Подложки для осаждения магнитных

Первые слои осажденного покрытия повторяют контуры и несовершенства подложки, поэтому желательно использовать относительно гладкие подложки с как можно более случайным расположением кристаллов. Желательно применять подложки, близкие по кристаллической структуре и постоянной решетки к осаждаемому сплаву. Несоответствие постоянных решетки материала подложки и магнитной пленки приводит к появлению растягивающих или сжимающих напряжений, влияющих на магнитные характеристики. Кроме того, коэффициенты линейного расширения материала подложки и магнитной пленки должны быть достаточно близкими. [c.331]

Электрохимическая обработка снижает степень шероховатости подложки, устраняя на ее поверхности некоторые микродефекты, но не может устранить влияние структуры подложки на магнитное покрытие. Для этого применяют подслой, чаще всего из меди, который служит своеобразным демпфером между подложкой и магнитной пленкой. Этот способ используют при производстве цилиндрических магнитных пленок (ЦПМ), а также магнитных дисков и барабанов. Под осаждение цилиндрических магнитных пленок рекомендуется двойное покрытие медью [7.4 ]. В этом случае сначала наносят покрытие из электролита № 2 (см. табл. 7.1). Покрытия толщиной 1,7—1,9 мкм обладают равномерностью и хорошей адгезией к поверхности подложки. Второе покрытие — медью из электролита № 1 толщиной 0,4—0,5 мкм. Вместо электролита № 2 можно использовать пирофосфатный электролит (табл. 7.1, № 3), [c.332]

Это, а также возможность осаждения магнитных покрытий на неметаллические подложки (стекло, керамику, пластмассы и др.) способствует проявлению интереса к этому методу. Подробные сведения об этом методе даны в литературе [7.14]. Составы электролитов и условия осаждения — см. в табл. 7.6 [7.151. [c.343]

Подложки для осаждения магнитных пленок 331 [c.732]

Тонкие магнитные пленки представляют собой твердотельные магнитные среды, в которых возможно управление зарождением, перемещением, фиксацией и аннигиляцией каждого домена. Они находят применение в логических и запоминающих системах, а также в различных магнитно-оптических устройствах. Для управления перемещением и фиксацией доменов необходимо, чтобы их магнитные поля выходили во внешнее пространство, а поэтому толщина пленки должна быть соизмерима с размерами доменов. Пленки такой малой толщины не могут применяться без немагнитных подложек, выполняемых из металлов, стекла, слюды, гранатов и других подходящих материалов. Пленки наносят на подложки напылением в вакууме, электрохимическим осаждением и эпитаксией. Покрытие подложек можно выполнять и из тонких пластинок, вырезанных из монокристаллов, которые прочно укрепляют на подложке и доводят полировкой до необходимой толщины. [c.481]

В магнетронных системах, в которых конфигурация магнитного поля создает ловушку для вторичных электронов, способных производить дополнительную ионизацию, скорость осаждения выше, чем в обычных диодных системах. Магнитное поле перпендикулярно к электрическому, и электроны описывают замкнутые тороидальные траектории. Благодаря этому подложка оказывается изолированной от вторичных электронов. Магнитное поле, прижимая плазму к поверхности катода, предохраняет подложку [c.425]

На тончайшую подложку был осажден радиоактивный Со °, ядра которого парамагнитны (имеют постоянные магнитные моменты). Во внешнем. магнитном поле такие ядра одинаково ориентируются по полю, а поскольку направление магнитного момента связано с направлением спина ядра, то происходит и ориентация [c.269]

Тонкие пленки изготовляют методом испарения магнитного материала в вакууме с последующим осаждением его на поверхности подложки методом катодного распыления в атмосфере газа, и электролитическим методом, Наибольшее распространение получил первый метод. [c.316]

В связи с этим был разработан метод осаждения кремния на индуктивно нагреваемой подложке из кремния высокой чистоты. Соответствующий прибор показан на фиг. 1. Индукционный нагрев кремниевой подложки осуществлялся после предварительного нагрева ее с помощью графитового нагревателя, заключенного в кварцевую трубу. Силан при пониженном давлении направлялся на подложку при помощи водоохлаждаемого жиклера. Сам кварцевый аппарат, в котором находилась подложка, охлаждали посредством водяной рубашки для предотвращения осаждения металлического кремния на стенках камеры. Подложка перемещалась внутри камеры при помощи наружного магнитного устройства. [c.32]

Осажденные частицы выстраиваются на поверхности подложки в цепочки, перпендикулярные направлению течения смазки, причем большие частицы располагаются на входе, а малые — на выходе подложки. Кроме того, осаждение частиц определяется значением их магнитного момента. Ферромагнитные частицы осаждаются первыми, парамагнитные и диамагнитные—далее на подложке. После того как вся порция жидкости стечет с подложки, по ней пропускают растворитель и фиксирующий раствор. После высыхания феррограмма готова для дальнейшего исследования — качественного или количественного. Качественное исследование состоит в наблюдении морфологии частиц под микроскопом или в определении типа частиц изнашивания с помощью бихроматического микроскопа (использование красного и зеленого светофильтров позволяет определять наличие окислов по их окраске), или с помощью разогрева феррограммы и наблюдения частиц изнашивания под микроскопом (при 330° С частицы низколегированной стали становятся голубого цвета, дальнейшее нагревание приводит к тому, что частицы чугуна покрываются голубыми пятнами). Для количественного анализа частиц используются два основных метода. Один из них — метод прямого считывания, состоящий в вычислении показателя изнашивания, который обычно выражается через оптические плотности осадка на входе и на выходе феррограммы. Показатель износа зависит от степени разбавления пробы, что учитывается с помощью фактора разбавления. [c.190]

