Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...

Статьи Чертежи Таблицы О сайте Реклама

Экспозиция

Копии могут Сыть выполнены на типографской или писчей бумаге, на кальке, пластиковой пленке, а также на офсетной фольге (при наличии специального устройства ЭРА-Ф). С одной экспозиции можно получить 1 5 копий.  [c.274]

В электрофотографических ПчУ скрытое электрическое изображение получается на фотополупроводниковом барабанном или ленточном промежуточном носителе. Для экспозиции изображения используют либо источники света, либо лазерные источники излучения. Перенос изображения на обычную бумагу производится порошковым проявителем. Типичный диапазон скоростей печати составляет 5000... 25 ООО строк/мин, качество изображения высокое. Вследствие высокой стоимости электрофотографические ПчУ целесообразно применять в системах с очень большим объемом выводимой информации.  [c.48]


Определение изменения массы образцов после экспозиции в средах  [c.36]

Определение изменения механических свойств образцов после экспозиции в сре,цах  [c.36]

Световой поток относительно небольшой интенсивности может осуществить на поверхности лишь весьма ограниченные изменения экспозицию специальных светочувствительных материалов или выцветание некоторых красок.  [c.125]

Наиболее простой вид решение имеет в случае линейной зависимости объема повреждений материала от времени экспозиции. При этом = й = Ь. Тогда  [c.122]

Для получения парабол, удовлетворяющих требованиям точных исследований, необходимо брать очень узкую диафрагму и выбирать очень длительную экспозицию, что становится практически неприемлемым.  [c.56]

Описанный способ применяется для исследования деформаций предметов, их вибраций, поступательного движения и вращений, неоднородности прозрачных объектов и т. п. На рис. 11.16 приведена фотография изображения шарикового подшипника, сжатого в патроне токарного станка. Интерференционная картина наглядно свидетельствует о различии деформаций при двух значениях силы сжатия, о чем говорят два положения стрелки тензометра (левая часть рисунка), зарегистрированные во время двух последовательных экспозиций.  [c.270]

Ячейка Керра, работающая в электрическом поле короткого мощного светового импульса, может служить фотографическим затвором, который позволяет делать время экспозиции порядка 10 с. Она с успехом применяется для изучения длительности люминесценции и других молекулярных процессов. Ячейка Керра, подобная изображенной на рис. 27.2, может служить для модуляции интенсивности света необходимо только питать конденсатор напряжением высокой частоты.  [c.536]

Согласно закону Рэлея распределение энергии в рассеянном свете отличается от распределения в первичном свете относительно большей ее величиной в коротковолновой части спектра. Качественное представление о характере явления дает рис. 29.12, на котором изображены фотографии спектра прямого света ртутной лампы и спектра той же лампы в свете, рассеянном в воздухе. Экспозиции подобраны так, чтобы были приблизительно равны интенсивности для линий большой длины волны. Тогда различие интенсивностей в более коротковолновой части спектра выступает отчетливо.  [c.600]

Используя таким образом вторичные химические процессы, удается получить негатив после времени экспозиции, составляющего малую часть секунды.  [c.671]

Благодаря огромному прогрессу в изготовлении фотографических пластинок и пленок применение фотографии в науке и технике достигло крайне широкого распространения. Не говоря уже о возможности фотографической фиксации ультрафиолетовых и инфракрасных лучей, недоступных прямому наблюдению глазом, фотография оказывает незаменимые услуги при запечатлении очень кратковременных процессов (электрическая искра, например, при времени экспозиции 10 —10 с, импульсы лазерного излучения длительностью 10 —10 с) или процессов крайне слабой интенсивности, требующих использования очень длительной экспозиции. Исключительно многообразны применения фотографии в астрономии и астрофизике. В репродукционной технике фотография занимает важнейшее место (цинкография и т. д.). Наконец, вся кинематографическая техника основана на достижениях фотографии.  [c.673]


Голограмма имеет громадную информационную емкость. В пределе для бинарной информации (т. е. для информации, принимающей только два значения, например О или 1) и при использовании гелий-неонового лазера с /- = 0,6328 мкм она составляет Л =1,8- 10 бит/см (бит— единица бинарной информации), т. е. на одной фотопластинке можно получить множество голограмм различных предметов путем некогерентного последовательного наложения волновых фронтов и затем раздельного восстановления изображений. Одна из возможностей такой записи заключена в использовании при каждой экспозиции опорных пучков, падающих под различными углами.  [c.26]

