Образование и структура электролитических осадков

Образование и структура электролитических осадков [c.14]

Образование структуры электролитического осадка зависит от большого количества факторов, сопровождающих электролиз. Наличие коллоидов, комплексообразователей и капиллярно-активных веществ, материал катодов, выделение водорода, перемешивание электролита, состав электролита и т. д. влияют в разных степенях на характер структуры осаждающегося металла. [c.27]

Плотность тока заметно влияет на структуру электролитических осадков в тех случаях, когда катодная поляризация сильно изменяется с изменением плотности тока. Если катодная поляризация практически не меняется с изменением плотности тока, как например, при получении свинцовых и оловянных покрытий из кислых электролитов (без добавки коллоидов), то повышение плотности тока не оказывает влияния на улучшение структуры осадков. Этим н объясняется то, что для получения удовлетворительных покрытий олова или свинца В кислые растворы всегда вводят коллоиды, повышающие величину катодной поляризации, либо поверхностноактивные вещества, обладающие способностью адсорбироваться преимущественно на выступающих участках кристаллов, задерживающие их рост и тем самым способствующие образованию гладких покрытий. [c.154]

Необходимо отметить, что механизм образования блестящих покрытий весьма сложный, не только гидроокисные пленки на катоде могут быть причиной повышенного блеска покрытий мак-ро- и микроструктура покрытий будут зависеть не только от наличия коллоидных частиц в прикатодном слое, но и от их размера, степени взаимодействия с поверхностью, сплошности пленки и других факторов. Описанные причины являются основными при возникновении микродефектов структуры электролитических осадков. [c.84]

Известно (5, 10, 13, 17, 26 и 53), что процесс электрокристаллизации электролитических осадков состоит из двух стадий 1) образование центров кристаллизации и 2) рост уже образовавшихся кристаллов. Чем больше центров кристаллизации образуется в единицу времени, тем мельче будут зерна в покрытии. Скорость этих процессов зависит от условий электролиза и природы (структуры) катода (208, 209, 218, 220). [c.113]

Таким образом, можно констатировать факт образования существенно неравновесных структур при электролитическом осаждении системы медь—олово. В процессе термообработки проходит приближение осадка к состоянию равновесия в результате изменения фазового состава и периода элементарной ячейки фаз. Соответствующим подбором режима термообработки можно изменять в нужном направлении кристаллическую структуру конкретного осадка. [c.22]

При нанесении гальванических покрытий стремятся к получению мелкокристаллических, плотных, гладких и светлых осадков, достаточно твердых, равномерных по толщине, хорошо покрывающих рельефные поверхности, не хрупких и имеющих прочное сцепление с основным покрываемым металлом. Процесс образования электролитических осадков и получение той или иной структуры осадка зависят от различных условий работы, при которых происходит осаждение металлов. Для того чтобы технически правильно вести процессы гальванических покрытий, нужно знать основные факторы, влияющие на работу, и уметь их регулировать для получения хороших результатов. [c.14]

Повышение температуры при прочих постоянных условиях (состав электролита и плотность тока), как правило, снижает катодную поляризацию, способствуя образованию более крупнозернистых осадков. В связи с этим, допустимая плотность тока и, следовательно, скорость процесса при повышении температуры могут быть соответственно увеличены. Повышение же плотности тока, как было указано выше, способствует уменьшению размеров кристаллов в осадке и, следовательно, как бы компенсирует обратное действие температуры на структуру. Кроме того, почти во всех электролитических процессах при повышении температуры электролита увеличивается выход металла по току (за исключением процесса хромирования), уменьшаются внутренние напряжения в осадках и их хрупкость, осадки получаются более пластичными. [c.40]

Процесс образования электролитических осадков и получение той или иной структуры осадка зависят от технологического режима и условий работы, при которых происходит осаждение металлов. [c.20]

В противоположность образованию газообразных веществ, осаждение металлов характеризуется рядом специфических особенностей. Металл, осажденный на катоде в процессе электролиза, может иметь самый разнообразный вид и форму — от рыхлой губчатой или порошкообразной массы, до плотного, монолитного, блестящего покрытия. Но при всем этом разнообразии одно несомненно все электролитические осадки металлов имеют кристаллическую структуру. [c.164]

Электролитический хром отличается исключительно мелкокристаллической структурой. Наименьшими размерами обладают кристаллы блестящего хрома 10- —10" см. Кристаллы матового и молочного хрома имеют размеры в интервале 10- —10" см. Осадки хрома характеризуются слоистостью и образованием на [c.218]

Образование электролитического покрытия на катоде происходит в результате электрокристаллизации. Электрокристаллизация состоит из двух одновременно протекающих процессов образования кристаллических зародышей (центров кристаллизации) и их роста. Структура покрытия будет зависеть от того, какой из этих процессов будет преобладающим. Если скорость образования новых зародышей (новых центров кристаллизации) будет опережать скорость роста образовавшихся кристаллов, то структура осадка будет мелкокристаллической И наоборот, при преобладающей скорости роста кристаллов покрытие получится крупнокристаллическим. [c.272]

Как уже указывалось, специфика процесса злектрокри-сталлизации заключается в том, что осаждение металла происходит путем образования и наложения один на другой отдельных слоев [5]. Толщина и скорость распространения растущих слоев неодинаковы для различных металлов [6] и меняются с изменением условий электролиза. В зависимости от скорости распространения слоя по грани будет меняться и структура электролитического осадка металла. При малой скорости распространения грань может пассивироваться [7] вследствие адсорбции из раствора различных чужеродных частиц, которые мешают разряду ионов металла, и таким образом структура металла будет искажаться. [c.274]