Указанные недостатки преодолены во вращательной системе осаждения частиц (ВСО), созданной в 80-х годах [85]. Принцип действия системы основан на одновременном воздействии на пробу масла, помещенную на подложку, гравитационного и магнитного полей. Специальная конфигурация магнитного поля и выбор скорости вращения подложки с пробой обеспечивают осаждение частиц, содержащихся в масле, в трех концентрических окружностях. Частицы размером больше 50 мкм осаждаются на внутреннем кольце вместе с некоторой частью мелких частиц. Во втором кольце выпадают частицы размером 10—50 мкм и немного частиц размером менее 10 мкм. Более мелкие частицы содержатся в наружном кольце. Большая часть неметаллических частиц осаждается в наружном (третьем) кольце. После осаждения частиц осадок промывают растворителем и высушивают. Полученный осадок может, так же как и при феррографии, подвергаться качественному и количественному анализу. Для проведения количественного анализа осадка, полученного с помощью ВСО, обычно применяется специально разработанный счетчик частиц [85], представляющий собой магнитометр переменного тока. Для определения содержания частиц изнашивания пробу помещают в торроидальную чувствительную катушку и измеряют разбаланс системы с помощью цифрового индикатора. [c.191]

Конденсация из парообразного состояния. Этот метод основан на испарении веществ в высоком вакууме или на катодном распылении и быстрой конденсации атомных или молекулярных паров. Если скорость испарения высока, а температура подложки низка, то в большинстве случаев происходит неупорядоченное осаждение. При этом величина когерентно рассеивающих зон в решетке может стать настолько малой, что возникает квазиаморфное состояние. Изготовленные таким образом металлические пленки существенно отличаются по своим свойствам (электрическим, оптическим, магнитным, механическим) от крупно- или монокристаллитных пленок. Если отжигать эти нестабильные, сильно разупорядоченные пленки, то происходит переход от активного состояния к упорядоченному. Этот переход становится заметным по скачкообразному изменению различных свойств. [c.446]

Структура осаждаемых магнитных пленок зависит от скорости испарения и температуры образования пленки. Так, например, пленка 80%-ного пермаллоя, полученная на подложке при температуре 350° С будет иметь коэрцитивную силу около I э, а осажденная при 550° С и при той же скорости испарения — 10 5, т. е. повышенная миграционная подвижность во время формирования пленки приводит к высокой степени ее упорядочения. [c.168]

Основными спектроскопическими методами, пригодными для изучения матрично-изолированных молекул, являются электронная абсорбционная и эмиссионная спектроскопия в видимой и УФ-областях, ИК-спектроскопия поглощения и электронный парамагнитный резонанс (ЭПР). Электронные и колебательные спектры поглощения получают обычно на образцах, осажденных на охлажденных подложках, которые прозрачны в данной спектральной области (рис. 1.1, а). Эксперименты по электронной эмиссионной спектроскопии, которые включают возбуждение молекул под действием интенсивного облучения и регистрацию излучения матрицы спектрометром, удобнее проводить с образцом, осажденным на металлической подложке (рис. Л,б). Такая схема пригодна и для получения спектров комбинационного рассеяния (КР). В ЭПР-экопериментах образец находится в резонаторе ЭПР-спектрометра под действием сильного магнитного поля и радиочастотного излучения, поэтому матрицу часто осаждают на стержень или пластину из синтетического сапфира (рис. 1.1, в). [c.11]

Наличие двух критич. углов в (4) служит прямым подтверждением того, что спин нейтрона i = 1/2, т. к. полное число критич. углов равно 2г 1. Если магнитное слагаемое в (4) по абс. величине окажется больше ядерного, то будет наблюдаться один критич. угол скольжения. При этом полностью отраженные нейтроны будут поляризованы. Т. о., для получения поляризованных нейтронных пучков можно пользоваться магнитными зеркалами, для к-рых выполнено неравенство р (Ь) < (т/2лй2) 5. В качестве таких зеркал применяют намагниченные кобальтовые зеркала (при В >0,65 насыщ)- Они представляют собой тонкий ( 0,2 мм) слой кобальта, к-рый гальванич. путем осажден на медной подложке. Этот метод пмеет два достоинства дает полностью поляризованный пучок и пригоден для поляризации нейтронов с любой энергией, т. е. не требует монохроматизации падающего пучка. Применение кобальтовых зеркал позволило получить поляризованные пучки нмпронов с интенсивностью 10 нейтронов/жмк. Подробнее о получении полярп-зованных нейтронных пучков см. Поляризация нейтронов. [c.384]

П. ф. получают вакуумным или катодным распылением металлов или сплавов, электролитич. осаждением, термич. разложением паров карбонилов и др. методами. Ферритные пленки могут быть получены напылением, а также окислением металлич. пленок в соответствующей атмосфере. Получены 11. ф. как в ноли-, так и в монокристаллич. состояниях. Свойства П. ф. зависят от их состава, способа изготовления, кристаллич. структуры и темп-ры подложки, магнитного поля, действующы о во время образования пленки, и др. факторов [2,4,6]. [c.44]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...