Диффузионное легирование

РАЗЛИЧНЫЕ ВИДЫ ДИФФУЗИОННОГО ЛЕГИРОВАНИЯ [c.89]

Диффузионно-легированные самофлюсующиеся порошки на железной основе [c.206]

Рис. 3.8. Структуры износостойких и антифрикционных покрытий из диффузионно-легированных сплавов

Существенно снизить стоимость наплавки самозатачивающегося наплавленного лемеха при сохранении или повышении его долговечности можно использованием самофлюсующегося диффузионно-легированного порошка из измельченной чугунной стружки (рис. 6.16, в). Твердость наплавки в этом случае 50...58 HRG. [c.600]

Самым распространенным легирующим элементом является никель. Добавки никеля увеличивают прочность, пластичность и ударную вязкость изделий. Смешивание и диффузионное легирование порошков позволяет получать материалы плотностью на 0,25...0,4 г/см выше плотности сталей из распыленных легированных порошков. [c.280]

Изделия из порошковой нержавеющей стали. Кроме пористых и высокопористых изделий, из этого материала готовят многочисленные детали относительно высокой плотности и небольших габаритов, используемые в текстильной, пищевой, химической и других отраслях промышленности. Возможно механическое смешивание порошкообразных компонентов с участием лигатур и применение легированных порошков нужного конечного состава. Следует также указать на возможность диффузионного легирования пористых заготовок в процессе спекания. [c.345]

Поскольку насыщение только одним алюминием не обеспечивает необходимых защитных свойств покрытий, особенно на тугоплавких металлах и сплавах, обычно применяют комплексное диффузионное легирование (одновременно или последовательно) алюминием совместно с другими элементами, например кремнием, титаном, ниобием, танталом, хромом. Такие типы модифицированных алюминидных покрытий будут рассмотрены ниже. [c.268]

Приведенные примеры показывают, что алюминидные покрытия по-прежнему остаются пока основным типом защитных жаростойких покрытий для жаропрочных сплавов на основе никеля, кобальта и железа. Их эксплуатационные свойства можно повысить диффузионным легированием поверхности, т. е. комплексным насыщением алюминием совместно с другими элементами. [c.292]

Получение многокомпонентных диффузионных покрытий. Диффузионное легирование поверхности металлов только одним и даже двумя элементами не всегда позволяет достигнуть требуемых свойств. Новые или еще не использованные возможности открывают способы насыщения поверхности несколькими элементами. Соответствующим изысканиям в настоящее время уделяется большое внимание. Число работ по многокомпонентным покрытиям неуклонно нарастает из года в год. В первую очередь изучаются процессы насыщения сталей двумя элементами. Некоторые итоги работ по поверхностному насыщению железа и сталей двумя и тремя элементами подведены в обзоре [409] и монографии [51]. [c.270]

Легированные металлокерамические материалы на железной основе получают введением в шихту порошков ферросплавов, а также диффузионным легированием. [c.54]

Диффузионно-легированный термообработанный плунжер, серийная втулка 4,37 0,4 1,8 29,0 3,6 60 [c.216]

Диффузионно-легированный плунжер без термообработки, серийная втулка 4,48 0,2 1.8 6,4 3,7 60 [c.216]

В настоящем издании переработан параграф Механи-зация и автоматизация регулирования температуры и вновь написаны параграфы Диффузионное легирование . и Вопросы техники безопасности . [c.3]

Режимы диффузионного легирования [c.326]

Процесс диффузионного легирования аналогичен цементации, азотированию и цианированию. Он заключается в том, что в сталь или чугун при высоких температурах внедряются атомы одного или другого металла, в результате чего изменяется химический состав верхних слоев изделия или детали. [c.330]

Процесс диффузионного легирования протекает, как и процесс цементации, в трех самостоятельных, но и взаимосвязанных между собой област.чх 1-я область — среда , окружающая деталь 2-я — граница раздела окружающей среды и металла и 3-я — верхние слои металла. [c.330]

Диффузионное легирование проводится с различной целью. Так, легирование кремнием повышает кислотоупорность хромом, алюминием — жаростойкость и т. п. [c.330]

