Осаждение таллия

Буферные добавки предназначены для поддержания pH раствора на оптимальном уровне В качестве таковых используют соли уксусной лимонной гликолевой и других кислот При повышении концентрации гидроксида натрия с 20 до 60 г/л скорость осаждения покрытия увеличивается Добавление в этом случае стабилизирующей добавки (нитрат таллия) способствует сохранению оптимального значения pH и оптимальной концентрации восстановителя [c.48]

Таллий цементируют чаще всего цинком из растворов, получаемы при переработке медно-кадмиевых кеков. Кадмий-таллиевую губку растворяют в серной кислоте и из раствора осаждают таллий бихроматом калия [ 187, с. 352]. Выше было показано, что для предотвращения обратного растворения кадмий-таллиевых кеков можно использовать ПАБ [ 163]. В работе [ 195] показано, что при цементации таллия цинковой пылью оптимальными являются следующие условия pH = 3 4 (или 12 - 13), г = 60°С. Таллий, так же как и индий, может быть успешно осажден из растворов различными амальгамами. В работе [ 196] показана возможность цементации таллия амальгамой натрия в неводных растворах. При этом установлено, что натрий нацело расходуется только на цементацию. В работах [ 197, 198] Приведены результаты исследований цементации таллия амальгамой цинка, а в работе [ 199] - амальгамой кадмия, причем содержание таллия в амальгаме достигало 7 %. После анодного растворения амальгамы получили таллий высокой чистоты (99,999%). [c.70]

Описаны различные процессы изготовления этого фотоэлемента. Так, пользуются сернокислым таллием, осажденным из раствора химически чистого таллия. Этот сульфид, промытый дистиллированной водой, высушивают при 80° С до тех пор, пока цвет его не перейдет от черного к серо-стальному. При этом увеличивается его чувствительность к излучению. Продукт контролируют на чувствительность, а затем распыляют на горячий диск из кварца. Электроды образуются свинцовой решеткой. Диск, приготовленный таким образом, монтируют в баллоне, в котором создают вакуум и который затем наполняют гелием при давлении, равном Vg атмосферного. [c.355]

В отечественной и зарубежной литературе приводятся многочисленные рекомендации по гальваническому осаждению двойных и тройных сплавов свинца с другими металлами РЬ—5п, РЬ—1п, РЬ—Т1, РЬ—5Ь, РЬ—2п, РЬ—В1, РЬ-Ае, РЬ—5п—2п, РЬ—5п—Си, РЬ—5п—5Ь, РЬ—5п—1п. Однако лишь немногие из перечисленных сплавов нашли широкое промышленное применение. К числу таких сплавов в первую очередь относится покрытие сплавом РЬ—5п. Покрытие сплавами РЬ—1п и РЬ—XI, весьма целесообразное с технической точки зрения для широкого промышленного внедрения, встречает значительные затруднения в связи с высокой стоимостью индия и таллия. [c.119]

Ва (ОН) 2 в раствор вводится с некоторым избытком для получения щелочной среды. После осаждения сернокислого бария осадок отфильтровывают и к раствору добавляют хлорную кислоту. Перхлорат таллия образуется в соответствии с уравнением [c.150]

Сплавы золота с таллием могут быть приготовлены как методом прямого сплав.тения, так и электролитическим — осаждением пз хлорно-кислых растворов [5]. [c.260]

В качестве анодов используют сплав свинец—таллий с 45— 50 % Т1. Осаждение проводят при комнатной температуре и катодной плотности тока 1—1,5 А/дм. Покрытия содержат до 70—80 % Т1. [c.248]

Ферроцианид галлия. Оа4[Ре(СМ)е]з представляет собой белое кристаллическое труднорастворимое вещество. Выделяется при добавлении ферроцианида кя,лия в раствор, содержащий соль галлия. Осаждение галлия в виде ферроцианида используют в промышленности для отделения галлия от ряда элементов алюминия, хрома, марганца, кадмия, свинца, висмута, таллия. [c.412]

Образующаяся в процессе окисления гидратированная двуокись марганца сорбирует гидроокись таллия, что содействует более полному ее осаждению. [c.452]

Осаждение хлорида таллия. Осаждение малорастворимого хлорида применяют в ряде технологических схем. Этот способ целесообразно использовать при сравнительно высокой концепт рации таллия в растворах (более 5 г/л). [c.452]

