Апертура микроскопа

Угол раскрытия объектива микроскопа должен обеспечить возможность взаимодействия хотя бы двух пучков света. Следовательно, апертура микроскопа и должна превышать ф1 — угол дифракции, соответствующий максимуму первого порядка [c.343]

ВОВ на основании точных теоретических вычислений. В этой связи ему пришлось решать ряд вопросов, связанных со значением величины апертуры микроскопа и увеличением его разрешаюш ей способности. Здесь теория тесно переплеталась с практикой. [c.369]

Рис. 40. Способ вертикального освеш е-ния препаратов при большой апертуре микроскопа.

Так как отношение г/х представляет собой выходную апертуру микроскопа Л , которая связана со входной соотношением Л = Л Р, то освещенность изображения в конечном счете равна [c.26]

Изображение источника света должно полностью заполнять входное отверстие конденсора. Только в таком случае апертура микроскопа будет использована. наиболее рационально. [c.137]

Поскольку апертура объектива является величиной заданной, то регулировка и изменение апертуры микроскопа в целом осуществляются ирисовой диафрагмой конденсора. [c.141]

При обычной работе с микроскопом часто пренебрегают фокусировкой конденсора и не используют диафрагму коллектора. Размер освещенного поля регулируют передвижением конденсора. Это приводит к тому, что обе диафрагмы перестают действовать по своему назначению. При передвижении конденсора одновременно изменяется и диаметр освещенного поля и апертура микроскопа. С увеличением диаметра освещенного поля происходит вынужденное уменьшение апертуры. Такие приемы работы не применимы в микрофотографии. [c.142]

Фокусировка конденсора необходима для того, чтобы иметь возможность раздельно управлять величиной освещенного поля и апертурой микроскопа. Регулировка освещенного поля должна производиться независимо от регулировки апертуры. [c.142]

Единственный способ уменьшить аберраций — уменьшение апертуры микроскопа, так как аберрации пропорциональны тем или [c.94]

Величина же апертурного угла также определя.ю-щая числовую апертуру микроскопа, зависит от конструкции объектива и в сухих объективах ограничивается [c.328]

Из формулы (324) следует, что для повышения разрешающей способности микроскопа нужно уменьшать длину волны света и увеличивать числовую апертуру микроскопа. Первая возможность реализуется путем фотографирования исследуемых предметов в ультрафиолетовом излучении. [c.195]

Апертура микроскопа определяется по формуле А = п sin Од где sin Од < 1. Значение апертурного угла современных высоко качественных микрообъективов доведено практически до предела [c.195]

Разрешающая сила микроскопа. Явление дифракции на апертуре объектива ограничивает возможности микроскопа. Как и в других оптических приборах, для количественной характеристики способности микроскопа вводится понятие его разрешающей силы. [c.199]

Таким образом, разрешающая сила микроскопа тем больше, чем больше значение п sin и. Эта последняя величина получила название числовой апертуры объектива и обычно обозначается через Л. [c.350]

Таким образом, как для освещенных, так и для самосветящихся объектов разрешающая сила микроскопа зависит от числовой апертуры А. [c.354]

В объективах современных микроскопов числовая апертура достигает значительных величин. Для сухих систем п = 1 и sin и практически доходит до 0,95, так что возможно разрешение деталей, имеющих размеры около половины длины световой волны. С иммерсионными системами достигается разрешение в полтора раза большее. [c.354]

Так как числовую апертуру нельзя значительно повысить, то единственный способ увеличения разрешающей способности микроскопа состоит в переходе к более коротким волнам. [c.357]

Необходимость защиты оптической системы микроскопа от воздействия высокой температуры потребовала разработки специальных линзовых, зеркально-линзовых и зеркальных объективов с увеличенным по сравнению с обычными системами рабочим расстоянием [119, 175, 180]. Применение объективов с большим рабочим расстоянием (от 15 до 60 мм) и числовой апертурой 0,2—0,65 позволяет, во-первых, существенно упростить конструктивное выполнение элементов рабочей камеры и захватов нагружающих устройств во-вторых, достаточно свободно разместить в рабочей камере устройство для защиты смотрового кварцевого стекла от осаждения конденсата и, в-третьих, расширить экспериментальные возможности испытательных установок по диапазону рабочих температур, видам нагружения и т. д. [119]. [c.85]

