Нанесение магнетронное

Повышение качества модифицированных поверхностных слоев требует создания специальных установок, позволяющих реализовать технологический процесс нанесения многослойных ионно-вакуумных покрытий в едином вакуумном цикле [169]. В этом случае модификация материалов путем нанесения многослойных покрытий с регулируемой адгезией осуществляется методами конденсации ионной бомбардировкой, магнетронного распыления и ионной имплантации. На основе метода ионной имплантации получили развитие способы многоэлементной импульсно-периодической имплантации, высококонцентрационной имплантации и ионно-лучевого перемешивания [167]. [c.262]

Оборудование для магнетронного нанесения покрытий подразделяется на установки периодического и непрерывного действия (рис. 1.14, б). Различные сочетания взаимного расположения мишени, магнитной системы и подложки (напыляемой основы) позволяют создавать многообразные типы установок магнетронного нанесения покрытий (магнетронного распылива-ния) [6]. Для изготовления интегральных схем используют установки серии "Оратория", автоматические линии "Магна". Для нанесения нитридных износостойких покрытий на режущий инструмент применяют установки "Мир" с двумя магнетронами производительностью 200 тыс. изделий в год. [c.436]

Экспериментальное исследование отслаиваний было выполнено в [9]. Изучались покрытия из меди толщиной 50-100 мкм, наносившиеся на подложки из меди марки МОб в форме дисков. Нанесение покрытий производилось методами магнетронного распьшения и электронно-лучевого испарения в вакууме. Температура подложек в процессе нанесения покрытия не превьгшала 370 К. Парциальные давления остаточных газов были меньше 1,33 10 Па. Поверхность подложки перед нанесением покрытий механически полировалась. В покрытиях, наносившихся сразу после полировки подложки, образовывались отслаивания либо круглой либо зигзагообразной формы (рис. 32). В разрезе отслоения имеют вид, схематически показанный на рис. 31. Равенство толщин отслоений и покрытия свидетельствует, что первые возникли либо на завершающей стадаи роста покрытия либо после прекращения нанесения покрытия. На этих стадиях напряжения в покрытиях достигают наибольших значений. Подложка в области отслоений не имеет видимых поверхностных дефектов и изъязвлений. [c.84]

Состав недиффузионных покрытий необходимо выбирать таким образом, чтобы обеспечить совместимость материала покрытия и основы при температурах эксплуатации, а также высокую адгезию покрытия с основой. Эти покрытия наносят методами химического осаждения из газовой фазы, а также различными методами напыления (пламенного, плазменного, детонационного). В последние годы развиваются методы электронно-лучевого напыления покрытий в вакууме, а также напыление различных элементов и соединений с использованием электрических и магнитных полей (ионно-плазменное, в том числе магнетрон ное, катодное напыление, нанесение покрытий в тдёю-щем и высокочастотном разряде и т. д.). При достаточно высокой температуре процесса часть напыленного покрытия может превратиться в диффузионное. [c.432]

Большое. влияние на качество работы и долговечность ускорителей, магнетронов, клистронов и других электровакуумных приборов оказывает склонность конструкционных материалов к вторичой эмиссии. Титан имеет значительно меньшую величину тока эмиссии по сравнению с , Мю, 2г, Си, N1, Ре, поэтому применяется ка материал для непосредственного изготовления или нанесения покрытия на другие материалы при необходимости снижения тока вторичной эмиссии. Так, при использовании титанового покрытия величина коэффициента вторичной эмиссии была снижена до 0,9—0,92 против 1,86—1,45 для вольфрама, 1,25—1,33 для молибдена, [c.131]

Магнетронные системы [223] относятся к устройствам распыления диодного типа, в которых распыление материала происходит за счет бомбардировки поверхности мишени ионами плазмообразующегося газа, возникающего в плазме аномального тлеющего разряда. Высокая скорость распыления достигается увеличением плотности ионного тока за счет локализации плазмы у распыляемой поверхности мишени с помощью сильного поперечного магнитного поля. Основные его преимущества высокая скорость нанесения покрытий (0,5-5 мкм/мин), низкая температура подложки. Однако управление свойствами покрытий затруднено, на подложку осаждаются относительно низкоэнергетические частицы. [c.338]

Определение сопротивления термической усталости различных покрытий [234] проводили по методике, описанной в п. 5.2. Аттестации подвергались как диффузионные покрытия, нанесенные по шликерной и суспензионной технологиям (Al-Si и r-Fe), так и покровные, нанесенные с использованием плазменной в защитной атмосфере, магнетронной, ионно-плазменной, вакуумно-дуговой и электронно-лучевой технологий (системы o-Ni- frAl-Y, o- r-Fe-Zr02, Ni- r-W-Ti, гЮг+УгОз). Кроме того, п юводш1ись работы по исследованию различных многослойных покрытий. [c.369]

Магнетронные покрытия. Покрытия системы o22 r9A10,5Y, нанесенные в магнетронных установках [223], после диффузионного отжига и восстановительной термообработки нару-жнвают высокое сопротивление термоусталости мнкротрещины в покрытии не были обнаружены вплоть до разрушения образца на две части. Так, например, для образца из сплава ЭП539 с по- [c.374]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...