Остановимся на факторах, дающих возможность повышать плотность тока при электролизе и получать качественные осадки. Как известно, повышение плотности тока при неизменных условиях влечет за собой возрастание катодной поляризации и, следовательно, образование мелкокристаллических металлических осадков. Это особенно заметно в тех электролитах, у которых катодная поляризация значительно меняется с изменением плотности тока. Однако после повышения плотности тока сверх опредатенной величины структура электролитического осадка резко ухудшается, и при дальнейшем повышении плотности тока выделяется аморфный осадок в виде неплотно держащегося темного порошка. Получение рыхлого губчатого порошка связано главным образом [c.49]

Из изложенного можно сделать вывод, что величина кристаллов в электролитических осадках определяется соотношением скоростей образования кристаллических зародышей и их роста, в котором большую роль играют диффузионные и пассива-ционные явлееия. Чем больше относительная скорость образования зародышей, т. е. чем больше образуется новых кристаллов в единицу времени, тем более мелкозернистыми должны быть осадки, и наоборот. Так как для образования кристаллических зародышей требуется более высокое перенапряжение, чем для продолжения их роста, то можно сказать, что условия электролиза, способ ствующие повышению перенапряжения или катодной поляриза ции, будут обеспечивать получение мелкозернистых осадков на катоде. Из этого также следует, что факторы, влияющие на катодную поляризацию, должны соответственным образом изменять и структуру осадков. К таким факторам, кроме природы и состояния покрываемой поверхности, относятся природа и концентрация ионов выделяемого металла, плотность тока, температура [c.20]

Рассматривая строение кристаллического микрорельефа осадков, С. С. Кругликов и Н. Я. Коварский [87] отмечают, что блеск электролитических покрытий в значительной мере определяется их кристаллической шероховатостью. Наибольшим блеском обладают покрытия, имеющие на поверхности лишь субмикронеровности, т. е. такие геометрические дефекты, размер которых не превышает 0,2 мкм. Авторы указывают, что на образование кристаллического микрорельефа поверхности электролитических осадков влияет много факторов структура подложки, энергетическая неоднородность выходящих на поверхность граней кристаллов, вероятность образования трехмерных и двухмерных зародышей, равномерность ингибирования поверхностно-активными примесями и т. д. [c.45]

К. Рот и Г. Лейдхейсер [16], изучавшие влияние большого числа различных органических соединений на структуру никелевых осадков, также установили два типа блескообразующих веществ, названных носителями и непосредственно блескообразующими. Первые вводятся в электролиты в больших концентрациях, не ухудшают механических свойств осадков, мало влияют на катодную поляризацию и не вызывают зеркального блеска. Вторые вводятся в электролит в очень малых количествах, сильно увеличивают катодную поляризацию и способствуют образованию зеркально блестящих осадков. Однако при больших концентрациях они вызывают большую хрупкость электролитических осадков и растрескивание. Указанные авторы отмечают также, что чем больше размер молекулы добавки, тем в меньшей концентрации она вызывает появление блеска (табл. 26). [c.229]

Структура. Электролитический хром отличается мелкокристаллической структурой. Наименьшими размерами обладают кристаллы блестящего хрома 0,001—0,01 мкм. Кристаллы матового и молочного хрома имеют размеры кристаллов 0,1—10 мкм. Осадки хрома характеризуются слоистостью и образованием на поверхности характерных наростов — микросфероидов (рис. 10), которые наблюдаются при осаждении достаточно толстых покрытий (более 30—50 мкм). [c.128]

Вошло в практику название "химико-термическая обработка" применительно к процессу нагрева электролитических покрытий, при котором за счет диффузионного насыщения осадка из "точечных источников" (введенных при электролизе углерод-, бор-, или азотсодержащих добавок,), происходит изменение фазового состава и структуры всего покрытия, например, образование сплошного боридного или карбидног о слоя. Однако химико-термическая обработка включает в себя три одновременно идущих процесса, обеспечивающих обогащение поверхности элементами из внешней среды образование активных атомов в насыщающей среде вблизи поверхности, адсорбцию образовавшихся активных атомов поверхностью насыщения и диффузию адсорбированных атомов от поверхности вглубь обрабатываемого изделия. [1ос> ольку в рассматриваемом случае выделить эти процессы не лредставляется возможным, вероятно, наиболее правильно отнести [c.4]

Большое влияние на структуру осадков оказывает комплексо-образование ионов. Как правило, при выделении на катоде металлов из растворов некоторых их комплексных солей получаются мелкозернистые осадки, особенно при избытке комплексообразующего лиганда. Наиболее характерным примером таких растворов, применяемых для электролитического покрытия, являются растворы цианистых солей меди, серебра, золота, цинка, кадмия и некоторых других металлов. Мелкозернистую структуру осадков, получаемых из этих растворов, обычно связывают с катодной поляризацией, которая в цианистых растворах при достаточном содержании свободного цианида значительно больше, чем в кислых растворах солей тех же металлов. [c.24]

Медь также может быть осаждена электролитически и в тех случаях, где основным металлом является сталь, меднение должно быть начато из цианистой ванны (стр. 555) и продолжено в сульфатной ванне. Желатина или квасцы иногда добавляются для улучшения осадка. Осаждение из пирофос-фатной ванны дает плотный осадок, который русские ученые связывают с образованием слоя ионов РоО , соединяющихся с каждым кристаллическим ядром и блокирующих его рост, так что кристаллическая структура остается тонкой [129]. [c.587]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...