М базовый

Консольные насосы типа К (рис. 3.15) выпускаются на подачи 6...330 м ч и напоры 14...98 м. Базовой деталью насоса является опорная стойка 1, к которой шпильками крепится корпус 2. На консольной части вала, который находится в шарикоподшипниках опорной стойки, крепится рабочее колесо 4 одностороннего входа. С торца корпус закрывается крышкой 3 с входным патрубком. В крышке запрессовано уплотняющее кольцо переднего уплотнения рабочего колеса. Осевое усилие в насосах мощностью свыше 10 КВт воспринимается шарикоподшипником со стороны приводного конца вала. В насосах мощностью свыше 10 кВт предусмотрена разгрузка от осевой силы с помощью разгрузочных отверстий в рабочем колесе. Смазка подшипников жидкая. Концевое уплотнение сальникового типа (на рисунке кольцо гидрозатвора не показано). [c.58]

Показатели по класса м базовых тракторов (в Г) [c.149]

Грузоподъемность, т Наибольшая высота разгрузки, м Базовый трактор Мощность двигателя, кВт Рабочее давление в гидросистеме, МПа Габаритные размеры, мм длина ширина высота [c.93]

Формулу (7.31) можно представить в другом виде. Учитывая известные соотношения (см. главу 3) между показателем колебательности М, базовой частотой л. а. х. соо = и постоянной времени Та, имеем [c.247]

На рис. 306 показано применение вспомогательных прямых геликоидов при построении линии пересечения винтовой поверхности фронтально-проецирующей плоскостью М . Винтовая поверхность правого хода задана здесь базовой линией (гелисой) и производящей линией аЬ, а Ъ, лежащей в плоскости Qy. [c.209]

Формирование обобщенного технологического маршрута. Формирование обобщенного маршрута начинают с какого-то маршрута М (можно с любого), принимаемого за базовый. В него последовательно вставляются недостающие операции всех присоединяемых мар- [c.100]

На рис. 3.2 показана схема построения обобщенного маршрута. К базовому маршруту М1 присоединяется маршрут Му В результате получается обобщенный маршрут М у1- Заштрихованные области показывают эквивалентные операции, которые определяют мощность пересечения двух маршрутов. Эквивалентность операций устанавливается по совпадению кодов. [c.101]

Размер ы, определи ю и и е и а ч а л ь и о е расстояние м е >к д у базовыми п л о с к о-с т я м н соединения и сочетание полей допусков сопрягаемых конусов, указывают как справочные в двух случаях [c.131]

В данном случае можно использовать сохранение перпендикулярности между вырожденной проекцией плоскости и соответствующей проекцией искомого перпендикуляра. Вырожденной проекцией профильно проецирующей плоскости является ее профильная проекция. Поэтому следует построить профильные проекции M и Е 3 данной точки М и данной плоскости 2. Это построение выполнено с помощью базовой плоскости Ф, от горизонтальной проекции которой измерялись глубины данных элементов, а от ее профильной проекции Ф3 эти глубины откладывались по новым линиям связи. [c.80]

Числовые значения шероховатости поверхности определяют от единой базы, за которую принята средняя линия профиля и проведенная так, что в пределах базовой длины среднее квадратическое отклонение профиля до этой линии минимально. Систему отсчета шероховатости от средней линии профиля т называют системой М. Количественно шероховатость поверхности устанавливают независимо от способа ее обработки. По системе Л/шероховатость поверхности можно оценивать одним или несколькими параметрами средним арифметическим отклонением профиля Ка, высотой неровностей профиля по десяти точкам Кг, наибольшей высотой профиля, средним шагом неровностей профиля по вершинам, относительной опорной длиной профиля. Параметр Ка является предпочтительным. [c.290]

Теперь молено построить эпюру М,. Выделим границы участков, проведя через точки приложения сил перпендикуляры до пересечения с базовой лн- [c.188]

Ординаты эпюр Р и М со знаком плюс ( 0 ) будем откладывать вверх от нулевой (базовой) линии, при этом эпюру М будем строить на сжатых волокнах. [c.40]

На участках балки, где ц=0 (участок АВ на рис.6.3 и участок ВС на рис. (6.4), поперечная сила Q постоянная и изображается прямыми, параллельными базовой ЛИВИИ, а изгибающий момент М изменяется по линейному закону и изображается наклонной прямой. При чистом изгибе М изображается прямой, параллельной базовой линии (рис.6.2) участок ВС на рис, 6 3. [c.44]

