Обработка плазмохимическая

Влияние плазмохимической обработки на эксплуатационные свойства резиновых уплотнений (в относительных единицах) [c.450]

Однородность параметров технологической зоны. Это требование особенно касается процессов обработки дисперсных материалов, плазмохимических процессов, так как указанные процессы проводятся с использованием плазменных потоков, которые в силу специфики их получения имеют на периферии градиенты температуры и скорости газа. Попадание обрабатываемого материала в периферийную область приводит к изменению режима его обработки и снижению качества получаемого продукта. При плазменном напылении, где градиенты температуры и скорости плазменной струи особенно высоки, это приводит к снижению плотности и повышению пористости покрытий. [c.7]

В области охраны окружающей среды экологически чистые технологии нанесения (получения) защитных и защитно-декора-тивных покрьггий на металлы и полимеры, в том числе путем плазменной, плазмохимической и радиационно-термической обработки безотходные и малоотходные технологии в гальваническом производстве и при консервации эффективные методы поверхностного легирования металлов и лазерной обработки поверхности в целях повыщения коррозионной стойкости [c.132]

К настоящему времени разработано несколько методов получения таких материалов. Большинство из них включает компак-тирование порощков, которые, однако, получают разными способами. Среди них ультрадисперсные порошки, полученные газовой конденсацией в атмосфере инертного газа [1, 5] или плазмохимическим методом [5], аэрозольным [6] и химическим синтезом [7], а также измельчением порошков в шаровой мельнице [2, 13] и др. Некоторые из этих методов были успешно использованы для создания объемных наноструктурных материалов. Это прежде всего газовая конденсация с последующим компактированием [1] и обработка порошков в шаровой мельнице с последующей консолидацией [2, 13]. Данные методы явились основой многочисленных исследований структуры и свойств нанокристаллических и нано-фазных материалов. Вместе с тем до сих пор существуют проблемы в развитии этих методов, связанные с сохранением некоторой остаточной пористости при компактировании, загрязнением образцов при подготовке порошков или их консолидации, увеличением геометрических размеров получаемых образцов, практическим использованием данных методов. [c.6]

На рис. 43.2 представлены спектры МНПВО образцов из оргстекла. Сравнение кривых 1 ц 2 (рис. 43.2, а, 6) показывает, что если кривая 1 практически не отличается от кривой исходного образца после первой стадии обработки, то кривая 2 (больший угол падения светового луча) имеет существенные отклонения. Пики, характерные для подложки, на этой кривой заметно уменьшены. Этот факт однозначно свидетельствует о наличии на образце очень тонкого фторированного покрытия. На рис. 43.2 даже при угле падения 45 отсутствуют пики, характерные для подложки, что свидетельствует о сплошности получаемого покрытия в результате плазмохимической обработки. Расчет показывает, что толщина такого покрытия составляет около 5 мкм. [c.445]

Результаты плазмохимической обработки резиновых уплотнений в различных газовых разрядах даны в табл. 43Л2. [c.449]

Изучение процесса плазмохимического модифициром-ния для различных марок резин указывает на наличие связи природы резины с эффективностью обработки, при этом общие закономерности улучшения свойств сохраняются для всех марок резин [1]. [c.450]

Термометрию по пропусканию света с фиксированной длиной волны разрабатывали для использования в процессах газофазной эпитаксии полупроводниковых пленок [5.21], быстрых термических процессах [5.4, 5.5], плазмохимических процессах [5.6]. Быстрые термические процессы (rapid thermal pro esses) в последние годы широко распространены в микротехнологии [5.22, 5.23]. Эти процессы основаны на нагревании подложек под действием мощных (до 1004-1000 Вт/см ) световых потоков до температур 10004-1200 °С для быстрого проведения необходимой обработки поверхности (окисление, осаждение пленки, травление и т. д.). [c.127]

