Напыление взрывное

МЛТ-ЗМ Термическое напыление. Взрывное испарение. Испарители — проволока, фольга Катодное распыление Сг—А Сг —Си —N5 200—500 = 21 — 2 [c.440]

Кермет К-20С Термическое напыление. Взрывное испа- Сг —А1 —Ы) 5 000—10 000 8.0 0,5 [c.440]

Рис. VI. 15. Схема установки напыления взрывным методом.

Модулятор в данном случае формировался напылением на полученную структуру молибдена с последующим взрывным травлением. При этом получалась самосогласованная юстировка автокатодов и отверстий модулятора. Расстояние между краями графитового катода и модулятора составляет около 3—5 мкм. Конструкция элемента плоского дисплея на основе данной конструкции показала на рис. 7.9. Для уменьшения токов утечек между катодом и модулятором вытравливается полость в стекле глубиной 3— 5 мкм. Использовался анод обычной конструкции (со слоями ITO и люминофора). Далее использовалась обычная технология для образования обратных контактов. [c.258]

Детонационное нанесение покрытий заключается в том, что материал покрытия выбрасывается взрывной волной со сверхзвуковой скоростью. Кинетическая энергия частиц при этих скоростях (750—1600 м/с) на два порядка выше, чем в случае газопламенного и плазменного нанесения покрытий. В результате этого напорное давление сильно возрастает, в момент удара происходит пластическая деформация, что и приводит к повышению прочности сцепления. Аппаратурно-детонационное нанесение покрытий производится через цилиндрический ствол, в котором в его рабочей камере находится смесь ацетилена с кислородом в оптимальном взрывном составе. Смесь поджигают свечой зажигания, и взрывная волна, уносящая материал покрытия, направляется ifa изделие. Температура при этом способе практически совпадает с температурой пламенного напыления. Отличие состоит в более высокой скорости движения частиц и соответственно большем напорном давлении в момент соприкосновения с подложкой. [c.251]

Установка детонационного напыления (рис. 3.35) включает водоохлаждаемый закрытый с одного конца ствол 5 длиной 1200...2000 мм и диаметром 8...40 мм. Внутренняя полость ствола вблизи торцовой стенки образует взрывную камеру 3. В ее стенке установлено запальное устройство 2 и клапанное устройство для подачи горючего и окислительного газов. В торце ствола имеется порошковый питатель 1. На расстоянии [c.367]

Покрытие при вакуумном конденсационном напылении формируется из потока частиц, находящихся в атомарном, молекулярном или ионизированном состоянии. Этот поток частиц получают распылением материала посредством воздействия на него различными энергетическими источниками. Различают распыление наносимого материала путем термического испарения, взрывного испарения-распыления и ионного распыления твердого материала. Вакуумное конденсационное напыление проводят в жестких герметичных камерах при давлении 133-10 ... 13,3 Па. Благодаря этому обеспечиваются необходимая длина свободного пробега напыляемых частиц и защита материала от взаимодействия с атмосферными газами. [c.372]

Установки для вакуумного конденсационного напыления покрытий классифицируются по ряду признаков. В зависимости от режима работы установки бывают периодического или полунепрерывного действия. Ось рабочей камеры располагается вертикально и горизонтально. По структурному строению установки делятся на одно- и многопозиционные. Средства откачки среды бывают масляные и безмасляные, низко- и высоковакуумные, а типы распылительных устройств - термического распыления, взрывного дугового испарения-распыления, ионного распыления, комбинированные. Применяют несколько типов установок, различающихся между собой способом нагрева испаряемого материала. К ним относятся установки с резистивными, электронно-лучевыми, высокочастотными индукционными и дуговыми испарителями. [c.375]

При напылении металла в камеру охлаждаемого водой ствола аппарата для напыления (рис. 15.3) подаются в определенном соотношении ацетилен и кислород. Затем в камеру вводится с помощью струи азота напыляемый порошок с размером гранул 50... 100 мкм. Газовую смесь поджигают электрической искрой. Взрывная волна сообщает частичкам порошка высокую скорость полета, которая на расстоянии 75 мм от среза ствола достигает 800 м/с. [c.173]

