Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...

Статьи Чертежи Таблицы О сайте Реклама

Объектный луч

Выражая отрезки аЬ и d через шаг решетки Т и углы а и р, составление референтным и объектным лучами с нормалью к решетке п, найдем  [c.90]

Проведем некоторую вспомогательную плоскость Р, параллельную поверхности решетки, и продлим референтный и объектный лучи и О до пересечения с этой плоскостью. Из (5) следует, что расстояния между точками пересечения объектного и референтного лучей с плоскостью Р (точки а и О на рис. 33) не зависят от угла падения референтного луча на решетку и определяются ее структурой (шагом Т) и длиной волны %.  [c.92]


Направление опорного пучка определяется нормалью к фронту волны, или опорным лучом направление объектного пучка определяется средним направлением света от объекта (точечного элемента объекта), или объектным лучом. Поэтому для анализа процессов распространения опорных пучков и образования объектных удобно использовать метод построения хода лучей, как это принято в геометрической оптике.  [c.13]

При длине волны света Яз = 0,514 мкм, т. е. при зеленом свете, показателе преломления света ns = l,52, угле между опорным и объектным лучами в слое 20s = 15O°, согласно формуле (1.1), расстояние между соседними полосами элементарной голограммной структуры в толще слоя равно Ai/ = 0,175 мкм.  [c.14]

Другой особенностью голограммных структур пропускающих голограмм является большее расстояние между соседними полосами. Например, при длине волны света Я = 0,514 мкм, т. е. при зеленом свете, показателе преломления 1,52, угле между опорным и объектным лучами 20 = 30°, согласно формуле (1.1), расстояние между соседними полосами элементарной голограммной структуры в толще слоя равно Ai/ = 0,653 мкм.  [c.14]

Рнс. 8. Изменение направления объектных лучей света при изменении направления опорных лучей в процессе воспроизведения изображения для а — пропускающих голограмм б — отражательных голограмм  [c.20]

Рассмотрим для примера получение пропускающей и отражательной голограмм в красном свете при is = 0,647 мкм и воспроизведение изображений в желтом свете при = 0,578 мкм. Примем направление опорных пучков в воздухе равным =45° направление объектных лучей перпендикулярным поверхности слоя, т. е. для отражательной голограммы ц,5 = 180° и для пропускающей голограммы, Us = 0° показатель преломления для слоя равным = = 1,52. Если толщина слоя сохраняется неизменной, согласно формуле (1.8), критическая толщина слоя отражательной голограммы равна dkp=l,89 мкм, а пропускающей dkp = 31,l мкм.  [c.23]

Приведенные формулы для количественной оценки влияния толщины слоя на свойства голограммы можно пспользовать и в тех случаях, когда толщина слоя меняется от момента экспонирования фотопластинки до момента воспроизведения изображения вследствие усадки или набухания. При этом в указанные формулы подставляются приведенные значения для длины волны света и для направления объектных лучей света (при неизменном направлении опорных лучей), которые вычисляют по следующим формулам (рис. 11)  [c.24]


Рассмотрим частный случай образования голограммной структуры двумя плоскими попутными волнами, когда опорные и объектные лучи лежат в одной плоскости, параллельной плоскости уг (рис. 117). fl s (J.S — углы падения опорных и объектных лучей  [c.178]

Выше приведены соотношения, определяющие структуры двухмерных и трехмерных голограмм, образованные двумя пучками света, когда опорные и объектные лучи лежат в одной плоскости yz.  [c.183]

Рассмотрим более общий случай, когда плоскости падения опорных лучей, параллельных в пределах пучка, не параллельны плоскостям падения объектных лучей, также параллельных в пределах своего пучка. Примем, что ось z перпендикулярна поверхности регистрирующего слоя. Обозначим, что  [c.183]

Условия (11.30) и (П.31) соответствуют получению пропускающих голограмм. Условия (11.30) и (11.32) соответствуют получению отражательных голограмм. В этих уравнениях / , ho— интенсивность опорного пучка в толще слоя и на его поверхности, на которую падают лучи /р., — интенсивность объектного пучка в толще слоя и на его поверхности, на которую падают лучи д, (г — углы падения опорного и объектного лучей света в толще слоя as— коэффициент поглощения света в слое по амплитуде d — толщина слоя.  [c.184]

Как видно из соотношения (11.34), при падении опорных и объектных лучей на одну сторону регистрирующего слоя эффективная толщина слоя, в которой образуется голограммная структура, может оказаться значительно меньше полной толщины этого слоя, если в нем происходит чрезмерно сильное поглощение света. Как видно из соотношения (11.35), при падении опорных и объектных лучей света на регистрирующий слой с противоположных его сторон, в случае чрезмерного поглощения света голограммная структура может оказаться слишком слабо выраженной.  [c.185]

При простейшей голограммной структуре, сформированной двумя плоскими волнами, когда опорные и объектные лучи лежат в плоскости yz (рис. 114) в соответствии с уравнением (11.17),. справедливы соотношения  [c.191]

Если разность углов падения опорных и объектных лучей света велика, например 0 = 30°, 30°, а направление опорных лучей  [c.195]