Использование описанных выше устройств облегчает изучение структуры нагретых образцов с помощью высокотемпературных микроскопов, снабженных специальными объективами с большим рабочим расстоянием (от 15 до 60 мм) и числовой апертурой 0,2—0,65. Применение объективов с большим рабочим расстоянием позволяет, во-первых, существенно упростить конструктивное выполнение элементов рабочей камеры и захватов нагру-90 жающего устройства во-вторых, достаточно свободно разместить в рабочей [c.90]

На рис. 42 показан зеркально-линзовый объектив Дайсона с числовой апертурой А = 0,5 и увеличением 1. Выходящие из объектива О лучи проходят полупрозрачную защитную пластинку /, которая с помощью зеркала II направляет часть из них в плоскость а—а промежуточного изображения О. После этого изображение О проектируется с помощью обычного объектива III микроскопа в плоскость О", сопряженную с фокальной плоскостью окуляра. [c.95]

Недостатком рассмотренного устройства является специфическая для данного зеркального объектива нечеткость передаваемого изображения вследствие технологической сложности выполнения высококачественной поверхности эллиптического зеркала. В последнее время в ЛОМО разработаны новые зеркально-линзовые объективы, позволившие создать весьма совершенные оптические системы, предназначенные для исследований методами тепловой микроскопии. В частности, при использовании объективов с рабочими расстояниями 32 и 17,2 мм и апертурами 0,4 и 0,65 получили оптическую систему, обеспечивающую наблюдение объекта в светлом поле, при косом освещении и методом фазового контраста. [c.99]

Так как собственное увеличение объектива ОМ-144 составляет лишь 3,9,, в микроскопе применяется вспомогательный объектив с апертурой 0,2 и собственным увеличением 9. Этот вспомогательный объектив должен быть, сфокусирован на изображение, полученное с помощью объектива ОМ-144 [c.142]

Электронный микроскоп. В электронном микроскопе лучи света заменены потоком электронов, поэтому разрешающая сила его и предельное увеличение ограничиваются не длиной волны, а аберрациями геометрической оптики. Предельные увеличения электронного микроскопа могут достигать сотен тысяч крат. Другими преимуществами электронного микроскопа являются большая глубина резкости (вследствие малых угловых апертур), позволяющая получать стереоснимки и исследовать рельеф поверхности, а также возможность исследовать процессы при повышенных температурах. На фиг. 17 изображён электронный микроскоп с увеличением до 25 000 крат. [c.148]

Величина nsinu называется числовой апертурой микроскопа. Она равна примерно 1,5 и, значит, d = 0,4Х, т. е. для видимой [c.341]

Числовая апертура микроскопа Шварцшильда, при которой еще возможно достижение дифракционного разрешения, может быть достаточно большой до Л = 0,3-ь0,4, при этом от 30 до 50 % площади в центре выпуклого зеркала не используется. При ра- [c.209]

Рис. 34. Два принципиально отличных способа освещения микропрепаратов при больших апертурах микроскопа.

Рис. 39. Простейший способ освеш ения непрозрачных микропрепаратов при малой апертуре микроскопа.

Основной оптической частью установок для микроспектрофото-метрирования и микроспектрографирования является микроскоп, который создает увеличенное изображение объекта, позволяя визуально изучать микроструктуру препарата и выбирать отдельные элементы структуры для измерения. Кроме того, благодаря своей большой апертуре микроскоп создает высокую концентрацию света на объекте. [c.72]

Для простоты Аббе в качестве объекта рассматривает решетку (фиг. 31), освещенную когерентным пучком, созданным, например, малым источником света 5, помещенным в фокусе коллиматора С. Согласно описанию свойств решетки (стр. 54) в фокальной плоскости объектива микроскопа создаются диффракционные спектры 5 , 52, 5з... эти спектры играют роль вторичных когерентных источников, интерферирующих между собой в результате этой интерференции создается перед окуляром картина / , которая воспринимается, как изображение решетки R. Вычисления П окавывают, что изображение тем лучше, чем больше имеется спектров в фшалъной плоскости объектива число спектров обратно пропорционально расстоянию между штрихами, м тем больше, чем больше численная апертура микроскопа. Необходимо наличие не менее двух спектров, чтобы была видна структура изображе -гия, позволяющая считать число штрихов. При одном спектре получается серый фон микроскоп не разрешает решетки. Согласно этой теории, при освещении, перпендикулярном плоскости решетки, наименьшее разрешаемое расстоятше равно [c.61]