Диффузионное легирование может проводиться одновременно одним легирующим элементом (аналогия с цементацией и азотированием), двумя (аналогия с цианированием), тремя и более элементами. Степень насыщения в основном зависит от температуры процесса легирования, активности окружающей среды и времени выдержки. [c.330]

В табл. 137 приведены состав карбюризаторов (смесей), оборудование и режимы диффузионного легирования алюминием, хромом, кремнием, бором, хромом и кремнием одновременно, а также хромом и алюминием. [c.330]

Г. Н. Дубинин. Диффузионное легирование поверхности деталей металлами [c.114]

Экспериментальное исследование поверхностного диффузионного легирования бором и хромом образцов из стали 45 на процессы зарождения, развития и торможения усталостных трещин [c.58]

Влияние поверхностного диффузионного легирования стали 45 на процессы зарождения и торможения усталостных трещин [c.66]

При повышении нагруженности упрочнённых образцов, оцениваемой коэффициентом п , влияние диффузионного легирования на стадии возникновения трещин усталости значительно слабее, причем, с увеличением Ир наблюдается тенденция к уменьшению числа циклов до образования трещины. [c.67]

Анализируя влияние поверхностного диффузионного легирования на долговечность (см. табл. 3.1), видим, что основное воздействие поверхностного упрочнения заключается в задержке развития трещин (78-96) % долговечности затрачивается на распространение усталостной трещины. [c.67]

Важными параметрами диффузионного легирования, как и легирования вообще, является предельная растворимость электрически актив- [c.313]

С и пропускают над ней водород в смеси с парами четыреххлористого кремния. Последний разлагается, кремний осаждается на пластинке, а хлор соединяется с водородом пары НС1 уносятся из зоны реакции. Если в состав газоносителя добавить бромистый бор ВВг или хлористый фосфор РС1, то образующийся слой кремния будет легирован соответствеи.но бором (акцептором) или фос( юром (донором). Нередко поступают иначе вначале выращивают эпитаксиальный слой из чистого кремния, затем вводят примесь диффузией. Повторяя процесс диффузионного легирования с использованием масок, получают различные сложные переходы. [c.186]

В результате исследований был разработан гальванодиффу-зионный способ восстановления бронзовых деталей авиационных конструкций, предусматривающий последовательное выполнение двух основных операций гальваническое нанесение на изношенную поверхность детали слоя меди необходимой толщины и диффузионное легирование его алюминием при соответствующей температуре. В результате этих операций на поверхности детали образуется покрытие, близкое по структуре и механическим свойствам к исходной алюминиевой бронзе. [c.187]

Диффузионным легированием высокоомных кристаллов донорными примесями, для чего необходим длительный отжиг кристаллов в атмосфере легирующих добавок (хлор, йод) при температуре 600—700° С. Недостатком данного способа является то, что при этом кристалл легируется на небольщую глубину 1 — 3 мм, причем концентрация легирующей добавки уменьшается от поверхности в глубину кристалла. Это приводит к неравномерному распределению проводимости по длине кристалла. [c.327]

Объемно-легированные порошки имеют гетерогенную структуру с равномерным по сечению распределением легируюш,их элементов. Диффузионно-легированные самофлюсуюш,иеся порошки являются, по сути, композиционными и состоят из металлического ядра и диффузионного боросилицидного слоя, в котором сконцентрированы флюсующе-раскисляющие элементы (рис. 3.7). Повышенная концентрация флюсую-ще-раскисляющих элементов в поверхностном слое частиц порошка способствует более эффективному раскислению зоны наплавки. Получаемые покрытия имеют гетерогенную структуру (рис. 3.8) и высокие триботехнические свойства. [c.203]

Пантелеенко Ф.И. Самофлюсующиеся диффузионно-легированные порошки на железной основе и защитные покрытия из них. Минск УП Технопринт , 2001. 300 с. [c.666]

