Химические потенциалы и коэффициенты активности

Все приведенные выше соотношения для фугитивности и коэффициента активности были ограничены условиями постоянства температуры. Зависимость фугитивности от температуры можно получить с помощью уравнения (8-50), которое определяет отношение фугитивностей в функции химического потенциала [c.261]

Пусть ц — парциальная молярная свободная энергия (химический потенциал) — парциальная молярная свободная энергия в стандартном состоянии (а =-- 1) а — активность т — моляльность у — коэффициент активности. [c.395]

Помимо коэффициента активности в этом выражении экспериментальные данные в общем случае необходимы для определения стандартного химического потенциала образования /-го составляющего из компонентов, . Для энергии Гиббса [c.171]

Следовательно, если концентрации выражены в мольных долях, то коэффициент активности характеризует отклонение химического потенциала, а значит, и других термодинамических свойств компонента i от свойств этого компонента в соответствующем ему гипотетическом идеальном растворе. [c.84]

Здесь рао — химический потенциал чистого компонента а, зависящий от Р VI Т, но не зависящий от х, — коэффициент активности, Са — относительная концентрация компонента а, определяемая формулой [c.250]

Осмотический коэффициент. Коэффициент активности fi растворителя столь незначительно отличается от единицы, что более удобно химический потенциал растворителя представлять через осмотический коэффициент g. В этом случае можно записать [c.113]

Чтобы в общем случае записать химический потенциал разбавленного раствора в виде, аналогичном (4.46а) —(4.46в), следует ввести активности а, а , а" и коэффициенты активности у , у1 с помощью следующих соотношений [c.212]

Вторая и, может быть, более важная особенность — это наличие вторых двух членов в выражении (2.48). Происхождение их также связано с образованием пар. Этн члены А и В приводят к появлению дрейфовой скорости междоузельных атомов, основой которой является различие частот скачков, соответствующих образованию или распаду пар. Указанные члены играют ту же роль, что и градиент коэффициента активности в феноменологической теории. Разумно поэтому попытаться построить феноменологическую теорию и провести сравнение. Следовательно, мы будем строить феноменологическую теорию, основываясь на предположении, что процессы образования и диссоциации пар влияют на величину диффузионного потока. Кроме того, предполагается, что поток подчиняется уравнению — = = 2,Ь1к д 1к/дх], где Цк — химический потенциал компонента К. [c.53]

Активность неидеальных растворов ак — Ук к, где 7 — коэффициент активности, введенный Г. Н. Льюисом. Таким образом, химический потенциал неидеального раствора можно представить в виде [c.200]

Для неразбавленного раствора неидеальное поведение описывается с помощью коэффициентов активности 7 , которые входят в формулу химического потенциала [c.204]

В химическом отношении серебро является довольно инертным металлом. Малая химическая активность серебра по отношению к среде дает возможность получать устойчивые обратимые значения потенциала серебра относительно его ионов в водных растворах. Стандартный потенциал системы Ag/Ag фO — 0,799 в отн. н. в. э.) термический и изотермический температурные коэффициенты потенциала соответственно равны —0,129 и —1,00 мв/град. Одной из характерных особенностей электрохимического осаждения серебра является то, что в процессе осаждения удается наращивать монокристаллы серебра [1, 2] (рис. 5). [c.16]

Применение комплексных соединений, содержащих наряду с СаО кремнезем, неизбежно приводит к повышению химической активности флюса и возрастанию его окислительного потенциала, в результате чего снижаются коэффициенты перехода легирующих компонентов флюса в наплавляемый металл. [c.438]

Коэффициенты активности 7 электролитов определяют относительно идеальных растворов. Например, для Ag l средний химический потенциал можно записать в виде [c.214]

А-3. Плазменное оксидирование. Кислородсодержащая плазма, образованная тихим разрядом прн давлении около 7 Па, является обильным поставщиком химически активного кислорода (ионов кислорода, атомарного кислорода, озона). Металл, помещенный в такую плаз.му, должен оксидироваться. Проще всего подвергать плазменному оксидированию тонкие пленки алюминия оксидирование титана и тантала сложнее. Зависимость тачщины образующегося на алюминии оксида от времени пребывания образца в плазме напоминает такую же зависимость при термическом оксидировании (метод А-1) правда, в последнем случае получаемая оксидная пленка несколько толще. Если на алюминий подать положительный потенциал относительно плазмы, то оксидирование происходит значительно быстрее. Коэффициент пропорциональности между приложенным напряжением и толщиной пленки на алюминии равен (22 -г- 23)-10 м/В при напряжении до 50 В при напряжении 50—90 В толщина, приходящаяся на 1 В, меньше. Плазменное оксидирование позволяет получить оксидные пленки на алюминии в исключительно чистых условиях, в то время как при электрохимическом оксидировании алюминия в электролитах невозможно полностью избавиться от примесей ионов С1" и 504 , ухудшающих свойства пленки. [c.379]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...