В разделе (II.1.1) приведен анализ образования голограммной структуры в общем случае, когда плоскости падения опорных лучей не параллельны плоскостям падения объектных лучей. Направление вектора голограммной структуры определяется вырал ениями  [c.195]

Вне зависимости от того, падали ли опорные и объектные лучи прп получении голограммы с одной стороны или с двух сторон на регистрирующий слой, дифрагированные лучи света выходят из голограммы как с одной, так и с другой стороны. Таким образом, каждую двухмерную голограмму можно рассматривать как пропускающую, так одновременно и как отражающую.  [c.196]

В связи с этим интересно отметить, что одна и та же голограммная структура может быть получена при падении опорных и объектных лучей света на одну сторону регистрирующего слоя и с противоположных сторон. При неизменном абсолютном значении угла падения опорных лучей 10 s объектные лучи света для указанных случаев будут отличаться друг от друга на величину  [c.196]

Приведенные соотношения для дифракции света на трехмерной голограмме получены для случая линейной поляризации света типа S, когда вектор электрического поля для опорных и объектных лучей света перпендикулярен плоскости падения этих лучей на голограмму XZ. При этом вектор голограммной структуры лежит в плоскости XZ.  [c.207]

Если векторы электрического поля опорных и объектных лучей лежат в плоскости падения этих лучей на голограмму, т. е. в случае поляризации р-типа, вместо волнового уравнения (П.81) оказывается справедливым векторное уравнение следующего вида  [c.207]

Обычно К каждой точке поверхности регистрирующего слоя при получении голограммы приходят объектные лучи во множестве направлений, поэтому целесообразно рассматривать объектный пучок как состоящий из множества гомоцентрических элементарных пучков. При этом каждый центр элементарного пучка располагается на поверхности объекта.  [c.211]

Для принятого допущения малых значений разности углов между опорными и объектными лучами света можно исходить при рассмотрении дифракции света на голограмме из скалярного волнового уравнения  [c.215]


Разрешающая способность и размеры фотопластинки накладывают ограничения на линейные размеры объекта. Рассмотрим случай получения голограммы, приведеннгяй на рис. 9. Пусть опорный и объектный лучи, амгглитудьг  [c.41]

Регистрация голограммы осуществляется по схеме, приведенной на рис. 28. Луч от имнулнсного лазера 2/ проходит через зepкaJ la 22, 24 и объектив 23, который расширяет луч в 2 раза светоделитель 19 разделяет пучок света на опорный луч, который проходит через систему спаренных зеркал /7, Я. 20, блок светофильтров 6, линзу 4, зеркало / и объектный луч, который проходит через светоделитель 9, объектив //, зеркало 8, сферическое зерк 1ло 9, а затем падает на исследуемый объект 5. Наконец опорный и объектный лучи попадают па фоточувстви-тельный материал 7. Спаренные зеркала /2 и 13 могут перемещаться (положение /2 и /, ), что позволяет изменять путь опорного луча и тем самым удается привести в соответствие пути опорного и объектного лучей.  [c.76]

Оптическая схема измерения переме1цений с испо.ль-зованием датчика с корреляционной обработкой измерительной информации приведена на рис.. 37. Она содержит лазер 2, блок / оптических. элементов для формирования опорного и объектного лучей при получении голограммы  [c.93]

Объектным лучом в процессе тадуирс1вки служит световое пятно, создаваемое ла зером на диффу зно-отра-жающей поверхности объекта. Смена изображения кода в опорном луче сопровождается. эталонным нагружением или перемещением объекта на один шаг квантования зоны измерения, при. этом каждому изображению кода при получении голограммы соответствует своя картина щероховатости в пределах светового пятна. При восстановлении волновых фронтов (в процессе измерения) в качестве восстанавливающе10 источника используют те же картины шероховатости на поверхности контролируемого объекта, что и в процессе градуировки.  [c.94]

Л — лазер, М — модулятор, ОПЛ и ОБЛ — опорный н объектный лучи, 3 — затвор, ЛР — линзовый растр, УТ — управляемый транспарант, ГЗС — голографическая запоминающая среда, МФ — матрица фотэпрнемннков, ЭБУ — электронный блок управления, Д — дефлектор  [c.36]

Рассмотрим детально процесс дифракции референтного луча R в объектный луч О на одной из упомянутых решеток D, характеризующейся пространственным периодом Т (рис. 33). Как известно, реконструированное голограммой изображение образуется лучами первого порядка дифракции, т. е. такими, у которых разность хода лучей, дифрагировавших на смежных элементах решетки, равна длине волны к. Из геометрии рис. 33 видно, что луч.и R и R, принадлежащие одной референтной волне дифрагируя на смежных элементах решетки в объектные лучи О и О, приобретают разность хода за счет участков аЬ и d. В соответствии с этим условие формирования волны первого порядка дифракции можно записать следующим образом  [c.90]