Рис. 188. Схема извлечения таллия и пыли, включающая осаждение Т1(0Н)а

Рис. 192. Схема извлечения таллия из агломерационной пыли свинцового завода, включающая осаждение хлорида

Электроосаждение таллия производят из кислых электролитов (сульфатных, кремнефторидных, перхлоратных). Сульфатный электролит для осаждения таллия [c.307]

В качестве комплексообразующей добавки используется главным образом этилендиамин Увеличение молярного соотношения концентраций этилеидиамина и хлористого никеля от 3 1 до ЮЛ повышает скорость осаждения покрытия, которое достигает 25 мкм/г Стабн лизаторы используемые в отдельности или совместно, повышают стабильность раствора от 55 до 95 % Наибольшая скорость никелирования получена при использовании в качестве стабилизатора ацетата таллия Рекомендуется применять стабилизаторы с более широким пределом рабочих концентраций например смесь меркапто-фталиевой кислоты (0 5 г/л) и ацетата свинца (0 04 г/л) [c.48]

Основное применение в производстве фотоэлементов. Имеет в этом отношении преимущество перед рубидием, обладая наибольшим фотоэффектом среди щелочных металлов в сочетании с наименьшей работой выхода электронов. Сплавы цезия с сурьмой, кальцием, барием и таллием применяют для изготовления фотоэлементов, использующихся в аппаратуре автоматического контроля за производственными процессами, в автоматических счетных устройствах, в калориметрии. Сплав 8Ь —С (соответствующий по составу соединению ЬС8а) применяют для изготовления фотокаТодов. Он обладает высокой стабильностью в работе. Получается при последовательном осаждении возгонкой в вакууме слоев сурьмы и цезия. Применяется также в качестве газопоглотителя. [c.349]

Кадмий, хром, кобальт, галлий, 1шдий, марганец и таллий получают осаждением из водных растворов. Важное значение электролитическое осаждение имеет и для нанесения покрытий из многих металлов, к числу которых относятся кадмий, хром, кобальт, палладий, платина, родий, индий и вольфрам. Сообщалось об элсктроосаждспии германия из невоДных растворов. [c.20]

Металлический таллий можно получить из соединен1 й различными путями 1) электролизом карбоната, сульфата и перхлората 2) осаждением металлического таллия цинком и 3) восстановлением оксалатэ или хлорида таллия(1) [17]. [c.670]

В литературе описано большое число промышленных способов получения таллия. Некоторые из них основаны на извлечении таллия из дымоходной пыли кипячением в подкисленной воде. Перешедший в раствор таллий осаждают цинком. Присутствующие в незначительных количествах металлы, например цинк, медь, свинец, кадмий и индий, удаляют растворением таллия в разбавленной серной кислоте и осаждением примесей сероводородом. Таллий легко может быть получен электролизом насыщенного раствора сульфата таллия(1) при 30°. Для получения металла высокой степени чистоты применяют нерастворимый платиновый анод. Катодом могут служить хорошо отшлифованные для получения легко снимающегося осадка платина, никель и нержавеющая сталь. Металл промывают, прессуют в бруски, плавят в атмосфере водорода и отливают в формы [I7J. [c.670]

Кадмиево-таллиевые катоды обрабатывают кипящей водой и паром. Полученный раствор содержит гидроокись таллия и незначительное количество кадмия. Кадмий удаляют осаждегшем содой в растворе остается карбонат таллия. От остальных примесей, содержащихся в растворе, таллий отделяют осаждением сульфидом натрия. [c.670]

Для удаления кобальта из растворов предлагается [ 186] комбинированный цементационно-ксантогенатный способ. При использовании органических осадителей типа ксантогенатов следует иметь в виду, что они, попадая в составе цинковых растворов на электролиз, могут существенно снижать выход по току. Предлагают также осаждать кобальт, никель и таллий совместно с кадмием во II кадмиевую губку и затем, после ее растворения, удалять указанные примеси известными способами из малого объема богатого кадмиевого раствора. На некоторых заводах осаждение II кадмиевой губки производят на цинковых пластинах (катодный цинк), а полученную губку плавят. Этот способ получения кадмия является менее производительным и более трудоемким, чем электролиз. В обоих случаях плавку как катодов, так и губки производят под слоем [c.68]