Попытка количественного сравнения различных методов нанесения покрытий в вакууме предпринята авторами работы [245], причем в каждом из методов учтены их разновидности. Так, метод термического напыления рассмотрен с точки зрения резистивного метода нагрева испаряемого материала, электронно-лучевого и взрывного с непрерывной догрузкой тигля порошком испаряемого материала. В методе катодного распыления рассмотрены обычное высокочастотное распыление и высокочастотное распыление при наличии отрицательного потенциала на подложке. Метод ионного осаждения представлен процессами с применением плазмы, получаемой в разряде постоянного напряжения и в высокочастотном поле, причем каждая из этих разновидностей рассмотрена с точки зрения резистивного и электронно-лучевого испарителя. Для возможности сравнения все рассматриваемые процессы нанесения покрытий были отнесены к вакуумной камере одного и того же размера — цилиндр диаметром 60 см. [c.16]

Вакуумное конденсационное напыление (осаждение). Покрытие формируется из потока частиц, находящихся в атомарном, молекулярном или их ионизированном состоянии. Для получения потока пара (частиц) используют различные источники энергетического воздействия на материал. Различают формирование потока частиц посредством термического испарения материала, ионным распылением или взрывным испарением - распылением. Соответственно этому вакуумное конденсационное напыление разделяют на методы. При ионизации потока напыляемых частиц реализуется способ ионно-плазменного напыления, а при введении в поток реактивного газа - вакуумное конденсационное напыление. [c.224]

Разработан целый ряд моделей травления и осаждения. Основные параметры процессов травления были выведены из моделей роста кристаллов и использованы для плазменного, ионно-реактивного и ионно-лучевого травления [13.50 - 13.57]. Были также промоделированы процессы напыления и испарения [13.62 - 13.67], кроме того, исследованы условия, необходимые для взрывного удаления металла [13.66, 13.67], и изучены процессы получения многослойных покрытий [13.65]. [c.336]

Расстояние и угол расположения проволоки по отношению к напыляемой поверхности сильно влияют на свойства покрытия. Когда расстояние между проволокой и подложкой очень мало, поверхность подложки становится шероховатой и деформируется под действием температуры газа и давления взрывной ударной волны. Когда расстояние слишком велико, частицы окисляются, так как выходят из атмосферы паров взорванной проволоки перед ударом о подложку. При оптимальном расстоянии процесс распыления и осаждения частиц происходит последовательно. Сначала поверхности подложки достигают пары взорванной проволоки, а крупные частицы движутся и ударяются о поверхность подложки в атмосфере паров проволоки. Поэтому частицы и основной материал окисляются мало. Из результатов исследований оптимальное расстояние между проволокой и обрабатываемым материалом берется с в = 30г, где г — радиус проволоки. Оптимальный угол напыления 90° при углах менее 4—5 частицы не сцепляются с поверхностью подложки. Для направления частиц на обрабатываемую поверхность можно использовать плексигласовую пластину (расплавленные частицы не сцепляются с ней), расположенную рядом с проволокой и отражающую частицы в нужную сторону. Регулируя направление струи, можно легко получить ровное по толщине покрытие даже на плоской поверхности. Так как время образования одного слоя покрытия около 100 мксек, то [c.130]

Многокомпонентные сплавы № 1 — 11 Термическое напыление и взрывное испарение. Испарителв Та, проволока, фольга r— Au 350 — 500 2—20 0.5-2.0 [c.441]

Detonation flame spraying — Газопламенное взрывное напыление. Процесс теплового напыления, при котором управляемый взрыв смеси горючего газа, кислорода и измельченного материала покрытия его расплавляет и направляет на заготовку. [c.935]

Значительно меньшая пористость получается у покрытий, наносимых взрывным методом напыления. Приспособление для нанесения взрывным методом (рис. VI. 15) состоит из огневой камеры со стволом и механизма, подающего в огневую камеру точное количество ацетилена и кислорода. В стволе имеется отвод для подачи порошкообразного напыляемого материала (карбида вольфрама и др.). При восиламенении смеси искрой от запальной свечи развивается высокотемпературная взрывная волна, распространяющаяся со скоростью, в 10 раз превышающей скорость звука. Позади взрывной волны создается участок пространства, заполненный продуктами сгорания газовой смеси со взвешенными частицами карбида. За 0,003 сек. давление внутри ствола возрастает до 700 кг см . По выходе из ствола детонационная волна рассеивается в воздухе, а сжатые газы вырываются, перенося частицы карбида на покрываемук - [c.647]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...