Голограмма образуется в светочувствительном материале (фотопластинке или фотопленке) в процессе его экспонирования в голографическом световом поле и дальнейшей фотохимической обработки. Голографическое световое поле образуется в результате когерентного сложения опорной волны света, направляемой непосредственно от лазера, и объектной волны, отраженной от объекта, освещенного тем же лазером. Возникающая интерференционная картина регистрируется в виде голограммнрй структуры. При этом каждый малый элемент фотоматериала регистрирует интенсивность объектных лучей света, падающих на этот элемент, независимо для каждого направления в виде изменения оптической плотности и показателя преломления слоя. Зарегистрированная в слое голограмма обладает свойствами дифракционной решетки.  [c.11]

Если при воспроизведении изображения угол падения восстанавливающих лучей сохраняется таким же, как при получении голограммы, а длина волны света немного изменяется, формула (1.4) приобретает другой, также более простой вид. Для объектных лучей, перпендикулярных к поверхности фотопластинки при записи ГП.ЛПГПЯММЧ, получается следующее соотношекке  [c.19]

Как видно из соотношений (1.17), для уменьшения астигматизма, приводящего к сокращению размеров зоны вйдения, целесообразно углы наклона объектных лучей в горизонтальной а и вертикальной р плоскостях выбирать близкими друг к другу.  [c.137]

Рис. 108. Схема экспонирования фрагмента голографического экрана на 24 зоны а — вид сбоку б—вид сверху в — матрица зеркал 5 1 — фотопластинка 2 — микрообъектив опорного пучка 5 —лниза опорного пучка 4 — микрообъек-тив объектного пучка 5 — зеркальная матрица из 6X4 элементов — центр схождения опорного пучка 5ц—5б4 — элементы зеркальной матрицы 7 — объектный пучок g — опорный пучок Р — луч объектного луча, проходящий через центр зеркала Рис. 108. Схема экспонирования фрагмента голографического экрана на 24 зоны а — вид сбоку б—вид сверху в — <a href="/info/171782">матрица зеркал</a> 5 1 — фотопластинка 2 — микрообъектив <a href="/info/175731">опорного пучка</a> 5 —лниза <a href="/info/175731">опорного пучка</a> 4 — микрообъек-тив объектного пучка 5 — зеркальная матрица из 6X4 элементов — центр схождения <a href="/info/175731">опорного пучка</a> 5ц—5б4 — элементы зеркальной матрицы 7 — объектный пучок g — <a href="/info/175731">опорный пучок</a> Р — луч объектного луча, проходящий через центр зеркала
Ps/=PiLi =0,5 индекс соответствует опорному, а индекс ц объектному пучку света Р ,,, — коэффициент, равный доле интенсивности излучения для составляющей волны, вектор электрического поля которой лежит в плоскости, параллельной плоскости падения oi iOpHoro и объектного лучей индекс в соответствует опорному, а индекс j.i объектному пучку.  [c.177]


Смотреть страницы где упоминается термин Объектный луч : [c.42]    [c.77]    [c.36]    [c.345]    [c.213]    [c.285]    [c.319]    [c.80]    [c.14]    [c.17]    [c.19]    [c.22]    [c.177]    [c.179]    [c.179]    [c.181]    [c.194]   
Изобразительная голография и голографический кинематограф (1987) -- [ c.11 , c.13 ]



ПОИСК



1 (оляризация объектной волны

ORTHO объектная привязка

Геометрические построения с использованием объектных привязок

Диаграммы объектной модели

Дифракция света на трехмерных голограммах со сложной голограммной структурой, образованной множеством объектных волн

Интеграция модели данных AIIFusion ERwin Data Modeler и объектной модели

Информация объектная

Использование координатных фильтров, объектных привязок и ручек

Использование объектных привязок

КОМПАС-ГРАФИК объектная

КОМПАС-ГРАФИК объектные привязки

Математическое моделирование процессов функционирования интегрированных бортовых систем беспилотных маневренных летательных аппаратов на основе объектно-ориентрованного подхода

Модули объектно-ориентированные

Модуль абсолютный, загрузочный, исходный, объектный

Объектная волна

Объектная волна элементарная

Объектная привязка

Объектная привязка в постоянном режиме

Объектная привязка координат

Объектная привяка

Объектная слагающая экспозиции

Объектная справка

Объектно-ориентированное конструирование

Объектное отслеживание

Однократный режим объектной привязки

Организация объектно-ориентированных программ расчета элементов конструкций

Отмена объектной привязки

Подсистемы САПР АЛ объектно-независимые

Подсистемы САПР объектно-независимые (инвариантные)

Подсистемы САПР объектно-ориентированные (объектные)

Подсистемы объектно-ориентированные

Подход объектно-ориентированный

Программы расчета осесимметричных конструкций объектно-орнентирован¦ные

Процедуры расчета осесимметричных оболочечных конструкций объектно-ориентированные

Пучок света объектный

Система координат объектная (object coordinate

Сложная голограммная структура, , образованная множеством объектных волн

Создание объектной модели

Угол Брюстера объектного луча

Угол между опорным и объектным лучами

Функциональная схема объектно-ориентированного ПМО для математического моделирования интегрированных систем навигации и наведения беспилотных маневренных ЛА



© 2025 Mash-xxl.info Реклама на сайте