Пленки аморфные оксидные

Окисление при невысоких температурах (менее 800 К) позволяет получать аморфные оксидные пленки толщиной около 5—10 нм, [c.256]

При МЛ идут конкурирующие процессы — деформирование и разрушение частиц и схватывание их друг с другом. В результате обнажения поверхностей частиц, освобождающихся от оксидных пленок, формируются ювенильные активированные поверхности. По мере увеличения продолжительности процесса МЛ в материале Ni — 30% А1 возрастает объемная доля алюминидов. Отмечено, что при МЛ удается поднять свободную энергию микрокристаллических интерметаллидов до энергии аморфного сплава, так как в результате интенсивной пластической деформации растет искаженность кристаллической решетки и при критической концентрации дефектов может произойти твердофазный переход пластической фазы в аморфную. [c.314]

Структурными дефектами являются кристаллические дефекты в аморфных пленках — кристаллы самого материала пленки или же инородных включений. Химическими дефектами следует считать инородные включения загрязнения, попадающие из среды, в которой образуется пленка (пузырьки газа, анионы электролита, вещество испаряющихся электродов и т.п.), а также локальные нарушения состава пленки, например появление в оксидных пленках низших оксидов основного материала или оксидов примесей. Возможно появление дефектов типа микротрещин, пор и флуктуаций толщины. Все эти дефекты в той [c.263]

Метод электронной дифракции представляет интерес для расшифровки структур, особенно при наличии высокодисперсных фаз (формирующихся карбидов, различных новообразований), линии которых невозможно измерить, а иногда и обнаружить при рентгенографическом анализе. Электронографию широко используют для изучения поверхностных слоев толщиной несколько нанометров, а также специально приготовленных тонких пленок. Так, изучение оксидных пленок, возникающих на металле в начальной стадии окисления, дало богатый материал для теории процесса окисления, явления пассивирования металлов. В вопросах исследования аморфных слоев металла при полировании, трении, тонкопленочных объектов методы электронной дифракции незаменимы. [c.65]

Оксидная пленка состоит из смеси аморфной окиси алюминия и /АЬОз. Удельный вес пленки равен 2,79ч-3,25. Внешний вид, краска и однородность пленок, помимо способа получения, зависят также от состава и состояния алюминиевого сплава. [c.16]

Оксидная пленка, образующаяся в результате анодного окисления алюминия, хорошо защищает от атмосферной коррозии, служит прекрасным грунтом под лакокрасочное покрытие, прочно адсорбирует анилиновые красители, окрашивается ими в различные цвета, легко пропитывается различными лаками, маслами, компаундами. Пленка устойчива к воде и некоторым минеральным кислотам, однако легко растворяется в щелочах. Она состоит из кристаллической у-модификации АЬОз и аморфной окиси алюминия. [c.164]

Первые данные электронографии вызвали оживленную дискуссию. Два расплывчатых кольца, обычно видимые на снимках полированного образца, были приняты некоторыми исследователями за доказательство аморфной природы поверхности, тогда как другие объясняли их поверхностной оксидной пленкой. [c.63]

В двухслойных покрытиях типа I и II увеличение массы образцов при температуре 1100 °С и давлений 10" , 10" , 1 мм рт. ст. связано с образованием на поверхности образцов защитной аморфной оксидной пленки S1O2 и наличием в верхнем слое покрытия элементов Ti, А1, Be, Fe, оксиды которых не испаряются и частично растворя- [c.199]

Взаимодействие кислорода с чистой поверхностью металла протекает в три этапа I) адсорбция кислорода, 2) иуклеация, т. е. образование зародышей, 3) рост сплошной оксидной пленки. На первых стадиях адсорбции пленка состоит из атомов кислорода, так как свободная энергия адсорбции атомов кислорода превышает свободную энергию диссоциации его молекул. Методом дифракции медленных электронов удалось установить, что атомы некоторых металлов входят в состав адсорбционной пленки и образуют относительно стабильную двухмерную структуру из ионов кислорода (отрицательно заряженных) и металла (положительно заряженных). Как уже говорилось в отношении пассивирующей пленки (разд. 5.5), адсорбционная пленка, составляющая доли монослоя, термодинамически более стабильна, чем оксид металла. На никеле, например, она сохраняется вплоть до точки плавления никеля [1 ], тогда как NiO разрушается вследствие растворения кислорода в металле . Дальнейшая выдержка при низком давлении кислорода ведет к адсорбции на металле молекул Оа, проникающих сквозь первичный адсорбционный слой. Так как второй слой кислорода связан менее прочно, чем первый, он адсорбируется не диссоциируя. Возникающая в результате структура более стабильна на переходных, чем на непереходных металлах [2]. Любые дополнительные слои адсорбированного кислорода связаны еще слабее, и наружные слои становятся подвижными при повышенных температурах, о чем свидетельствуют рентгенограммы, отвечающие аморфной структуре. Вероятно, ионы металла входят в многослойную адсорбционную пленку в нестехиометрических количествах и к тому же относительно подвижны. Например, обнаружено, что скорость поверхностной диффузии атомов серебра и меди выше в присутствии адсорбированного кислорода, чем в его отсутствие [3]. [c.189]

