Физические основы получения плазмы

ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛАЗМЫ [c.8]

В книге даны основы механики сплошной среды (МСС) физическая трактовка основных понятий и статистическое обоснование законов МСС аксиоматика МСС кинематика и теория внутренних напряжений в средах физические законы — сохранения массы, импульса, энергии и баланса энтропии методы получения замкнутых систем уравнений, основные типы граничных условий и постановки краевых задач МСС. Даны замкнутые системы уравнений для классических сред (газов, жидкостей, упругих тел) и для сред со сложными свойствами (вязко-упругих, нелинейно вязких, упруго- и вязко-пластических, плазмы и др.) при действии электромагнитного поля. Дана теория размерностей и подобия с ревизионным анализом уравнений МСС, критериями подобия и моделирования, с примерами автомодельных решений. [c.3]

Физическая сущность метода катодного распыления состоит в процессе выбивания (распыления) атомов вещества мишени к результате процессов передачи импульса при взаимодействии с ее поверхностью ионов высоких энергий, образуемых в плазме газового разряда. Для ускорения ионов газа до необходимой энергии к мишени прикладывается отрицательный потенциал (обычно 2-5 кВ). Выбитые из мишени атомы осаждаются на близлежащую поверхность, образуя на ней конденсат. Средняя энергия распыленных частиц в этом случае значительно выше, чем в термических процессах, и составляет 3-5 эВ, а степень ионизации распыленных атомов достигает 1%. Энергетический к.п.д. генерации вещества оказывается чрезвычайно малым -0,5%, так как основная часть подводимой энергии затрачивается на нагрев мишени. Основными системами катодного распыления являются диодная (на основе тлеющего разряда), триодная (на основе несамостоятельного разряда с накаливаемым катодом) и система с распыленным ионным пучком, генерируемым автономным источником ионов. Преимуществами этого метода являются безынерционность, низкие температуры процесса, возможность получения пленок из тугоплавких металлов, а также оксидных, нитридных и других соединений в результате химических реакций атомов и ионов распыленного металла с дополнительно вводимым в рабочую камеру газом. Однако сравнительно низкая скорость нанесения покрытий (0,02-0,05 мкм/мин), загрязнение их рабочим газом и малый коэффициент ионизации осаждаемого вещества ограничивают широкое распространение метода катодного распышения. [c.338]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...