Вольфрамовая кислота осаждение

Фосфатный метод. Осаждение Zr фосфорнокислым аммонием (натром) производится после выделения кремневой и вольфрамовой кислот в солянокислом растворе объёмом 50—60 мл, содержащем 4—5% по объёму НС1 [c.106]

Осажденную вольфрамовую кислоту промывают на фильтре. Отфильтрованная и высушенная вольфрамовая кислота содержит обычно 0,2—0,3 % примесей. [c.412]

Вольфрамат кальция может быть получен осаждением хлористым кальцием или известью из растворов щелочных вольфраматов или непосредственным взаимодействием в твердом состоянии окиси кальция с вольфрамовым ангидридом прн 600—800° С. Вольфрамат кальция разлагается кислотами с образованием вольфрамовой кислоты. [c.31]

Непосредственное осаждение вольфрамовой кислоты кажется более простым. Однако оно связано с рядом трудностей, обусловленных образованием дисперсных осадков, склонных к коллоидообразованию. Этот способ иногда используют для получения мелкозернистой вольфрамовой кислоты. Второй способ позволяет получить более грубые, легко отмываемые осадки вольфрамовой кислоты. Это важное преимущество объясняет более щирокое его применение в производственной практике. Кристаллизацию вольфраматов натрия применяют лишь в том случае, когда эти соли необходимы в качестве конечного продукта. [c.51]

Осаждение вольфрамовой кислоты. Для осаждения вольфрамовой кислоты из раствора вольфрамата натрия обычно используют соляную кислоту [c.51]

Осаждение вольфрамовой кислоты ведут в керамических реакторах или в железных реакторах, футерованных кислотоупорной плиткой или гуммированных. [c.51]

Осаждение искусственного шеелита. ... 0,5—1,0 Получение вольфрамовой кислоты и промывка. ............... 1,0—2,0 [c.65]

Обычные примеси кремния, фосфора, мышьяка, молибдена, серы и иногда фтора необходимо удалить до осаждения вольфрамовой кислоты. [c.345]

Осаждение вольфрамовой кислоты [c.347]

Получение композиционного материала на основе меди, содержащего в качестве упрочнителя вольфрамовую проволоку, описано в работе [87]. По удельной прочности этот материал значительно уступает многим другим композициям и представляет интерес более как модельный материал для исследования напряженного состояния, микромеханики разрушения, чем как конструкционный. При содержании 40 об. % проволоки материал имел прочность, равную 134 кгс/мм , и плотность 13 г/см . Обычный электролит для осаждения медных покрытий содержит водный раствор сернокислой меди (188 г/л) и серной кислоты (74 г/л). Электролиз ведется при комнатной температуре при плотности тока 0,24 А/дм [c.183]

В табл. 27 приведены составы растворов и условия электроосаждения сплавов с высоким содержанием молибдена и вольфрама. Как видно из таблицы, растворы для получения покрытий из сплавов вольфрама или молибдена содержат сульфаты никеля, железа или кобальта, молибденовый или вольфрамовый ангидрид, вольфрамат или молибдат, ионы аммония, иногда лимонную кислоту и ее соли. Осаждение обычно ведется в щелочной среде, pH регулируется аммиаком. [c.73]

Для дальнейшего удаления примесей воль( рамат обычно подвергают дополнительной очистке через осаждение искусственного шеелита. Шеелит разлагают соляной кислотой, образующуюся вольфрамовую кислоту ])ас-творяют в водном растворе аммиака и из полученного раствора кристаллизуют паравольфрамат аммония. Для этого раствор вольфрамата аммония выпаривают до объема, составляющего одну восьмую его первоначального объема. Маточный раствор возвращают в процесс, а кристаллический осадок тщательно промывают и сушат. Полученное вещество представляет собой чистый паравольфрамат аммония 5(NH4)20- 12 УОз-1IH2O, из которого может быть получен вольфра.м различных сортов. [c.142]

Чтобы получить легкую окись , кристаллы чистого паравольфрамата натрия замачивают D кипящем растворе едкого натра, раствор фильтруют и для осаждения вольфрамовой кислоты вливают его в кипящую соляную кислоту. По другому способу кристаллы вольфрамата натрия можно растворить в воде, а затем обработать таким же образом. Характер образующихся осадков определяется концентрацией кислоты и раствора вольфрамата, температурой и скоростью смешения этих растворов. При слишком быстром добавлении вольфрамата образуется хлопьевидный осадок, который трудно промывается. При низкой температуре образуется загрязненный коллоидальный осадок. После продолжительного промывания вольфрамовую кислоту отфильтровывают и обезвоживают нагреванием примерно до 350°. [c.142]