Возбуждение электрического разряда ме/кду электродами Дуговой (постоянного и переменного токов, импульсный, трехфазный и высокочастотный) Плавка и переплав металлов, восстановление металлов 1з руд, сварка, резка, наплавка и напыление, сфероидизация, дисперизацня и обработка порошков, плазмохимические процессы [c.20]

Высокочастотный факельный (ВЧФ) Высокочастот 1ый индукционный (ВЧИ) Плазмохимические процессы, обработка порошков Получение ультрадисперсных абразивных материалов 59], получение пигментного диоксида титана [59] [c.20]

Ввод материала в зону обработки, минуя плазменный поток. Он имеет некоторые преимущества перед вышеописанными спо-собалш исключается воздействие различных нестабильностей и неустойчивостей плазменного потока на технологический процесс снижается перегрев материала и уменьшаются его потери за счет испарения. Данны.м способом пользуются главным образом при сварке, наплавке, выплавке чистых металлов и сплавов, а также при плазмохимических процессах, например при карботермическом восстановлении металлов из руд. [c.32]

Электроплазменные процессы характеризуются, как правило, входными и выходными параметрами. Для конкретного анализа параметров рассмотрим ряд процессов, близких между собой по способу их ведения, и достаточно широко распространенных, например обработку дисперсных материалов, которая в той или иной мере включает сварку, наплавку, напыление, сфероидизацию, дисперсизацию, выращивание монокристаллов, формование изделий, плазмохимические процессы и т. п. Схематически такой электроплазменный процесс с использованием электродугового плазмотрона представлен на рис. 16. Он характеризуется указанными ниже параметрами. [c.35]

При больших расходах газа G,y через / устройство ввода материала может произойти захо-лаживание плазменного потока и ухудшиться качество получаемых материалов. Это бывает иногда при обработке мелкодисперсных материалов и ведении плазмохимических процессов. [c.45]

Наиболее изучены и реализованы процессы синтеза некоторых боридов, карбидов, нитридов, оксидов и интерметаллидов [88, 114]. Нитриды синтезируют из порошков металлов в плазме азота (аргона) или получают восстановлением хлоридов в плазме водорода (азота). Так, высокодисперсный порошок Т1Мо,8 при 100%-ном выходе получен при 1000—1700 К нитриды А1, Т , 2г, Та, Мо, Ш получают в плазме азота при 9100— 9400 К карбиды Т1, 2г, А1 или их смеси с нитридами — взаимодействием углерода с оксидами или солями при 8300—9500 К в плазме азота чистый Т1С дисперсностью 0,01—0,5 мкм получен взаимодействием Т1С14 с Нг и ССЦ. Плазма иногда используется и для увеличения дисперсности и удельной поверхности (в 100 раз) порошков и округления их формы. Такой обработке подвергают, например, порошки 510, 510г, АЬОз с размерами частиц 30—60 нм. При этом возможно изменение природы поверхностного слоя вследствие окисления и повышения чистоты порошков за счет улетучивания примесей. Ультрадисперсные частицы (л Ю нм) сверхпроводников для создания КЭП могут быть получены плазмохимическими реакциями [115] [c.67]

Водородная энергетика интенсивно развивается в последнее время. Перспективность ее зависит от того, как энергия используется для получения водорода в различных технологических процессах, т.е. от эффективности данного процесса. С этой точки зрения большой интерес представляет использование для этих целей неравновесной плазмы, т.е. плазмы, в которой энергия электрического поля передается сначала электронам слабоионизированной плазмы, затем нейтральным частицам, которые стимулируют определенные атомно-молекулярные превращения, что приводит к резкому увеличению скорости определенных химических реакций. В течение длительного времени неравновесные плазмохимические процессы исследовались в тлеющих разрядах пониженного давления. На этой основе были получены весьма существенные результаты при обработке низкотемпературной плазмой [c.205]

Энциклопедия по машиностроению XXL

Оборудование, материаловедение, механика и ...