Упомянутая гетероструктура Si/Si02 явилась предметом большого числа теоретических [159—166] и экспериментальных работ [167—171], 1де обсуждались электронные состояния контактирующих как аморфных, так и кристаллических Si и Si02. При анализе результатов основное внимание уделялось собственно интерфейсным электронными уровням, моделировались также структурные и химические состояния межфазной зоны ( эффекты слоевых релаксаций, образование промежуточных субоксидных слоев, наличие точечных дефектов в области интерфейса), известны попытки МД-моделирования кинетики и механизма роста оксидных пленок на Si. [c.171]

Существует также миеиие, что роль углерода в формировании оксидной пленки не столь уж скромна и что углерод может значительно улучшить коррозионные свойства аморфных сплавов. Так в [47] показано, что коррозионная стойкость сплава Fe—Сг—Р—С значительно выше стойкости сплава Fe— Сг—Р присутствие углерода улучшает параметры пассивации на два порядка. Такое благоприятное влияние углерода на процесс пассивации связывают с образованием на поверхности аморфного сплава химически стойких комплексов с карбофосфидной координацией атомов [43 44]. Прим. ред. [c.267]

Оксидные покрытия на алюминии состоят главным образом из Y-AI2O3, наряду с которым могут быть другие модификации в кристаллической или аморфной фазе. Пленка содержит также воду и анионы электролита, в котором проводили оксидирование, причем последние лишь частично удаляются при промывке, а другая их часть остается связанной с оксидным слоем. [c.231]

Оксидные пленки на меди, железе и алюминии быстро растут при комнатной температуре до толщины порядка 200—400 нм. Термическое оксидирование чистого алюминия при 425 С и выше приводит к образованию как аморфной, так и кристаллической оксидной пленки в модификации = А1гОз. Аморфная пленка создается благодаря диффузии ионов алюминия через оксид, а кристаллическая образуется в виде серий расширяющихся цилиндров, возникающих в аморфной пленке на границе оксид — металл вследствие миграции ионов кислорода через оксидную пленку к поверхности металла. У аморфной пленки энергия активации составляет 226, а у кристаллической 80 кДж/моль. Легирование алюминия медью (до 1%) [c.377]

Будем придерживаться той же поатедовательности изложения, как и в предьщущем разделе, и рассмотрим электронную структуру оксидной пленки в модельной системе Si-Si02. Поскольку все многообразие свойств кристаллических и аморфных модификаций Si02 в основном определяется широкой вариацией углов 0 между кремний-кислородными тетраэдрами при малых изменениях параметров самих тетраэдров, для теоретического построения их зонной диафаммы широко применялся метод сильной связи с короткодействующим потенциалом взаимодействия. Такие расчеты для а-кварца показали, что его валентная зона состоит из трех подзон самая нижняя (шириной 1,5-3 эВ) в основном образована 2s орбиталями кислорода с небольшой примесью 2р состояний и 3s состояний Si средняя [c.186]

Алюминий и его сплавы. Стандартный электродный потенциал алюминия (А1 АР++Зе-) —1,66 В. На основании этой величины можно предположить, что алюминий весьма активный металл, однако практически он обладает достаточно высокой коррозионной стойкостью во многих агрессивных средах, так как на поверхности металла образуется защитная оксидная пленка. Такая пленка появляется почти мгновенно при соприкосновении свежего среза металла с воздухом, но рост ее продолжается медленно. Толщина пленки зависит от многих условий для алюминия, хранящегося в помещении, она составляет 0,01—0,02 мкм, при действии сухого кислорода— от 0,02 до 0,04 мкм, а прн термической обработке металлов доходит до 0,1 мкм. В зависимости от" окружающих условий поверхностная пленка состоит из аморфного или кристаллического оксида алюми.ния либо из гидроксида алюминия. Она обладает хорошим сцеплением и удовлетворяет условию сплошности. Таким образом, алюминий устойчив во всех средах, где на ег о поверхности может существовать защит1[ая пленка, и нестоек там, где эта пленка разрушается, либо нет условий длп ее образования. Защитная пленка на алюминии может образовываться даже при отсутствии окислителей вода, водные растворы нейтральных солей пассивируют поверхность алюминия. [c.117]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...