Важное значение имеет чувствительность фотоэмульсии, поскольку она определяет необходимую для получения голограммы экспозицию. Чувствительность фотослоя к различным длинам волн неодинакова. Кроме того, при изменении длины волны меняется разрешающая способность носителя, которая обычно падает при смещении длины волны излучения в сторону синего цвета.  [c.37]

Обычно голографическая схема включает в себя около десятка оптических элементов, каждый из которых зажимается в специальные оправы, имеющие необходимые юстировочные степени свободы. Стабильность положения оптических. элементов в голографической схеме должна удовлетворять жестким требованиям виброустойчивости. Так, смещение любых частей установки во время выдержки не должно приводить к изменению разности хода между интерферирующими пучками, большему чем л/4. При разности хода в л/2 интерференционная картина полностью размывается. Из опыта следует, что для получения высококачественной голограммы необходимо, чтобы отражающие или рассеивающие свет оптические. элементы (а к ним относится и изучаемый объект) не смещались более чем на >./8. К элементам, пропускающим световые пучки, предъявляются менее жесткие требования. Для того, чтобы во время экспозиции не происходило смещения интерференционной картины, все. элементы голографической схемы жестко крепят на едином основании—оптической скамье или плите. Однако при больших экспозициях. этого бывает недостаточно, так как за счет вибрации и нестабильности температуры также может происходить смещение интерференционной картины в плоскости регистрирующей среды. По.этому голографические установки дополнительно раз-  [c.39]

Необходимый профиль киноформа можно изготовить искусственно с помощью ЭВМ либо посредством фотографирования колец Ньютона, когда во время экспозиции производят программированное передвижение оптических деталей, которые образуют интерференционную картину 60  [c.60]

Первым прибором такого типа, выпуск которого был налажен отечественной промышленностью, является голографический интерференционный микроскоп МГИ-1. Прибор предназначен для измерений методом реального времени или методом двух экспозиций, а также для получения голограмм прозрачных подвижных микрообъектов и наблюдения восстановленных изображений. Он может работать с лазером — как с импульсным, так и непрерывного действия.  [c.86]

Рентгеновское просвечивание основано на различном поглощении рентгеновского излучения участками металла с дефектами и без них. Сварные соединения просвечивают с помощью специальных рентгеновских аппаратов. С одной стороны шва 3 на некотором расстоянии от него помещают рентгеновскую трубку /, с другой (противоположной) стороны к нему плотно прижимают кассету 4 с рентгеновской пленкой (рис. 5.56, а). При просвечивании рентгеновские лучи 2 проходят через сварное соединение и облучают пленку. Для сокращения экспозиции просвечивания в кассету с пленкой закладывают усиливающие экраны. После проявления пленки на ней фиксируют участки повышенного потемнения, которые соответствуют дефектным местам в сварном соединении. Вид и размер дефектов определяют сравнением пленки с эталонными снимкамн.  [c.244]

Иаб.лвдение за изменением внешнего вида и размеров образцов после экспозиции в коррозионных средах  [c.36]

Масштабный множитель С1 определяется отношением действительного расстояния, пройденного частицей в направлении потока за время одной экспозиции, к соответствующему расстоянию между двумя пос.ледовательными световыми пятнами на фиг. 2.28, а. Введение этого множителя позволяет выбирать произвольный. масштаб по оси абсцисс на фиг. 2.28, как здесь и было сделано.  [c.99]


Наряду с рентгенографированием, т. е. экспозицией на пленку, применяют рентгеноскопию, т. е. получение сигнала о дефектах при просвечивании металла на экране. Экран покрывают флюоресцирую- щими веществами (платино-синеродистый барий, сернистый цинк и др.), которые дают свечение при действии рентгеновского излучения В связи с различной степенью поглощения излучения в разных участках металла свечение различно. Контроль рентгеновским излучением с использованием экранов применяют в сочетании с телевизионными устройствами, преобразующими рентгеновское изображение в видимое (установка типа РИ — рентгенотелевизионный интроскоп). Чувствительность рентгеноскопического контроля не уступает рентгенографическому (1% и более), а производительность выше. Преимуществом рентгенографии является наличие документа о качестве соединения в виде пленки.  [c.150]

Прежде всего, нужно указать, что число отраженных кристаллов на освещенной площадке исследуемого образца измеряется одним-двумя десятками. Поэтому на пленке образуется не непрерывная линия затемнения, а десятка два разной величины засвечсниы.х точек, расположенных на окружности радиуса /г. Чтобы осредмить результат, пленку во время экспозиции вращают вокруг оси исходного рентгеновского пучка.  [c.530]

