Микроскоп световой высокотемпературный

Образцы, нагретые до высоких температур, начинают излучать свет. В этом излучении не удается отличить одни элементы структуры от других. Поэтому в высокотемпературных металлографических микроскопах применяются источники света с более высокой цветовой температурой, чем нагретый образец. Это дает возможность увидеть отдельные элементы структуры. Такими источниками являются, в частности, ртутные и ксеноновые лампы сверхвысокого давления. [c.86]

В то время как предложенные атомные механизмы высокотемпературной ползучести, такие как диффузия вакансий в поле напряжений, базируются на физически обоснованных, детально разработанных теориях, такие механизмы, как движение винтовых дислокаций, имеющих пороги, и, особенно, возврат в результате переползания краевых дислокаций, требуют еще дополнительного изучения. Главными проблемами в этой области является не развитие теорий, которые достаточно хорошо представлены, а изучение влияния дислокационной структуры и деталей ее строения на механизмы ползучести. Учитывая современные тенденции в исследовании данного вопроса, можно ожидать, что наиболее успешным направлением, позволяющим пролить свет на изучаемые явления, станет наблюдение дислокационных структур металлов, подвергнутых ползучести, с помощью методов трансмиссионной электронной микроскопии. С другой стороны, главным критерием значимости любой теории остается ее способность предсказывать истинные параметры ползучести. [c.323]

Наиболее полезным для уточнения строения диаграммы состояния оказался микроструктурный анализ, который позволил дополнить данные рентгенофазового анализа, особенно в области, богатой гОг. Уже незначительные следы кубической фазы, появляющейся при распаде высокотемпературного тетрагонального твердого раствора, не фиксируемые рентгенографически, хорошо заметны под микроскопом в проходящем свете благодаря окрашиванию ими в красный цвет распадающихся участков исходной фазы желтого цвета. Результаты рентгеновского анализа, дополненные микроструктурными исследованиями, позволили показать, что область существования двух твердых растворов, [c.223]

В образцах, нагретых до высоких температур, не удается отличить одни элементы структуры от других. Поэтому в высокотемпературной микроскопии необходима подсветка от источников света с более высокой цветовой температурой. Такими источниками являются, в частности, ртутные и ксеноновые лампы. [c.67]

Свет собственного излучения раскаленного образца накладывается на изображение в виде сильной вуали и резко снижает контрастность изображения, поэтому от высокотемпературного микроскопа не следует требовать такого же контрастного изображения, какое дает обычный металлографический микроскоп. [c.381]

Исследование окисленных поверхностей на оптическом микроскопе представляет еще большие затруднения, чем на электронном. Наличие тонкой просвечивающей окисной пленки, в ряде случаев не искажающей рельеф, но преломляющей лучи света, иногда приводит к тому, что невозможно одновременно сфокусировать систему на основание и вершину неровности даже при небольшой шероховатости. Поэтому на окисленных высокотемпературных усталостных изломах характерные усталостные полоски и складки часто различимы лишь при расфокусированном положении. В связи с этим такие поверхности лучше всего изучать с помощью реплик. [c.188]

Оптическая схема высокотемпературного микроскопа с зеркальнолинзовыми объективами приведена на рис. 48. При наблюдении объекта в светлом поле нить лампы источника света J проектируется коллектором 2 в плоскость ирисовой апертурной диафрагмы 3, а диафрагма коллектора — линзой 4 в плоскость ирисовой полевой диафрагмы 5. Линза 6 проектирует полевую диафрагму в бесконечность. [c.99]

Применение отражательных объективов позволяет использовать при данной апертуре гораздо большие рабочие расстояния, что особенно важно для высокотемпературной металлографии и для непосредственного наблюдения структуры изломов. Отражающие системы совершенно ахроматичны, так что они открывают более широкие возможности для распознавания фаз и более компактны. Типичная отражательная система показана на фиг. 4, а [16]. Следует отметить, что одно из ее зеркал имеет несферическую поверхность это уменьшает затемнение, которое создается тенью от второго зеркала. Естественная апертура отражательных систем может быть увеличена с помощью применения иммерсионной жидкости. Рабочее расстояние обычного микроскопа можно увеличить с помощью устройства, которое воспроизводит действительное изображение объекта (фиг. 4, б), а затем это изображение исследуется с помощью обычного микроскопа [46]. Лучи света от объек- [c.358]

Расчет объективов с большим рабочим расстоянием, применяемых в высокотемпературных микроскопах дляХисследования об11ектон в отраженном свете, связан с особыми трудностями, поскольку [c.227]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...