Скорость фотоокисления

Изменение скоростей фотоокисления пленок на различных твердых поверхностях может быть обусловлено различиями в их отражательной способности, а также температуре. [c.47]

Можно было предполагать, что снижение скорости разрушения связано с изменением поглощения пленок БМК-5 при фотоокислении. Однако исследование поглощения пленок БМК-5 до и после фотоокисления, в течение 120 ч при /уф, равном 56 Вт/м , показало, что оно. практически не меняется. [c.92]

Под действием атмосферных условий, озона происходит растрескивание напряженных резин из ненасыщенных каучуков (НК, БНК, БСК) стойки к озонному старению насыщенные каучуки (СКФ, СКТ, ЭП). Свет вызывает фотоокисление каучуков, которое зависит от наличия в них двойных связей. По убыванию скорости фотоокисления каучуки можно расположить в ряд НК, СКБ > СКС > Б К. Светостойки резины из СКФ и СКТ. Фотопроцесс ускоряется при повышении температуры (рис. 228). Скорость старения резин в напряженном состоянии выше, чем в свободном состоянии, что видно из рис. 229. Повышение озоно- [c.491]

Образованием радикалов при фотораспаде карбонильных соединений можно пренебречь, поскольку изменение их концентрации практически не влияет на скорость фотоокисления. [c.14]

Эта зависимость вытекает из закона Ламберта — Бера при условии, что скорость фотоокислення пленкообразователя пропорциональна интенсивности поглощенного излучения. Как видно из приведенной зависимости, с увеличением объемной концентрации пигмента стойкость пигментированного покрытия к процессам фотоокислительной дес укции повышается. [c.49]

Для фотохимически активных пиг1ментов их влияние на стойкость покрытий к фотоокислению зависит от концентрации пигмента. При низких концентрациях пигмента наблюдается увеличение скорости фотоокислення, а при более высоких концентрациях, когда проявляется эффект экранирующего действия, скорость фотоокисления уменьшается по сравнению со скоростью фотоокисления исходного пленкообразователя [38]. [c.49]

Характерной реакцией СНР является присоединение алкильных радикалов, образующихся в результате вторичных реакций при фотоокислении полиуретанового пленкообразователя [23, с. 323]. Поэтому по изменению концентрации СНР, контролируемой методом электронного парамагнитного резонанса, относительно их исходной концентрации в покрытии можно судить о скорости фотоокислення, пленкообразователя и влиянии на нее различных пигментов. [c.53]

С одной стороны, хелаты алюминия являются УФ-абсорберами и благодаря их способности поглощать УФ-излучение уменьшают скорость фотоокисления алкидных покрытий. С другой стороны, они могут также участвовать в процессах сшивания за счет взаимодействия с продуктами окисления алкидных смол [87]. Трудно разделить вклады этих процессов в повышение стойкости алкидных покрытий. О существенной роли процессов сшивания свидетельствуют высокие концентрации добавок хелатов алюминия. Обычно концентрация доба-врк УФ-абсорберов не превышает 1% [1, с. 458—467]. [c.140]

Увеличение стойкости цвета покрытий, обусловленное тем, что уменьшается скорость фотоокислення органических пигментов, позволяет заключить, что свободные радикалы пленкообразователя активируют процессы фотоокисления органических пигментов. Аналогичное наблюдалось для этилцеллюлозных волокон с раст-врримыми азо- и антрахиноновыми красителями [39]. [c.146]

Однако прн фотоокислении полиуретанов только незначительная часть поглощенного кислорода расходуется на образование пероксидных соединений. Скорость образования пероксидных радикалов превышает скорость накопления гидропероксидНых соединений, а основное количество кислорода расходуется на образование других кислородсодержащих соединении [27]. [c.41]

Стойкость пленкообразователя к фотоокислению при введении пигментов зависит от уменьшения количества света, поглощаемого нленкообразователем, изменения скорости инициирования фотоокисления под влиянием пигмента и скорости тушения возбужденных состояний макромолекул пленкообразователя [37, с. 13—109 38]. [c.48]

Таким образом, внутренние и дополнительно наложенные растягивающие напряжения вызывают ускорение процессов фотоокисления и разрушения пигментированных покрытий на основе пленкообразователей различной химической природы. Специфические особенности процессов фотоокислительной деструкции покрытий по сравнению со свободными пленками обусловлены влиянием внутренних напряжений, возникающих в пленках, адгезионно-связанных с подложкой, на скорость процессов деструкции. [c.57]

На более глубоких стадиях старения состояние поверхности покрытий помимо интенсивности процессов фотоокислительной деструкции зависит от физико-химических дроцессов, протекающих в поверхностном слое. Под влиянием низкомолекулярных продуктов деструкции, образующихся при фотоокислении, облегчается пвотекание релаксационных процессов, что может способствовать выравниванию микрорельефа поверхности. Скорость протекания релаксационных процессов под воздействием жидких продуктов деструкции и по-вышелных температур зависит как от скорости их испарения, так и от изменения физико-механических свойств покрытий при старении. [c.89]

Кинетические зависимости разрушения лаковых покрытий БМК-5 при фотоокислении были рассмотрены на основе предположения о том, что скорость их разрушения V пропорциональна интенсивности поглощеннога ультрафиолетового излучения [67, с. 3—6] [c.92]

При линейной зависимости скорости фотбокисления т интенсивности света в соответствии с основными законами классической фотохимии степень разрушения определяется общей дозой поглощенного излучения. Ис- следование зависимости потери массы лаковых покрытий БМК-5 от дозы излучения при интенсивностях УФ-излучения лампы ДРТ-375, различающихся в 8 раз, показало, что степень разрушения покрытия при различных интенсивностях излучения определяется дозой излучения (рис. 3.3). Это дает основание считать, что инициирование фотоокисления покрытий БМК-5 толщиной 10 мкм обусловлено одноквантовыми процессами, фотоокисление протекает в кинетической области и диффузия кислорода не лимитирует процесс фотоокисления. [c.94]

На скорость и характер процессов фотоокислитель-ной деструкции помимо интенсивности излучения суще-ственное влияние может оказывать толщина покрытий. Скорость диффузии кислорода зависит от толщины слоя,, поэтому содержание кислорода в пленке при ее значительных толщинах может лимитировать скорость процесса фотоокисления. При фотоокислении покрытий из алкидных смол в поверхностном слое толщиной 10 мкм преобладают процессы Деструкции, так как в этом случае диффузия кислорода не лимитирует процесс. По мере увеличения толщины покрытия возрастает степень сшивания из-за медленной диффузии кислорода [69 —70]. [c.95]

Из этих данных вытекает что изменение концентрации иминоксильных радикалов в системе позволяет судить о скорости процессов фотоокислення пленкообразователя и об эффективности экранирующего или сенсибилизирующего действия пигментов. [c.145]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...