В сечениях, где эпюра О пересекает базовую линию (рис.6.4), изгибающий момент М имеет экстремум (максимум или минимум). [c.44]

Откладывая значения величин, учитывая знак минус ( - ) на эпюрах N и О, в сечениях А и С, проводим прямые с внутренней стороны, параллельные базовым линиям. Эпюру М строим на сжатых волокнах, [c.45]

Для стали можно считать, что образец, выдержавший при данном максимальном напряжении М = 10 циклов (базовое число циклов), не разрушится и при сколь угодно большом числе циклов. Для цветных металлов и сплавов в качестве базового числа циклов принимается М=5-10 —10 циклов. [c.301]

Электрический сигнал одиночных базовых элементов мал даже при высоких плотностях теплового потока их рабочий коэффициент к (величина, обратная чувствительности) составляет (0,5... 1) 10 Вт/ (м мВ). Применение высокочувствительных потенциометров или вольтметров [c.57]

Поэтому при испытании поверхностных теплообменников, работающих в диапазоне нагрузок 1...30 кВт./м , необходимы базовые элементы с уменьшенным рабочим коэффициентом, но достаточно низким термическим сопротивлением. В этом случае можно применять га-летные базовые элементы [12], хорошо зарекомендовавшие себя при исследовании процессов тепловой обработки зернистых пищевых продуктов и материалов [54]. [c.58]

Описанная технология позволяет получать базовый элемент с минимальным защитным слоем, доводя его толщину практически до нуля, а эффективную теплопроводность — до 8...10 Вт/ (м К), а следовательно, использовать его при исследовании поверхностных теплообменников. Чтобы еще более увеличить Я ф, можно ленточку 1 уложить в корпус 2 с пазами (рис. 3.3) и закрыть секцию металлической [c.62]

М Базовые марки 10604-007, 10204-003 и композиции на их основе, окрашенные и неокрашенные, стабилизированные и нестабилизиро-ванные по ГОСТ 16337-77. [c.84]

Вариант РТК, полученный на этапе 2, является базовым, н относительно ого характеристик осуществляется варьирование параметров. Перебор вариантов ведется по регрессиоииы.м моделям, полученным tta этапах 1 и 2. [c.60]

Например, приверченное на рис. П17 обозначение шероховатости означает поверхность получают удалением слоя материала окончательная обработка-шлифование шероховатость поверхнос1ей задана предельным значением параметра Ra < 0,08 мкм, предельными значениями среднего шага неровностей Sm = (0,063., . 0,040) мкм и относительной опорной длиной профиля tp = (50. .. 70)% при уровне сечения профиля р = 50% базовая длина / = (0,8. .. 0,25) мм направление неровностей М произвольное. [c.208]

Определяют прямоугольную клемму навесного элемента, сквозную с металлизацией на 1- и 2-м слоях платы, предназначенную для использования в технологической документаиин и проектировании, размером 2X2 мм с координатами левого нижнего угла—1,-1 мм относительно базовой точки. [c.132]

Определяет прямоугольную, планарную клемму навесного элемента на 1-м слое платы, предназначенную для использования в конструкторской документации с размерами 10X5 мм и координатами левого нижнего угла—5.0,—2,5 мм относительно базовой точки. [c.133]

Сечение fo, н С — коэффициент скорости d — 140эффициент диаметра Lo — базовая длина ремня, мм q — погонная масса одного кли на, кг/м [c.295]

Для графа, показанного на p]i . 3.6, пост]кл м матрицу ннциденций (табл. 3.9), приняв за базовый узел 5. [c.133]

Внедрение ЕС1ГШ, например, на Пермском моторостроительном заводе имени Я. М. Свердлова позволило уровень применения типовых технологических процессов повысить до 75 % на основе 246 базовых стандартных конструкций собирать 4217 различных переналал(иваемых приспособлений. Годовой экономический эффект от использования стандартной переналаживаемой оснастки составляет свыше I млн. руб., расход металла сократился на 1400 т, 72 [c.72]

На участке балки без равномерно распределенной нагрузки (q=0) поперечная сила Q= onst и ее эпюра изображается отрезком прямой, параллельным базовой линии, а изгибающий момент изменяется по линейному закону и эпюра М. изображается наклоненным к базовой линии отрезком прямой. [c.208]

