Дисперсия спектрального аппарата

Если линейная дисперсия спектрального аппарата Д = = 0,05-Ь 0,1 мм/нм, а к = 100, то это означает, что можно получить увеличение в тысячи и более раз. [c.131]

Поверхность пластинки проектируется на щель спектрографа поэтому через различные точки щели (вдоль ее длины) будет проходить излучение различных длин волн и в фокальной плоскости спектрального аппарата получатся искривленные интерференционные полосы в соответствии с изменением оптической толщины (рис. 4.14). Интерференционные полосы воспроизведут, таким образом, искажения оптической толщины исследуемого объекта вдоль проектируемого на щель участка. Однако эти искажения будут в большой степени увеличены по сравнению с фактической микрогеометрией поверхности. Из простых соображений можно заключить, что увеличение масштаба будет тем больше, чем больше линейная дисперсия спектрального аппарата. [c.52]

Поэтому установки для изучения этих двух явлений должны существенно различаться разрешающей силой и областью дисперсии спектральных аппаратов. [c.174]

Комбинируя действие различных спектральных аппаратов, иногда удается повысить область дисперсии аппаратуры, не снижая разрешающей способности. На этих специальных случаях мы останавливаться не будем. [c.219]

Несколько особое место среди оптических инструментов занимают спектральные аппараты, предназначенные не для получения изображения светящегося объекта, а для исследования спектрального состава посылаемого им света. В соответствии с этим существенную часть спектрального аппарата составляет приспособление для разложения света по длинам волн. Такую роль исполняет призма, выполненная из материала со значительней дисперсией, дифракционная решетка или какой-либо интерференционный прибор. Последние служат для детального анализа света, довольно близкого к монохроматическому, ибо дисперсионная область этих приборов весьма ограничена. Поэтому их нередко употребляют в соединении с призматическим или дифракционными спектральными аппаратами, которые являются наиболее распространенными инструментами этого рода. [c.337]

В случае, если спектральный аппарат снабжен одинаковыми ахроматическими объективами или зеркалами, то отношение линейных дисперсий может быть заменено отношением угловых дисперсий. Последняя же, как известно, пропорциональна дисперсии призмы, которая может быть в простейшем случае определена [c.438]

Прп фотоэлектрическом методе спектрального анализа можпо использовать любой спектральный аппарат с достаточной для спектрального анализа угловой дисперсией (см. гл. 8, 1), снабдив его приставкой с фотоэлектрической конденсаторной схемой. [c.612]

Перепишем выражение (3.3.10) через длину волны и отметим, что изменение оптической толщины б(п ) приведет к смещению полосы к-го порядка в спектре на бХ, т. е. 2б tlt) = кЫ. Разделим обе части этого равенства на линейную величину б/ этого смещения, измеренную в фокальной плоскости спектрального аппарата. Тогда в правой части равенства получим величину ЬХ/81 = 1/ >г, которая представляет собой обратную линейную дисперсию спектрального прибора. Линейное смещение полосы будет [c.131]

Метод крюков . Для получения экспериментальной кривой дисперсии следует использовать установку, состоящую из интерферометра и спектрального аппарата. [c.154]

Объективные методы исследования. Для проведения объективного фотометрирования интерференционной картины (фотоэлектрические методы) необходимо иметь постоянную фазу вдоль щели спектрального аппарата. Это означает, что интерференционные полосы должны быть ориентированы перпендикулярно к дисперсии спектрального [c.164]

При рабочих условиях (1 з я . 10" рад) угловая дисперсия интерферометра Фабри — Перо значительно превышает дисперсию других спектральных аппаратов. Это является основным преимуш,еством интерферометра Фабри — Перо. [c.250]

Важными характеристиками дифракционной решетки и других спектральных аппаратов являются угловая дисперсия, дисперсионная область и разрешающая способность. [c.312]

Это и есть дисперсионная область дифракционной решетки в рассматриваемом участке спектра. При заданной длине волны она определяется только порядком спектра т. Чем больше т, тем уже дисперсионная область. В дифракционных решетках используются спектры низких порядков (обычно второго или третьего). Поэтому дифракционные решетки характеризуются широкими областями дисперсии и пригодны для исследования широких участков спектра. В этом основное преимущество дифракционных решеток перед интерференционными спектральными аппаратами, у которых из-за высоких порядков т дисперсионные области очень узкие. [c.313]

Разрешающая способность. Большая дисперсия еще не означает, что две спектральные линии с близкими длинами волн Я, и Я = Я + бЯ, разрешаются спектральным аппаратом, т. е. при их наблюдении воспринимаются как раздельные спектральные линии. Каждая спектральная линия, как бы узка она ни была, изображается спектральным аппаратом не в виде линии, а в виде [c.313]