Анализ и исследование микроструктуры, полученной на репликах, производятся в лабораторных условиях на стационарных металлографических микроскопах (МИМ-7, МИМ-8, МИМ-9, Neofot и др. при любом увеличении до 500-1000-кратного), настроенных, на косое освещение с помощью призмы (а не отражательной пластины). Экспозицию при фотографировании микроструктуры с оттисков необходимо  [c.326]

В контрольных опытах было установлено, что в неингиби-рованной среде NA E образцы из стали 45 не разрушаются за 720 ч при пороговом напряжении (о ез ик) в пределах 0,3-0,31стт. В ингибированной среде определяли пороговые напряжения (а при которых образцы не разрушались после 720 ч экспозиции.  [c.256]

Голографирование. Восстановление изображения предмета. Уширенный с помощью простого оптического устройства пучок лазера (рис. 8,1) одновременно направляется на исследуемый объект и на зеркало. Отраженная от зеркала опорная волна и рассеянная объектом световая волна надают на обычную фотопластинку, где происходит регистрация возникшей сложной интерференционной картины. После соответствующей экспозиции фотопластинку проявляют, в результате чего получается так называемая голограмма — за[)егнстрнро-ванная на фотопластинке нптерфереици-онная картина, полученная при наложе-пип опорной н предметной воли. Голограмма внешне похожа на равномерно засвеченную пластинку, если не обращать внимания иа отдельные кольца н нятна, возникшие вследствие дифракции света на пылинках и не имеющие отношения к информации об объекте.  [c.206]

Малейшее изменение формы объекта из-за деформащп в промежутке между двумя регистрациями изменяет фазу п[)едметной волны. Следовательно, если в промежуток времени между двумя экспозициями (важно, чтобы фотопластинка не сдвинулась между двумя экспозициями) произошли какие-то деформации, то при просвечивании этих голограмм увидим изображение объекта, перерезанное интерференционными полосами, но форме которых можно судить о характере деформации. Точность измерения этого метода весьма высокая он позволяет измерить деформации порядка десятой доли микрона. Возможности ко[1троля размеров, формы и качества обработки сложных деталей с помощью голографии сделают этот метод наиболее ценным в производстве.  [c.222]

Также методом малоуглового рассеивания рентгеновских лучей (установка КРМ-1, излучение СиК , отфильтрованное никелевым фильтром, напряжение 30 мВ, ток 16 мА, экспозиция 400 с в каждой точке отсчета) определяли минимальный размер устойчивых частиц, выделенных из анализируемых сталей. Их размер связали с устойчивым зародышем кристаллизации на фуллерене (R< ).  [c.223]

Полученные результаты имеют не только научное, но и практическое значение, потому что именно этими временами определяется время существования двойного лучепреломления в электрическом поле (явление Керра, см. 152) и, следовательно, эти времена определяют минимальную экспозицию при использовании ячейки Керра в качестве фотографического затвора. Такой затвор теперь находит широкое применение при исследовании различных бы-стропротекающих процессов и имеет другие практические применения.  [c.598]

Продолжительность экспозиции фотопластинки определяется ее чувствительностью и мощностью лазера. Облучением фотографической пластинки процесс регистрации заканчивается. Записанное на ее поверхности изображение и есть голограмма. Она представляет собой.чрезвычайно сложную картину, состоящую из множества тонких причудливых линий, в которых невозможно усмотреть никакого сходства с реальным предметом. При дневном свете она покажется однородно серой обнаружить хоть малей-щие намеки на изображение, закодированное в ее структуре, не представляется возможным. С первого взгляда голограмму можно принять за обычный, покрытый вуалью фотонегатив. Более пристальное изучение голограммы под микроскопом открывает нашему взору запутанную картину изогнутых темных линий — интерференционных по лос.  [c.19]

Имеется несколько вариантов метода голографической интерферометрии метод двух экспозиций, метод реального времени, метод усреднения во времени и стробогол01 ра-фический метод.  [c.28]

Второй метод голографической интерферометрии — метод реального времени — соответствует методу двух экспозиций. Разница между ними заключается лишь в том, что при использовании реального времени вместо второй экспозиции голографическое изображение непосредственно интерферирует с предметом, с которого получена голограмма. При восстановлении опорный и объектный пучки освещают голограмму и объект, с которого она получена. Отраженные волны интерферируют между собой. Это позволяет сравнить реальный объект с идеальным , т. е. эталонным объектом. Он может быть представлен, например, 1 олограммой, синтезированной на ЭВМ.  [c.29]

