Создание нейтральных газовых сред

Создание нейтральных газовых сред [c.668]

Газовые лазеры являются наиболее представительным классом лазеров. Как следует из названия, рабочим телом газовых лазеров является газовая среда. В зависимости от конкретной схемы уровней и способов создания инверсной заселенности в активных частицах она может состоять из одной или нескольких атомарных или молекулярных компонент. Число ионов и нейтральных атомов и молекул, на которых получена генерация, уже превысило 100 и продолжает расти. Диапазон длин волн, в котором могут работать различные газовые лазеры, простирается от вакуумного ультрафиолета до инфракрасного, по существу субмиллиметрового диапазона спектра. [c.115]

Основой правильного ведения процесса обжига является соблюдение температурного и газового режима (создание нейтральной, окислительной или восстановительной среды). Режим обжига выбирается в зависимости от свойств материалов и размеров изделий. Фактическая температура обжига изделий может несколько отличаться от оптимальной, что не отражается на качестве изделий (в пределах интервала спекшегося состояния). Этот интервал является важной производственной ха [c.224]

Основой правильного ведения процесса обжига является соблюдение температурного и газового режима (создание нейтральной, окислительной или восстановительной среды). Режим обжига выбирается в зависимости от свойств материала и габаритов изделий. Спекание керамики, после которого она приобретает требующиеся параметры, происходит при определенной оптимальной температуре обжига. Фактическая температура обжига изделий может несколько отличаться от оптимальной при сохранении достаточно высоких свойств изделий в пределах интервала спекшегося состояния. Этот интервал является важной производственной характеристикой электрокерамической массы. Для разных составов он может колебаться от 10 до 80 °С. Конечная температура обжига также меняется в значительных пределах в зависимости от состава керамической массы. Для обычных видов керамики ее можно оценить величиной порядка 1 100 — 1 500 °С. [c.314]

Стремление создать высокотемпературные термоэлектрические термометры из более дешевых и менее дефицитных тугоплавких металлов экономически целесообразно. Кроме того, создание высокотемпературных термоэлектрических термометров при современных требованиях промышленности является и необходимостью, так как контактный метод измерения температуры жидких металлов обеспечивает более высокую точность измерения, чем методы измерения температуры тел по их излучению (гл. 7). Термоэлектрические термометры с электродами из вольфрам-рениевого сплава находят широкое применение для длительного и кратковременного измерения температуры до 2000>—2500°С в нейтральной или восстановительной газовой среде. [c.108]

Использование газовых атмосфер, жидких сред и вакуума для предотвращения окисления и обезлегирования сталей при нагреве до высоких температур требует разработки сложных агрегатов, создания и применения аппаратов непрерывного контроля состава защитных атмосфер или степени вакуума и т. д. Поэтому на практике вместо обработки в вакууме или нейтральных, контролируемых газовых атмосферах начали применять защитные покрытия. Благодаря хорошим физико-механическим свойствам, низкой себестоимости, малому расходу на единицу площади и небольшим затратам на оснастку такие покрытия находят все более широкое применение для защиты от окисления при термообработке коррозионностойких сталей. Защитный слой, получаемый в результате оплавления покрытия при нагреве под закалку, изолирует металл от печной атмосферы, резко уменьшает диффузию атмосферного кислорода вследствие образования промежуточных защитных слоев. [c.143]

Силицирование молибдена в расплаве Си—51 исследовали также в работе [255]. По полученным данным, максимальная скорость силицирования достигается при 1200—1300° С и содержании кремния в расплаве 12—13% (по массе). Чтобы предотвратить окисление расплава, в конструкции установки предусмотрено создание над его поверхностью избыточного давления защитного или нейтрального газа. Диффузионный слой состоит в основном из дисилицирования молибдена, скорость роста которого при температуре расплава 1200° С выше, чем при газовом силицировании в среде 51С14 + Нз при такой же температуре. Так, за 1 ч при температуре 1200° С в расплаве образуется слой толщиной более 100 мкм. [c.238]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...