Плазмотроны с вихревой стабилизацией дугового разряда

Газовая стабилизация разряда осуществляется путем тангенциальной подачи стабилизирующего газа в разрядный промежуток, при этом горячая дуга оттесняется от стенок разрядной камеры, предохраняя последнюю от чрезмерного нагрева и разрущения. Однако при вихревой стабилизации дугового разряда происходит и некоторое сжатие потока плазмы, что ведет к уменьщению объема реакционной зоны, поэтому в некоторых случаях стабилизирующий газовый поток не закручивают, а направляют параллельно столбу дуги. Обычно стабилизирующий газ одновременно является и плазмообразующим веществом. Пример расчета дугового плазмотрона линейной схемы рассмотрен в [30]. [c.444]

Удачным объединением преимуществ плазмотронов с вихревой стабилизацией дугового разряда и плазмотронов с магнитной стабилизацией является плазмотрон так называемой комбинированной схемы (рис. 1.12). [c.25]

По принципу устройства комбинированный плазмотрон похож на плазмотрон с вихревой стабилизацией дугового разряда, но имеет дополнительно наложенные магнитные поля в приэлектродных зонах для вращения разряда и управления его положением. [c.25]

ПЛАЗМОТРОНЫ С ВИХРЕВОЙ СТАБИЛИЗАЦИЕЙ ДУГОВОГО РАЗРЯДА [c.42]

Рис. 2.1. Плазмотрон с вихревой стабилизацией дугового разряда

Следует подчеркнуть, что процесс шунтирования наблюдается не только в канале плазмотрона с вихревой стабилизацией дуги, а носит универсальный характер. Он присущ практически всем дуговым разрядам. при горении которых возникают условия для увеличения длины дуги во времени, независимо от того, какие движущие силы вытягивают дугу поток газа, электромагнитное взаимодействие с собственным или приложенным магнитным полем и т.д. [c.8]

ХАРАКТЕРИСТИКИ ДУГОВОГО РАЗРЯДА В ПЛАЗМОТРОНЕ С ВИХРЕВОЙ СТАБИЛИЗАЦИЕЙ [c.90]

Применение источников питания, обеспечивающих повышенное напряжение дуги, а также плазмотронов с вихревой стабилизацией газа позволило увеличить расход плазмообразующего газа и повысить мощность дугового разряда, Поскольку сжатый воздух — дешевый и используется прямо из магистрали цеха, то его расход ничем не лимитируется. За счет увеличения расхода воздуха рабочее напряжение столба плазменной дуги значительно возросло. [c.55]

Поля температур и скоростей. На выходе из плазмотронов с вих-реюй стабилизацией дугового разряда распределение температуры (если не приняты специальные меры по выравниванию температурного профиля струи) таково, что центральная область струи, испытавшая непосредственное воздействие дугового разряда, расположенного вблизи оси, имеет более высокую температуру, чем периферийные слои, не прошедшие через дугоюй разряд. При этом из-за большей плотности периферийных слоев сравнительно низкотемпературной остается большая часть массового расхода рабочего тела (до 60... 70 %), и это обстоятельство не позволяет получать среднемассовые температуры выше 6000...6500 К. Типичное распределение температуры на выходе из плазмотрона с вихревой стабилизацией дугового разряда приведено на рис. 4.27. [c.139]

Периферийный квазипотенци-альный вихрь, выполняя функцию тепловой защиты стенок камеры сгорания и других элементов конструкции, обеспечивает стабилизацию дугового разряда, офани-чивая рост дуги при увеличении рабочего тока [78, 149, 192]. Вихревая характеристика вихревого плазмотрона имеет восходящий участок, наличие которого улучшает технологические качества устройства, обеспечивая возможность гарантированной устойчивой работы дуги на восходящем участке при отсутствии в электрической цепи питания балластного сопротивления. Эго нетрудно показать, воспользовавшись анализом уравнения Кирм-офа, записанного для цепи электропитания плазмотрона [78]. Горение дуги будет устойчивым, если действительные части корней уравнения Кирхгофа отрицательны [c.355]

Для создания сверхзвуковой струи низкотемпературной плазмы аргона, истекающей в вакуум, был использован однокамерный плазмотрон с вихревой стабилизацией и охлаждаемыми электродами (см. рис. 1, а). Для того чтобы исключить длиннопериодные флуктуации, возникающие за счет шунтирования дуги, была применена конструкция, обеспечивающая неизменность длины столба дуги. Другим возможным механизмом флуктуаций в плазмотронах является возникновение акустических колебаний в камере и канале плазмотрона, которые играют роль акустического резонатора [9]. Для предотвращения таких колебаний рабочий объем дуговой камеры плазмотрона и газопроводов был сведен до минимума. При работе плазмотрона дуга горела в тесном промежутке между центральным электродом и анодом, причем условия в канале по характеру приближались к условиям в капиллярном разряде. Отделения шнура дуги и его шунтирования не было обнаружено, весь столб газа, заключенный в канале, светился равномерно, то же показали следы эррозии после продолжительной работы плазмотрона. После [c.255]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...