Способы получения положительных ионов

Способы получения положительных ионов [c.60]

Из приведенных выше различных способов получения положительных ионов широко используются только ионизация с помощью высокой температуры и ионизация бомбардировкой электронным пучком. Ионные источники указанных типов при определенных геометрических и электрических параметрах дают пучки ионов, удовлетворяющие предъявляемым требованиям по разбросу начальных скоростей, и имеют достаточную интенсивность. В реальных условиях их работы разброс начальных скоростей не превыщает 1 в, что вполне допустимо для прибора среднего класса, у которого используются ионы с энергией не ниже 1000 эв. Другие способы ионизации не позволяют получать необходимую однородность и эффективность пучка ионов, поэтому источники с использованием эффекта термоионной эмиссии и электронного пучка получили наибольшее распространение. [c.62]

Особенно строгие требования предъявляются к форме, интенсивности и моноэнергетичности ионного пучка. Для получения положительных ионов разработано несколько типов ионных источников. К числу первых принадлежат искровые и газоразрядные источники для ионизации твердых веществ и газов. Затем появились термоионные источники, которые хорошо зарекомендовали себя главным образом для ионизации солей щелочных металлов, имеющих при сравнительно низких температурах заметную термоионную эмиссию. Для ионизации газа наиболее оптимальными оказались источники с электронной бомбардировкой- Известны и другие способы ионизации вещества, например ионизация в сильном электрическом поле, ионизация с помощью а-излучения, фотоионизация [4] и др., которые из-за малой эффективности применяются редко. [c.62]

Гальванические покрытия являются наиболее распространенным способом получения защитно-декоративного покрытия, применяемого при изготовлении измерительных инструментов и деталей приборов. Осаждение защитного слоя металла на поверхностях деталей при гальваническом покрытии основано на электролизе. При электролизе, т. е. при прохождении постоянного тока через раствор соли осаждаемого металла (электролит), из последнего выделяется металл и осаждается на поверхности детали. Осаждение металла в процессе электролиза происходит следующим образом. Под действием электрического тока молекулы электролита распадаются на положительные и отрицательные ионы (электролитическая диссоциация). Положительно заряженные ионы (катионы) перемещаются к отрицательному электроду (катоду) и, получив недостающие электроны, превращаются в нейтральные атомы, при [c.369]

В отдельную группу выделяются методы, где используется компенсация отрицательного объемного заряда положительными ионами, каким-либо способом полученными в зазоре. В зависимости от образования ионов различаются ре- [c.173]

Менее положительный металл Me растворяется с отдачей своих валентных электронов. Находящийся в растворе более положительный ион металла Л1в + выступает как акцептор электроноз и восстанавливается до Мба. Этот процесс возможен только в случае, если потенциалы обоих металлов Me и Me достаточно отличаются друг от друга. Процесс прекращается, как только на более отрицательном металле образуется совершенно плотное моноатомное отложение более положительного металла. Однако фактически происходит дальнейшее отложение более положительного металла с образованием гальванического элемента между основным металлом и металлом покрытия. Полученные таким способом толстые покрытия имеют плохое сцепление и часто губчатую форму. [c.35]

А/дм из такого электролита получали светлые, прочно сцепленные с основой покрытия толщиной до 25 мкм. Однако сложность реализации процесса в гальванотехническом производстве и большая токсичность рабочей среды привели к ускорению работ по изысканию способов получения покрытий из водных растворов. Исследования показали преимущество в этом случае кислой среды, так как, хотя из щелочных растворов также можно осадить иридий, они недолговечны в эксплуатации и потому не получили применения. Из хлоридных и бромидных растворов осаждают пленки металла толщиной 0,1—0,2 мкм. Из галогенидных электролитов положительные результаты получены при использовании фторид-иона и следующей методики приготовления в 100 мл Н2О последовательно растворяют 1 г Ir U, 0,6 г (NH4)3B03, 1,4 г NH4F, после чего вводят 0,5 мл этилового спирта и медленно нагревают до кипения, фильтруют, добавляют 0,1 мл аммиака и воды до первоначального объема. Электролиз ведут при комнатной температуре и плотности тока 2 А/дм [90, с. 124]. [c.199]

Условия для специфической адсорбции были изучены Фаянсом, Панетом и Ханом [41, 42, 40, 68, 57, 100, 101, 39, 56]. Разработанные этими авторами правила были точно сформулированы [43] следующим образом Ион заметно адсорбируется из его водного раствора на осажденную или осаждающуюся соль, если он образует с ионом другого знака этой соли плохо растворимое или плохо диссоциирующее соединение. Адсорбция катиона усиливается (ослабляется) в присутствии адсорбированных анионов (катионов), т. е. при отрицательном (положительном) заряде осадка, и наоборот . Большинство кислот являются примерами плохо диссоциирующих соединений. Заряд осадка определяется способом его получения он зависит от того, была ли осаждена соль при избытке катионов или анионов [91, 92]. Очевидно, что специфическая адсорбция обусловливается по меньшей мере [c.14]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...