Аппараты колонного типа представляют собой вертикальные трубы, колонны, шахты, в которых находится металл-цементатор, через слой которого пропускают раствор. В одаом из патентов цементацию висмута предлагают проводить в вертикальной трубе высотой 2,0 м и диаметром 0,1 м, в которую помещают 28 кг стальной стружки. Сбоку в трубу подают воздух, при барботаже которого осадок висмута сдирается с поверхности железа. В другом из патентов также предлагают колонный цементатор (два или более последовательно соединенных), в котором цементацию металлов осуществляют цинковой пылью, смешанной с клеем и нанесенной на поверхность керамики или кварцевого песка. Вертикальная шахта с высотой столба железного скрапа 19,8 м обеспечивает время контакта 40 - 50 мин и осаждение меди от 2,4 до 0,01 кг/м [ 275]. Предложено устройство, состоящее из вертикальной трубы, на которой смонтированы реакционные камеры, заполненные губчатым железом. Пульпа подается в центральную трубу и проходит все камеры. Предложена также вертикальная башня с железным скрапом, в которую раствор поступает снизу. Цементная медь из башни выгружается также снизу при открывании люка В башню загружают отходы железа, алюминия и магния, которые предварительно активируют раствором соляной кислоты или трихлорэтила для удаления масел с поверхности ме-талла-цементатора. Раствор в башню подают снизу, а цементную медь выгружают эпизодически. [c.78]

Впервые разработка технологического процесса осаждения свин-цовоталлиевого сплава была проведена Финком и Конардом [61 ]. Электроосаждение покрытия осуществлялось в электролите, содержащем соли свинца и таллия и свободную хлорную кислоту. [c.150]

Возможность применения борфтористоводородного электролита для осаждения сплава РЬ—Т1 была исследована Берторелле и др. [64]. Установлено, что из электролитов без органических добавок, содержащих только борфтористоводородпые свинец и таллий и свободную борфтористоводородную кислоту, совместно осадить металлы не удается. Ими также установлено, что введение в электролит ОПл желатины, 5 Г/л алой на и совместное введение 5 Г/л алоина, 10 Г/л пептона и 10 Пл крезола позволяет получить свинцовоталлиевое покрытие. [c.152]

Кроме указанных металлов, в современной гальванотехнике разработаны условия осаждения редких металлов рения, галлия, таллия, а также таких металлов, как висмут, марганец и сурьма. Все эти металлы редко применяются в промышленности и используются главным образом при лабораторных исследованиях. Поэтому в настоящем справочнике приведены сведения об осажденин только сурь аы, имеющей некоторые перспективы использования ее для частичной замены оловянных покрытий под пайку, для покрытия печатных радиотехнических схем, для замены кадмия при защите стальных деталей от коррозии в морских условиях и для других отраслей машиностроения. [c.186]

Введением поверхностно активных веществ, затрудняющих осаждение боле е благородного компонента, можно также сбли- зить потенциалы разряда металлов и осадить сплавы, например, меди и олова в присутствии фенола [147], меди и свинца при введении в электролит тиомочевины [148J. Потенциалы разряда ионов металлов могут сближаться при повышении плотности тока также в растворах простых солей, если поляризация положительного металла выше, чем отрицательного, что наблюдается при со-осаждении металлов группы железа с марганцем и цинком, свинца с таллием и др. [c.41]

Для осаждения сплава, имеющего высокие антифрикционные свойства и более высокую теплостойкость, чем покрытие из сплава свинец — индий, рекомендуется электролит, г/л 39 РЬ 32 Т1 30 НС1,.во(< 10 пептона 10 клея. Температура комнатная, плотность тока 0,5 а1дм . Анод — сплав того же состава, что и покрытие. За 75 мин. осаждается плотное светло-серое и мелкокристаллическое покрытие толщиной 25 мк, содержащее 10% Т1 и 90% РЬ. Позднее Н. В. Коровин и А. С. Масленникова установили, что качественные покрытия сплавом свинец — таллий можно получить также в фторбористоводородном электролите. Содержание таллия в сплаве возрастает с увеличением содержания его в растворе (рис. 4) и с повышением плотности тока 5 Н. В. Коровин 65 [c.65]

Состав электролитов и условия осаждения сплавов свинец—таллий при кимиатной температуре [c.66]