К этой же категории относится предложение одного советского автора (журнал Растениеводство за 1932 г.) задиафрагмировать фокальную плоскость объектива, оставляя лишь треть площадки выходного зрачка, с тем, чтобы увеличить резкость получаемых снимков. Этот прием уменьшаег апертуру микроскопа, а следовательно, при любой структуре предмета уменьшается разрешающая сила объектива, и число различимых подробностей убывает. Вероятно, автор пользовался объективом, обладающим большими остаточными аберрациями, И и зображения после диафрагмирования стали более резкими , т. е. освободились от фона и ореолов, создавая ложное впечатление резкости такой прием допустим только, если структура наблюдаемого предмета очень груба. [c.69]

Следовательно, при иекогереитиом освеп1,е11ии самосветящегося объекта разрешающая сила микроскопа тем больше, чем больше числовая апертура и чем меныне длина волны света. [c.201]

Увеличение разрешающей силы микроскопа. Из выражения разрешающей силы микроскопа видно, что суш,ествуют два пути ее увеличения а) увеличение числовой апертуры б) уменьшение длины волны света, в котором рассматривается объект. Числовую апертуру можно увеличить как увеличением угла апертуры, так и увеличением показателя преломления окружаюш,ей объект среды. Увеличення п можно добшъся, погружая объект в прозрачную жидкую Среду с возможно большим показателем преломления (со-ответствуюш,ие микроскопы называются иммерсионными). Однако, как известно, для оптически более плотных прозрачных жидкостей /г лг 1, 6, что не приводит к существенному увеличению разрешающей силы. Увеличение разрешающей силы за счет увеличения апертуры также ограничено, так как в предельном случае sin и = = 1. В реальных случаях можно добиться значения sin и = 0,95 при /г = 1. Это означает, что возможно разрешение деталей объекта размером порядка половины длины световой волны. [c.203]

Мы нашли выражение для разрешающей силы микроскопа, исходя из предположения, что точки объекта посылают некогерентные волны (объект самосветящийся), так что ди()зракционные картины просто накладываются одна на другую. Однако обычно в микроскоп рассматривают объекты освещенные, а не самосветящиеся. Это значит, что отдельные точки объекта рассеивают падающие на них волны, исходящие из одной и той же точки источника, и, следовательно, свет, идущий из разных точек объекта, оказывается когерентным. К такому случаю, гораздо более распространенному, наш вывод разрешающей силы микроскопа непосредственно неприложим (см. упражнение 120). Аббе указал весьма интересный прием определения разрешающей силы для случая освещенных объектов и нашел, что и в данном случае разрешающая сила также определяется числовой апертурой объектива. Метод рассмотрения Аббе состоит в следующем. [c.350]

Из изложенного ясно, что для получения правильного изображения надо, чтобы через объектив микроскопа и далее проникали дифракционные пучки всех направлений. Обычно внутри микроскопа не ставится препятствий, так что опасность представляет лишь входной зрачок, которым служит оправа объектива, ограничизаю-ищя его рабочее отверстие ). Чем меньше предмет или его деталь d, тем большие углы дифракции он обусловливает и тем шире должно быть отверстие объектива. Отверстие объектива определяется углом 2и между крайними лучами, идущими от объекта (расположенного у фокуса) к краям объектива. Половина этого угла носит название апертуры. Если апертура меньше pi — угла дифракции, соответствующего спектрам первого порядка, т. е. sin и < sin tpi = = Ao/d, то в микроскоп проникнут только лучи от центрального максимума и мы не увидим изображения, соответствующего деталям, определяемым величиной d, т. е. в случае нашей решетки будем иметь равномерное освещение. Таким образом, условр езш и У - XJd есть условие, необходимое для разрешения деталей d. В крайнем случае (sin и = %old) мы жертвуем максимумами высших порядков, т. е. как сказано, несколько ухудшаем качество изображения. Чем больше sin и по сравнению с kjd, тем больше спектров высших порядков участвует в построении изображения, т. е. тем точнее передается наблюдаемый объект. [c.353]