Очищенный от примесей раствор вольфрамата натрия направляют на осаждение кристаллической вольфрамовой кислоты H2WO4, которая может быть получена непосредственным осаждением или путем осаждения вольфрамата кальция с последующим его разложением. [c.411]

Прямое осаждение H2WO4 является технологически более простым способом. Необходимо только подкислить раствор вольфрамата натрия соляной кислотой, что вызовет выпадение в осадок вольфрамовой кислоты по реакции [c.411]

Раствор (NH4)2W04 после длительного отстаивания (8—12 ч) отделяют от осадка декантацией и направляют на выделение из него вольфрама, который можно осаждать в виде чистой вольфрамовой кислоты или паравольфрамата аммония. Осаждение вольфрамовой кислоты осуществляют аналогично ее выделению из растворов вольфрамата натрия [c.412]

Возможность образования мегавольфраматов приходится учитывать в производственных процессах, так как присутствие этих соединений в растворе может привести к неполному осаждению вольфрамовой кислоты. [c.30]

Характер получаемого осадка зависит от концентрации исходного раствора, температуры, а также способа осаждения. Коллоидные осадки белой вольфрамовой кислоты образуются при осаждении из холодных разбавленных растворов. Более грубые сравнительно легко промываемые осадки желтой вольфрамовой кислоты выпадают при вливании нагретого концентрированного раствора вольфрамата натрия в кипящую соляную кислоту. Скорость вливания раствора в соляную кислоту влияет на крупность осадка. Это объясняется тем, что при разных скоростях сливания образуется различное число центров кристаллизации, которое при данной скороски роста кристаллов определяет величину частиц осадка. [c.51]

Осажденная вольфрамовая кислота должна быть тщательно отмыта от хлористого натрия и других растворимых примесей. Многократную промывку осуществляют вначале декантацией горячей дистиллированной водой, а затем на нутч-фильтрах, гуммированных или выложенных кислотоупорной плиткой. Всего промывают 6—8 раз, причем к третьей промывной воде добавляют 1 % НС1 или NH4 I для лучщего отстаивания вольфрамовой кислоты. Для фильтрования применяют ткани из стеклянного волокна или из перхлорвинила. Отфильтрованную кислоту дополнительно обезвоживают на центрифуге. [c.52]

Исходная вольфрамовая кислота (техническая). . Первый раствор H2W04 в аммиаке........ Нз 04, осажденная из первого раствора..... Второй раствор Н2 У04 в аммиаке........ Кристаллы паравольфрамата аммония после выпаривания и кристаллизации. .......... 3,2 0,2 0,25 (некоторое увеличение за счет содержания железа в соляной кислоте) 0,07 0,04 [c.61]

В тех случаях, когда из растворов осаждают вольфрамовую кислоту H2WO4, нагретые аммиачные растворы вливают в кипящую соляную кислоту. Осаждение производится в железных гуммированных или выложенных кислотоупорной плиткой чанах. При таком способе осаждения выпадает гидратированная вольфрамовая кислота ярко-желтого цвета. Осадки вольфрамовой кислоты промывают водой, содержащей 1 % НС1. Промытый осадок кислоты отжимается на центрифуге или других фильтрующих устройствах, сушится при температуре 100—150° С и прокаливается до вольфрамового ангидрида. [c.470]

Вольфрамат перерабатывается следующим образом после измельчения руды действием оснований под давлением в специальных аппаратах получают раствор щелочного вольфра-мата, из которого затем осаждением минеральной кислотой получают еочищенную вольфрамовую кислоту. При обработке шеелита измельченная руда разлагается соляной кислотой с выделением трехокиои вольфрама [c.16]

Рениевую фольгу И тонкостенные трубки можно получить электролитическим осаждением рения на никелевую ленту или трубки [Л. 3]. Никель затем вытравливают соляной кислотой, которая с рением не взаимодействует. При этом можно использовать следующий электролит [Л, 2] В 1 л дистиллированной воды растворяют II г ККе04 и добавлением концентрированной Н2804 (уд. вес 1,84 г см ) доводят pH раствора до 0,9. Температура электролита должна лежать в пределах 25—45° С, сила тока 10— 14 а/йж . После нанесения каждого слоя толщиной 2,5—5 мк должен производиться отжиг в водороде при 1000° С, так как более толстые покрытия отслаиваются. Таким методом рениевые покрытия толщиной до 25 мк можно получить не только на никеле, но и на вольфраме. Покрытая рением вольфрамовая проволока используется для изготовления сеток, которые по условиям монтажа должны находиться вблизи катода (см. рис. 4-5-2 и 9-3-40), эта проволока нашла также применение в лампах СВЧ и в приборах с оксидными катодами. [c.104]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...