Осаждение прочих металлов. Кроме указанных металлов в современной гальванотехнике пр.чменяется осаждение иридия, рутения, рения, галлия и таллия, а также некоторых других, которые не относятся к категории редких, но и не входят в группу металлов, широко применяе.мых в качестве защитно-декоративных покрытий. К ним относятся висмут, марганец и сурьма. Все эти металлы редко применяются в промышленности и используются главным образом при лабораторных исследованиях. Поэтому в настоящем справочнике технология их осаждения не приводится. Исключение представляет сурьма, осаждение которой используется для частичной замены оловянных покрытий под пайку, для покрытия печатных радиотехнических схем, для замены кадмия в условиях морской коррозии и в других отраслях машиностроения. Сурьма—серебристо-белый металл с уд. весом 6,88 и температурой плавления 630,5° С. [c.167]

Раствор для осаждеяяя N1—В-покрытнй по методу Нибодур. ГОСТ 9.305—84 вместо хлорида свинца и 2-меркаптобензотиазола можно вводить хлорид таллия 0,07— 0,1 г/л с нитритом натрия 0,6—1,2 г/л или нитрат таллия 0,08—1,2 г/л. При использовании хлорида таллия и нитрита натрия скорость осаждения 10—20 мкм/ч, при использовании нитрита таллия 20—30 мкм/ч. г/(дм>-ч). [c.383]

На процесс образования зародышей сильное влияние оказывает природа и кристаллическое состояние металла основы, а также состав электролита и режим электролиза. Обычно начальные стадии кристаллизации металлов изучают на ме-таллах-основах двух типов отдельная грань монокристалла и сферические моно-кристаллические электроды [12]. На электродах первого типа выясняют вопросы элементарных стадий процесса и механизма развития граней, а также процессы эпитаксии при осаждении металла на одноименный монокристалл гомоэпитаксия) или монокристалл из другого металла (гетероэпитаксия). Сферические монокристаллы используют для установления влияния природы грани монокристалла на образование зародышей. [c.29]

Следует отметить, что в осажденном хлориде таллия обычно содержится значительное количество кадмия, который осаждается с таллием в составе двойного хлорида Т1С1 d b. Для уменьшения содержания кадмия в осадке осаждение следует проводить при возможно более низкой температуре. [c.453]

Осаждение хромата таллия. Таллий может быть выделен из слабокислых растворов в виде желтого молорастворимого осадка бихром1ата Т СггОу. Осадителем служит бихромат натрия. [c.453]

Этот способ более применим для богатых растворов таллия. При осаждении бихром1ата таллия из бедных растворов (0,5— 1 г/л Т1) таллий выделяется не полно. [c.453]

Технологическая схема включающая осаждение Т1(0Н)з (рис. 188). Пыль, содержащую 0,04—0,12% Т1, выщелачивают разбавленной N2804 (конечный pH раствора 2). Выщелачивание ведут при 80° С в течение -- 10 ч при отношении т ж = 1 5. В Возгоны(Аво раствор извлекают до 90% Т1. Содержание таллия в растворе составляет 0,06— 0,15 г/л. Из раствора таллкй осаждают в виде Т1(0Н)з. [c.454]

Техно.югическая схема, включающая осаждение хлорида 36, 37] (рис. 192). Агломерационную пыль, содержащую 0,15% Т1, выщелачивают горячей.водой. Раствор после выщелачивания содержит 100—120 мг/л Т1. Извлечение таллия в раствор 65— 75%. [c.457]

С повышением температуры растворов скорость осаждения покрытий возрастает. Некоторые стабилизирующие добавки, например нитрат таллия, способствуют достижению скорости никелирования (15—16 мкм/ч) даже при небольших температурак (60—70° С) процесса (рис. 81). Покрытия из растворов со стабилизаторами, полученные при 60° С, имеют темную или матовую, а при 90° С — [c.159]

Раствор TI2SO4 подкисляют серной кислотой, и таллий из него осаждается цементацией на цинковых пластинах. В тех случаях, когда таллий извлекают в виде сульфида (рис. 40), его выделяют из раствора осаждением К2СГ2О7. Полученный металл электролитически рафинируют [16]. [c.70]

Висмут И его соединения Магний, кальций, барий, алюминий, титан, ванадий, хром, молибден, марганец, железо, кобальт, никель, платина, медь, серебро, золото, цинк, кадмий, индий, таллий, олово, свинец, сурьма, теллур (10- — 10- ) Осаждение висм5та в виде иодида То же 39 [c.14]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...