Основу большинства современных интегральных схем и дискретных приборов составляют многослойные полупроводниковые композиции (р-п, гомо- и гетеропереходные структуры, гетероструктуры типа полупроводник—диэлектрики т. д.), формируемые в процессах диффузионного легирования или ионной имплантации, а также эпитаксиального наращивания и термического окисления. Далеко не всегда используемые технологические процессы обеспечивают получение высококачественных приборных композиций, отвечающих требованиям современных производств, гарантирующих не только достижение необходимых рабочих ха- [c.74]

Для азотирования был использован метод актитаци-онного смешивания, позволяющий осуществлять равномерное диффузионное легирование металлических порошков без их спекания и агломерации. Ускорение диффузионного процесса достигалось за счет механической и химической активации поверхности порошка. В качестве насыщающей среды использована контролируемая атмосфера, содержащая аммиак и активатор - хлористый аммоний. Азотирование проводили при температуре 560 °С в течение 5 ч. [c.272]

Тонкие ЭНП получили широкое применение в современной радиоэлектронике в качестве диэлектрика в электрических конденсаторах, разделительной изоляции и защитных покрытий в полупроводниковых приборах, разделительной и конденсаторной изоляции в интегральных и пленочных схемах, а также в различных технологических процессах изготовления приборов, например масок при травлении и напылении и источников диффузанта при диффузионном легировании. Оксидные пленки, получаемые электрохимическим окислением, применяются и в качестве изоляции обмоточных алюминиевых проводов и лент. [c.261]

Жаростойкость и термостойкость алюминидных покрытий на жаропрочных никелевых и кобальтовых сплавах могут быть существенно повышены 2 при диффузионном легировании этих покрытий танталом, ниобием или сплавами на их основе. Покрытие, полученное при одновременном насыщении танталом и алюминием, предназначено прежде всего для защиты лопаток газовых турбин и обеспечивает их длительную эксплуатацию при 1090° С, умеренную при 1150° С и кратковременную до 1200° С. Для нанесения покрытия из дисперсных (менее 0,040 мм) порошков тантала [50—80% (по массе)] и алюминия [20—50% (по массе)] на органической связке (ацетон, амилацетат, нитроцеллюлоза) готовят густую пасту, которую наносят затем на обрабатываемую поверхность. После сушки пасты при повышенных температурах изделия подвергают диффузионному отжигу в вакууме, в восстановительной или инертной среде при 980— 1150 0 в течение нескольких часов. Для получения качественных покрытий порошковую смесь размалывают в шаровой мельнице в течение 12—24 ч до вязкости 700 200 спз. Легирование алюминидов никеля танталом повышает их устойчивость при высоких температурах и значительно замедляет диффузионные процессы, приводящие к превращению высших алюминидов в низщие, которые рассасываются в основе. [c.289]

Оценка износостойкости проводилась по коэффициенту A, характеризующему отношение времени наработки исследуемой пары к паре из стали ХВГ до одинакового уменьшения производительности, глубины местного износа плунжера и втулки и изменения гидроплотности. Из табл. 10 видно, что наиболее износостойкими являются борированные плунжеры и втулки, пары с диффузионно-легированным, азотированным и хромированным плунжером. [c.215]

Исследовано изменение закономерностей зарождения, развития и торможения усталостных трещин на гладких образцах, подвергнутых поверхностному диффузионному легированию [29]. Исследованию подвергались образцы из стали 45 с борохромированным диффузионным слоем. Химический состав стали следующий, % 0,45 С 0,73 Мп 0,20 Si 0,02 8 [c.58]

Тем не менее ионная имплантация и радиационное легирование кристаллов сейчас — важные и быстро развивающиеся области технологии полупроводников. Так как ионная имплантация обеспечивает более точный контроль общей дозы легирующей примеси в диапазоне см , там, где это возможно, ею заменяют процессы диффузионного легирования. Очень интенсивно ионная имплантация используется для формирования сверхбольших интегральных схем. Метод радиационного легирования используется для получения кремния, необходимого для производства силовых приборов, где в качестве главного требования выступает высокая однородность распределения примесей в кристалле. Метод радиационного легирования также находит все большее применение и для легирования других полупроводниковых материалов. Так, им осуществляют легирование Ge галлием и мышьяком, InSb оловом, GaAs германием и селеном и т. д. [c.266]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...