 6, 4. В остальном ход спектрального анализа может принципиально оставаться обычным строится по эталонам постоянный график / , 1д с и по определенному с помощью фотометрического интернолирования значению lg/д для пробы определяется по графику значение 1д с. Градуировочный график в этом методе строят в большом масштабе самым тщательным образом, используя по возможности достаточно большой [c.608]

Спектроскопический метод дает возможность определять радиальное распределение темлературы в столбе на оснавании измерений относительной интенсивности одних и тех же спектральных линий в различных точках стол ба. Если в двух точках с температурами Г и Го интенсивности соответствуют 1 Т) и 1 То), то на основании выражения (8) имеем [c.26]

Измерение интенсивностей представляет собою по существу задачу фотометрическую и разрешается одним из способов, употребляемых в фотометрии. Измерениеабсолютныхинтенсив-ностей сводится к измерению энергии данного луча по его тепловому действию. Относительные интенсивности определяются по степени почернения, вызванного на фотографич. пластинке при этом, в виду того что не существует простой пропорциональности между степенью почернения и интенсивностью, на пластинку наносятся марки почернения с помощью ступенчатого светофильтра. Этот метод, разработанный Доргело и Орнштейном, пригоден для определения относительныхинтенсивпостей близких спектральных линий. В тех случаях, когда длины волн линий значительно отличаются друг от друга, следует принимать во внимание сильную зависимость чувствительности пластинок от цвета лучей. Эта зависимость м. б. выяснена, если воспользоваться спектром абсолютно черного тела, в котором распределение интенсивности по длинам волн дается формулой Планка. [c.311]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...