Вначале наши установки снабжались металлографическим микроскопом МВТ с линзовыми объективами с рабочим расстоянием 14,5 мм. Однако эти оптические средства не позволяли достигать рабочих температур выше 1200° С. Поэтому были использованы более совершенные линзовые объективы МИМ-13С0 конструкции Ленинградского оптико-механического объединения, имеющие рабочее расстояние 59,22 мм и апертуру 0,27 (Х270). Большое рабочее [c.85]

Более совершенным является линзовый объектив типа МИМ-13СО конструкции Ленинградского оптико-механического объединения (ЛОМО), имеющий рабочее расстояние около 60 мм и апертуру 0,27. Этот объектив предназначен для опытного горизонтального высокотемпературного микроскопа типа УВТ-1 и, как показала практика, его удовлетворительно использовали в микроскопе МВТ-1. [c.91]

В 1950 г. в Государственном оптическом институте (ГОИ) были разработаны специальные зеркально-линзовые насадки к объективам микроскопа, увеличивающие рабочее расстояние. В качестве примера на рис. 43 приведена оптическая система, состоящая из собственно объектива микроскопа с увеличением 40 и апертурой 0,65 (40x0,65) и микронасадки (компоненты / и //) с рабочим расстоянием 30 мм и увеличением 1, дающей промежуточное изображение О. Первая поверхность линзы I выполнена асферической и тщательно просветлена. Чтобы исключать влияние прямой засветки, на центральную часть линзы нанесен непрозрачный экран. [c.95]

Промышленностью выпускается мало аппаратуры для измерения твердости нагретых образцов [36, с. 370]. В Японии, например, фирма Ниппон Когаку К. К- изготавливает твердомер Никон , с помощью которого можно исследовать различные материалы в вакууме или в инертных средах (аргоне, гелии, азоте), измеряя под микроскопом диагонали отпечатков алмазного или сапфирового индентора Виккерса непосредственно после их нанесения на нагретый образец. Микроскоп снабжен объективом с рабочим расстоянием 18 мм и апертурой 0,3. Оптическая система микроскопа обеспечивает увеличение при визуальном наблюдении поверхности образца в 100 раз и при измерении диагоналей отпечатка в 300 раз. Диаметр поля зрения в первом случае составляет 1,6 мм, во втором 0,53 мм. [c.114]

Устройство для изучения микроструктуры исследуемого образца. Для наблюдения и фотографирования микроструктуры образцов непосредственно в процессе испытания на усталость применен металлографический микроскоп 4 (см. рис. 80) типа МВТ с объективом МИМ-13-С0, имеющим рабочее расстояние 59,22 мм и апертуру 0,27. В крушке камеры находится смотровое плоскопараллельное стекло 19 диаметром 50 мм и толщиной 2 мм. Для фотографирования микроструктуры используются микрофотонасадки МФН-8 или МФН-12, а для киносъемки предназначена кинокамера типа КСР-1М. Для защиты смотрового стекла 19 от перегрева в моменты, когда не производится наблюдения за микроструктурой образца, предусмотрена подвижная шторка, управление которой осуществляется через рычажное устройство электромагнитным толкателем. От осаждения конденсата испаряющихся с поверхности образца частиц смотровое стекло 19 защищено плоскопараллельными кварцевыми стеклами, перемещаемыми по лотку, в котором имеется смотровое отверстие. Стекла [c.149]

Прибор ПМТ-3 имеет следующие характеристики увеличение микроскопа 130Х и 487Х параметры линейного поля зрения микроскопа с объективами фокусное расстояние — 23,2 л м, апертура 0,17—1,3, фокусное расстояние 6,2, апертура 0,65—0,3 пределы измерения диагоналей 0,005—0,25 мм нагрузка 0,049 Н (5 гс) — 1,902 Н (200 гс). [c.267]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...