Первые лазерные голограммы были получены с помощью гелий-неонового лазера с длиной волны излучения >,==0,6328 мкм, работающего на нейтральных атомах. Существующие гелий-неоновые лазеры могут генерировать непрерывные колебания также в ближней инфракрасной области спектра на следующих длинах волн 1,15 мкм и 3,36 мкм, имеющие узкие спектральные линии, что позволяет с их помощью получать 1олограммы сцен глубиной в несколько десятков метров. Однако малая мощность излучения таких лазеров (0,1—0,5 мВт) ограничивает возможность их применения, так как в. этом случае для получения голограммы требуется большое время. экспозиции, составляющее десятки минут. При увеличении мощности гелий-неоновых лазеров путем увеличения длины газоразрядной трубки увеличивается и ширина спектральной линии, так что при мощности 100 мВт гелий-неоновый лазер позволяет регистрировать сцены глубиной не более 20 см.  [c.36]


Подставка имеет четыре опоры, на которые опирается плита в нерабочем состоянии, и крышку для размещения воздушных подушек системы виброизоляции. В рабочем положении подушки наполняются воздухом с избыточным давлением 0,01—0,02 МПа. В результате обеспечиваемся хорошая виброизоляция плиты, что позволяет получать в опытных лабораторных условиях высококачественные голограммы с. экспозициями до 1 ч. Для крепления рейтеров с оптическими. элементами на рабочей поверхности плиты имеются продольные Т-образные пазы. Габаритные размеры установки 800X1500X1200 мм, масса около 1200 кг.  [c.72]

Рассмотрим метод получения голографической топо-граммы объекта, носящий название метода двух источников. При ЭТОМ методе производится регистрация двухэкспозиционной голографической интерферограммы объекта по обычной схеме Лейта. За время между экспозициями освещающий пучок с плоским волновым фронтом поворачивают зеркалом на угол а, что фактически эквивалентно изменению положения источника освещения (рис. 42, а). Голографическая интерферограмма будет восстанавливать два изображения объекта, которые интерферируют между собой и вследствие наличия разности фаз на изображении возникнут интерференционные полосы, характер которых определяется формой поверхности объекта, а также углами между биссектрисой угла а и направлением наблюдения интерферограммы Я. Возникновение интерференционных полос можно объяснить еще и тем, что при повороте освещающего пучка в области их перекрытия возникает система интерференционных плоскостей А, которые пересекают изображение предмета параллельно биссектрисе угла а.  [c.104]

Рассмотрим принципы работы голографического интерферометра фазовых объектов на примере метода голографической интерферометрии двух экспозиций, хотя в. зтом приборе можно применять и другие известные методы (например, метод реального времени). Основы метода двух экспозиций и возможности его практического применения были рассмотрены в гл. 1. Голографическая интерферометрия фазовых объектов отличается следующими особенностями. Во время первой. зкспозиции фотопластинка в голографическом интерферометре освещается опорной и объектной волнами при отсутствии в рабочей  [c.106]


Смотреть страницы где упоминается термин Экспозиция : [c.120]    [c.116]    [c.327]    [c.39]    [c.39]    [c.47]    [c.121]    [c.222]    [c.361]    [c.671]    [c.745]    [c.28]    [c.29]    [c.48]    [c.67]    [c.107]   
Оптическая голография Том1,2 (1982) -- [ c.102 , c.108 ]

Введение в экспериментальную спектроскопию (1979) -- [ c.120 ]

Оптика (1986) -- [ c.67 ]

Архитектурное проектирование общественных зданий и сооружений Издание 2 (нет страниц 321-352) (1985) -- [ c.205 , c.206 ]

Фотоаппараты (1984) -- [ c.4 ]

Внедрение Международной системы единиц (1986) -- [ c.0 ]

Инженерный справочник по космической технике Издание 2 (1977) -- [ c.368 ]

Теория оптических систем (1992) -- [ c.109 , c.253 ]



ПОИСК



333— Методы прямой экспозиции

339—342 — Материалы 340 — Номограмма экспозиций 341 — Чувствительность

339—342 — Материалы 340 — Номограмма экспозиций 341 — Чувствительность Дефектоскопия электронами

339—342 — Материалы 340 — Номограмма экспозиций 341 — Чувствительность Дефектоскопы 11 — Чувствительност

339—342 — Материалы 340 — Номограмма экспозиций 341 — Чувствительность характеристики