Какую разрешающую силу должен иметь спектральный аппарат для раз решеиия дублета D-линии натрия = 589,0 нм, = 589,6 нм) Подсчитать минимальное число штрихов решетки, которая может разрешить его в спектре первого порядка. При каком наименьшем основании а можно сделать то же самое с помощью призмы, изготовленной из стекла с дисперсией dn/dX = —956 см [c.324]

Для исследования крыла линии Релея в маловязких жидкостях, в которых оно простирается на десятки обратных сантиметров, с успехом используются призменные спектрографы с большой и средней разрешающей силой и большой линейной дисперсией (7—2 К мм в области 4358 и 4047 А). В различных исследованиях использовались различные марки спектральных аппаратов, удовлетворяющих названным условиям. [c.175]

Для проведения объективного фотометрирования интерференционной картины (фотоэлектрические методы) необходимо иметь постояннную фазу вдоль щели спектрального прибора. Это означает, что интерференционные полосы должны быть ориентированы перпендикулярно дисперсии спектрального аппарата, а не параллельно, как это имело место в рассмотренных выше методах. При этом целесообразно использовать интерференционные полосы равного хроматического порядка (см. 3.3). [c.238]

Угол между направлением лучей различных длин волн (угловая дисперсия Аф/AJi) определяется числом призм, их материалом и величиной преломляющих углов. Некоторые из призм описаны в 86. Дисперсия в призме зависит также от ее положения в параллельном пучке лучей. Дисперсия сильно возрастает, если угол падения лучей становится меньше угла, соответствующего положению минимального отклонения (см. 86). Однако при таком положении ширина выходящего пучка становится значительно меньше ширины падающего, и призма действует как телескопическая система, дающая увеличение (см. упражнение 111). Это обстоятельство невыгодно отзывается на светосиле спектрального аппарата. Впрочем, благодаря значительному увеличению угловой дисперсии при такой установке призм можно применять более короткофокусные и, следовательно, более светосильные камерные объективы. Поэтому такие системы иногда применяются (В. М. Чула-новский), хотя в большинстве спектрографов призму располагают в минимуме отклонения. Расстояние на пластинке между линиями разной длины волны (линейная дисперсия XIIАХ) зависит от фокусного расстояния f объектива камеры [c.339]

Наилучшие результаты получаются по методу скрещения спектральных аппаратов, причем одним из них служит, например, интерферометр Жамена, а вторым — обычный спектрограф с призмой или дифракционной решеткой, обладающей большой дисперсией (Вуд, Д. С. Рождественский). Их надо расположить таким [c.544]

Выразим уравнение (4.46) через длину волны и продифференцируем его 2b nt) = кбХ. Разделим обе части равенства на некоторую малую линейную величину б/, измеренную в фокальной плоскости спектрального аппарата. Тогда в правой части равенстЁа получим величину D = бХ/б/, которая представляет собой обратную линейную дисперсию спектрального прибора. Линейное смещение полосы будет [c.53]

Как правило, величина D =dlldX достаточно велика, а порядки интерференции k сравнительно малы, если пластинка тонкая. При обратной линейной дисперсии среднего спектрального аппарата, равной 1—2 нм/мм, и k = 100 можно получить увеличение масштаба в тысячи и более раз. [c.53]

Сложнее обстоит дело, когда необходимо определить но этому методу отношение интенсивностей двух и более спектральных линий на призхмепиом спектральном приборе. В этом случае сравниваемые спектры (линейчатый — исследуемый и сплошной — эталонны ) претерпевают различного характера искажения спе <-тральным аппаратом. Здесь следует учитывать как различие дисперсии, так иногда и линейного увеличения оптиче С1<ой системы [c.437]

Для оценки влияния той или иной помехи на работу ОЭП необходимо знать основнью статистические характеристики их излучения математические ожидания, дисперсии, корреляционные функции или спектральные плотности мощности (спектры Хинчина—Винера) и др. Однако недостаточное на сегодня количество статистических данных о характеристиках излучения многих источников помех затрудняет задачу достоверного их описания с помощью аппарата случайных функций. Поскольку функции, описывающие из-лучательиые свойства источников помех, являются многомерными (например, яркость фона, на котором наблюдается цель, может быть функцией длины волны, двух линейных координат, времени и других аргументов), а кроме того, часто цестационарными, общие выражения корреляционных функций или спектрсж мощности даже для простейших случаев представляют собой весьма громоздкие и зачастую неудобные. для практического использования формулы (даже при использовании ЭВМ). [c.44]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...