Концепция выделения задач моделирования и задач отображения моделей сформировалась сравнительно недавно, однако практически все пакеты машинной графики содержат набор подпрограмм базового обеспечения конкретного графического устройства, группы устройств, а также набор подпрограмм для реализации общих графических функций, использующих, как правило, канонические модели ГИ. К таким пакетам можно отнести ГРАФОР, АЛГРАФ, различные варианты программного обеспечения для АРМ, комплектуемых на базе ЭВМ типа СМ (БПО АРМ, система графического обеспечения АРМ-М, ОСГРАФ и т.д.), В зависимости от типа устройства пакеты могут обеспечивать как пакетный, так и интерактивный режим работы. [c.25]

Предприятия (организации) Министерства нефтяной промышленности составляют дважды в год отчет о внедрении государственных стандартов на продукцию в соответствии с Инструкцией о порядке составления и представления отчета о внедрении государственных стандартов по форме от N" 13 - НТ (М., Изд-во стандартов, 1973) и направляют в базовые организации по стандартизации в зависимости от закрепленной за ними проду1сции. [c.59]

Потребителю мини-ЭВМ обычно поставляется в виде базового комплекта (конфигурации). Базовая конфигурация мини-ЭВМ — это состав оборудования, включаемый изготовителем в стандартный минимальный комплект поставки. В нее же входит минимально поставляемое программное обеспечение. В зависимости от требо ваний к системе базовая конфигурация может дополняться потребителем соответствующими блоками и устройствами за дополнительную плату. Для большинства мини-ЭВМ в состав базовой конфигурации входят процессор, память 4 К, телетайп, согласующие схемы и необходимые источники питания. Доукомплектовав базовую конфигурацию необходимыми стандартными преобразователями, сигналы с датчиков, которыми оборудована экспериментальная установка, можно подавать непосредственно в ЭВМ. Следует отметить, что разрабатываемые в СССР в рамках АСВТ-М мини-ЭВМ могут быть объединены с машинами системы ЕС ЭВМ и системой КАМАК. Это особенно удобно, когда возможностей имеющейся мини-ЭВМ недостаточно для проведения автоматизированного эксперимента. В этом случае мини-ЭВМ используют для управления экспериментом, предварительного сбора и обработки поступающих данных, а окончательная обработка эксперимента проводится с использованием более мощной машины системы ЕС ЭВМ. [c.343]

Базовые элементы для поверхностных теплообменных аппаратов. Интенсивность тепловых процессов различных технологий имеет весьма широкий диапазон q — от долей до десятков и сотен тысяч ватт на 1 м . Процессы высокой интенсивности осуществляются в поверхностных теплообменных аппаратах — парожидкостных и жидкостно-жидкостных подогревателях, испарителях, вакуум-аппаратах при невысоких концентрациях сухих веществ в увариваемом продукте. Термические сопротивления в таких аппаратах малы, и это накладывает основное условие на конструкцию тепломера или тепломассомера — его сопротивление не должно превышать наибольшего сопротивления аппарата (теплоотдачи или теплопроводности). [c.56]

Базовые элементы для контактных теплообменных аппаратов. При обработке продуктов контактным способом высокие тепловые нагрузки (свыше 10 кВт/м ) встречаются редко, поэтому тепломассомеры с одиночными базовыми элементами применять нецелесообразно из-за малой чувствительности. Вместе с тем термическое сопротивление продукта всегда достаточно велико, чтобы использовать батарейные базовые элементы. Чувствительность галетных тепломассомеров зачастую недостаточна, поскольку при обработке и в особенности при хранении продуктов нагрузки могут составлять сотни, десятки и даже доли ватт на 1 м . Надежные измерения таких малых нагрузок обеспечиваются применением принципа коммутации дифференциальных термоэлементов из термоэлектродной проволоки, местами покрытой другим термоэлектродным материалом так, что переходы от покрытых к непокрытым участкам ( спаи ) располагаются поочередно на гранях батареи элементов [7—9]. Нанесение парного термоэлектродного материала производится гальваническим методом, поэтому работа термоэлементов батареи подчиняется закономерностям, полученным при исследовании гальванических термопар 17, 8]. [c.59]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...