Автоматическая установка экспозиции при съемке с лампами-вспышкями

Алюминий влияние глубины экспозици

Алюминий и его сплавы длительности экспозици

Бериллий длительности экспозиции

Благородные влияние глубины и длительности экспозиции

Бронзы длительности экспозици

Бронзы коррозия, влияние глубины экспозиции

Вычисление усредненной ОПФ при короткой экспозиции

Голографическая интерферометрия сфокусированных изображений методом двух экспозиций

Голография всего предмета и двойная экспозиция

Дифференциальный интерферометр для прозрачных объектов, основанный на фоторегистрации спекл-структуры за две экспозиции

Длительность экспозиции

Длительные и короткие экспозиции

Зона постоянной экспозиции

Зона постоянной экспозиции стерильности

Измерение экспозиции и его автоматизация в фотоаппаратах

Кинемато рафическая съемка с большой экспозицией

Коэффициент экспозиции

Латуни длительности экспозици

Латуни коррозия, влияние глубины экспозиции

Магний влияние глубины и длительности экспозиции

Медноникелевыс влияние глубины экспозици

Медноникелевыс сплавы длительности экспозици

Медь влияние глубины и длительности экспозиции

Метод двойной экспозиции

Метод двойной экспозиции, см также

Метод двух экспозиций

Нержавеющие влияние глубины и длительности экспозиции

Несколько экспозиций на одной фотопластинке

Никелевомедные влияние глубины экспозици

Никелевомедные сплавы длительности экспозици

Никелевые влияние глубины и длительности экспозиции

Никель влияние длительности экспозиции

Ниобий длительности экспозиции

Номограммы гамма - экспозиций

Номограммы рентгеновских экспозиций

Номограммы экспозиций

ОПФ при длительной экспозиции, выраженная через волновую структурную функцию

Объектная слагающая экспозиции

Олово влияние глубины экспозици

Олово длительности экспозици

Опорная слагающая экспозиции

Определение коррозионных потерь металла при продолжительной экспозиции

Определение экспозиции

Оптическая передаточная функция при длительной экспозици

Оптическая передаточная функция при короткой экспозици

Пленки радиографические 262 - Классификация и характеристики 262 - Номограммы для определения времени экспозиции

Подбор фотобумаги к негативу и экспозиция при печати

Попов (НРБ). Номограммы для определения экспозиции при гамма-графировании

Практическая чувствительность и время экспозиции при фотографическом методе дефектоскопии просвечиванием

Радиография Метод прямой экспозиции

Регистрация при непрерывном перемещении фотопластинки во время экспозиции

Регистрация с изменением длины световой волны и смещением фотопластинки между экспозициями

Регистрация с изменением длины световой волны между экспозициями

Регистрация спеклограмм при смещении объекта во время экспозиции

Режим измерения времени экспозиции

Рентгенопросвечивание выбор экспозиции

Световая экспозиция

Световая экспозиция относительная

Свинец влияние глубины экспозици

Свинец длительности экспозици

Системы измерения экспозиции через съемочный объект.ив

Стали влияние глубины экспозици

Стали длительности экспозици

Титан и его сплавы влияние глубины и длительности экспозиции

Тугоплавкие металлы й сплавы длительности экспозици

Тугоплавкие металлы й сплавы коррозия, влияние глубины экспозиции

Усредненная оптическая передаточная функция (ОПФ) при длительной экспозиции

Усредненная оптическая передаточная функция (ОПФ) при короткой экспозици

Установка экспозиции автоматическая

Чугуиы длительности экспозиции

Эйнштейн экспозиция лучистая

Экспозиции (c-иетовая сумма)

Экспозиции длительные

Экспозиции короткие

Экспозиция единица измерения

Экспозиция измерение детальное

Экспозиция интегральное

Экспозиция крайнего зерна

Экспозиция открытая

Экспозиция прямое

Экспозиция резиста

Экспозиция через съемочный объек

Экспонометрические устройства фотоаппаратов — Системы автоматизированной установки экспозиции

Энергетическая экспозиция

Энергетические и фотометрические величины. Энергетические величиныЭнергетическая сила излучения. Энергетическая яркость. Энергетическая светимость. Энергетическая освещенность. Фотометрические величины Световой поток. Яркость. Светимость. Освещенность. Световая экспозиция. Соотношения между энергетическими и. световыми характеристиками излучения Задачи

Эффект прерывистой экспозиции



© 2025 Mash-xxl.info Реклама на сайте